Epitaxial growth of ultra-thin NiO films on Cu(1 1 1)

Surface Science

Volumn 549, Issue 2, 2004, Pages 172-182

  Stanescu, S ^a,c   Boeglin, C ^a   Barbier, A ^b   Deville, J P ^a  

^a INSTITUT DE PHYSIQUE ET CHIMIE DES MATÉRIAUX DE STRASBOURG   (France)

^b CEA SACLAY   (France)

^c EUROPEAN SYNCHROTRON RADIATION FACILITY   (France)

Author keywords

Epitaxy; Low energy electron diffraction (LEED); Nickel oxides; Scanning tunneling microscopy; Surface structure, morphology, roughness, and topography

Indexed keywords

ATOMIC LAYERS; OMICRON EVAPORATORS;

LOW ENERGY ELECTRON DIFFRACTION; MOLECULAR BEAM EPITAXY; MORPHOLOGY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SURFACE ROUGHNESS; SURFACE STRUCTURE; ULTRATHIN FILMS;

NICKEL COMPOUNDS;

EID: 0348146422     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.susc.2003.11.039     Document Type: Article

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