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Volumn 88, Issue 4, 2000, Pages 1978-1982

Influence of technological parameters on the behavior of the hole effective mass in SiGe structures

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EID: 0042348620     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1304839     Document Type: Article
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References (24)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.