X-ray method to study temperature-dependent stripe domains in MnAsGaAs (001)

Applied Physics Letters

Volumn 86, Issue 5, 2005, Pages 1-3

  Magalhaes Paniago R ^a,b,c,d,e   Coelho, L N ^a,b,c,d,e   Neves, B R A ^a,b,c,d,e   Westfahl, H ^b,c,d,e   Iikawa, F ^c,d,e   Daweritz, L ^d,e   Spezzani, C ^e   Sacchi, M ^e  

^a FEDERAL UNIVERSITY OF MINAS GERAIS   (Brazil)

^b LABORATÓRIO NACIONAL DE LUZ SÍNCROTRON   (Brazil)

^c UNIVERSITY OF CAMPINAS   (Brazil)

^d PAUL DRUDE INSTITUT FÜR FESTKÖRPERELEKTRONIK   (Germany)

^e UNIVERSITÉ PARIS SACLAY   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FERROMAGNETIC MATERIALS; PHASE TRANSITIONS; PHOTONS; SCATTERING; SEMICONDUCTING GALLIUM ARSENIDE; SURFACE TREATMENT; THERMAL EFFECTS; X RAY ANALYSIS;

DIFFUSE SCATTERING; MNAS FILMS; PHOTON ENERGY; TEMPERATURE RANGES;

MANGANESE COMPOUNDS;

EID: 18644363440     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1844599     Document Type: Article

References (19)

1. M. Tanaka, Semicond. Sci. Technol. 17, 327 (2002).
2. M. Ramsteiner, R. H. Hao, A. Kawaharazuka, H. J. Zhu, M. Kästner, R. Hey, L. Däweritz, H. R. Grahn, and K. H. Ploog, Phys. Rev. B 66, 081304 (R) (2002).
3. C. Guillard, J. Phys. Radium 12, 223 (1951).
4. B. T. M. Willis and H. P. Rooksby, Proc. Phys. Soc., London, Sect. A 67, 290 (1954).
5. N. Menyuk, J. A. Kafala, K. Dwinght, and J. B. Goodenough, Phys. Rev. 177, 942 (1969).
6. M. Tanaka, J. P. Harbison, T. Sands, T. L. Cheeks, V. G. Keramides, and G. M. Rothberg, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 1091 (1994).
7. M. Tanaka, J. P. Harbison, M. C. Park, Y. S. Park, T. Shin, and G. M. Rothberg, Appl. Phys. Lett. 65, 1964 (1994).
8. F. Schippan, A. Trampert, L. Däweritz, and K. H. Ploog, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 1716 (1999).
9. V. M. Kaganer, B. Jenichen, F. Schippan, W. Braun, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Phys. Rev. Lett. 85, 341 (2000).
10. V. M. Kaganer, B. Jenichen, F. Schippan, W. Braun, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Phys. Rev. B 66, 045305 (2002).
11. M. Kästner, C. Herman, L. Däweritz, and K. H. Ploog, J. Appl. Phys. 92, 5711 (2002).
12. T. Plake, M. Ramsteiner, V. M. Kaganer, B. Jenichen, M. Kästner, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 80, 2523 (2002).
13. F. Schippan, G. Behme, L. Däweritz, K. H. Ploog, B. Dennis, K.-U. Neumann, and K. R. A. Ziebeck, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1287607 88, 2766 (2000); T. Plake, T. Hesjedal, J. Mohanty, M. Kästner, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1564642 82, 2308 (2003); R. Engel-Herbert, J. Mohanty, A. Ney, T. Hesjedal, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 84, 1133 (2004).
14. F. Schippan, G. Behme, L. Däweritz, K. H. Ploog, B. Dennis, K.-U. Neumann, and K. R. A. Ziebeck, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1287607 88, 2766 (2000); T. Plake, T. Hesjedal, J. Mohanty, M. Kästner, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1564642 82, 2308 (2003); R. Engel-Herbert, J. Mohanty, A. Ney, T. Hesjedal, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 84, 1133 (2004).
15. F. Schippan, G. Behme, L. Däweritz, K. H. Ploog, B. Dennis, K.-U. Neumann, and K. R. A. Ziebeck, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.1287607 88, 2766 (2000); T. Plake, T. Hesjedal, J. Mohanty, M. Kästner, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1564642 82, 2308 (2003); R. Engel-Herbert, J. Mohanty, A. Ney, T. Hesjedal, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 84, 1133 (2004).
16. E. Bauer, S. Cherifi, L. Däweritz, M. Kästner, S. Heun, and A. Locatelli, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2539 (2002).
17. M. Sacchi, C. Spezzani, P. Torelli, A. Avila, R. Delaunay, and C. F. Hague, Rev. Sci. Instrum. 74, 2791 (2003).
18. V. Holy, T. Roch, J. Stangl, A. Daniel, G. Bauer, T. H. Metzger, Y. H. Zhu, K. Brunner, and G. Abstreiter, Phys. Rev. B 63, 205318 (2001).
19. B. Jenichen, V. M. Kaganer, C. Herrmann, L. Wan, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Z. Kristallogr. 219, 201 (2004).