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Volumn 75, Issue 1, 1999, Pages 91-93

Amorphization of single-crystalline silicon by thermal-energy atomic hydrogen

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EID: 0040668768     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.124286     Document Type: Article
Times cited : (6)

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    • note
    • s range below 500 K (see Fig. 2).


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.