Temperature Effect on Tungsten Etching Using a Cl2/O 2 Helicon Discharge

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 43, Issue 4 I, 2003, Pages 526-528

  Kim, Hyoun Woo ^a  

^a Inha University   (South Korea)

Author keywords

Etching; Metal gate; Temperature; Tungsten

Indexed keywords

EID: 0242381935     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (11)

1. J. H. Sone, S. O. Kim, K. J. Kim, H. S. Kim and H. J. Kim, Thin Solid Films 253, 377 (1994).
2. K. Kim, Microelectronic Reliability 40, 191 (2000).
3. T. Yamada, M. Moriwaki, Y. Harada, S. Fujii and K. Eriguchi, Microelectronics Reliability 41, 697 (2001).
4. M. Wittmer and H. Melchior, Thin Solid Films 93, 397 (1982).
5. K. Roh, S. Yang, B. Hong, Y. Roh, J. Kim and D. Jung, J. Korean Phys. Soc. 40, 103 (2002).
6. J. S. Lee, J. W. Kim, J. H. Shin, S. B. Bae, Y. H. Lee, J. H. Lee, C. S. Kim, J. E. Oh and M. W. Shin, J. Korean Phys. Soc. 39, S181 (2001).
7. M. Yoon, S. C. Kim, H. J. Lee and J. K. Lee, J. Korean Phys. Soc. 32, L635 (1998).
8. B. H. Park and N. S. Yoon, J. Korean Phys. Soc. 42, S856 (2003).
9. G. Sadakuni, A. Kojima, H. Sakaue and Y. Horiike, Appl. Surf. Sci. 79-80, 495 (1994).
10. W. J. Lee, H. S. Kim, G. Y. Yeom and J. T. Baek, Thin Solid Films 341, 184 (1999).
11. T. Tsukada, H. Nogami, Y. Nakagawa, E. Wani, K. Mashimo, H. Sato and S. Samukawa, Thin Solid Films 341, 84 (1999).