Charge injection and lateral conductivity in monolayers of metallic nanoparticles

Chemical Communications

Volumn 3, Issue 13, 2003, Pages 1570-1571

  Liljeroth, Peter ^a   Quinn, Bernadette M ^a   Ruiz, Virginia ^a   Kontturi, Kyösti ^a  

^a AALTO UNIVERSITY   (Finland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

NANOPARTICLE;

ARTICLE; ELECTROCHEMISTRY; MONITORING; MONOLAYER CULTURE; OXIDATION REDUCTION REACTION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; THERMAL CONDUCTIVITY;

EID: 0038141897     PISSN: 13597345     EISSN: 1364548X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/b302958a     Document Type: Article

References (29)

1. A. C. Templeton, W. P. Wuelfing, R. W. Murray: Acc. Chem. Res. 2000 33: 27.
2. G. Markovich, C. P. Collier, S. E. Henrichs, F. Remacle, R. D. Levine, J. R. Heath: Acc. Chem. Res. 1999 32: 415.
3. S. Chen, R. S. Ingram, M. J. Hostetler, J. J. Pietron, R. W. Murray, T. G. Schaaff, J. T. Khoury, M. M. Alvarez, R. L. Whetten: Science 1998 280: 2098.
4. M. Brust, M. Walker, D. Bethell, D. J. Schiffrin, R. Whyman: J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1994: 801.
5. R. S. Ingram, M. J. Hostetler, R. W. Murray, T. G. Schaaff, J. Khoury, R. L. Whetten, T. P. Bigioni, D. K. Guthrie, P. N. First: J. Am. Chem. Soc. 1997 119: 9279.
6. S. Chen, R. W. Murray, S. W. Feldberg: J. Phys. Chem. B 1998 102: 9898.
7. J. F. Hicks, A. C. Templeton, S. Chen, K. M. Sheran, R. Jasti, R. W. Murray, J. Debord, T. G. Schaaff, R. L. Whetten: Anal. Chem. 1999 71: 3703.
8. B. M. Quinn, P. Liljeroth, K. Kontturi: J. Am. Chem. Soc. 2002 124: 12915.
9. W.-Y. Lee, M. J. Hostetler, R. W. Murray, M. Majda: Isr. J. Chem. 1997 37: 213.
10. D. I. Gittins, D. Bethell, R. J. Nichols, D. J. Schiffrin: Adv. Mater. 1999 11: 737.
11. S. Chen, R. W. Murray: J. Phys. Chem. B 1999 103: 9996.
12. S. Chen: J. Phys. Chem. B 2000 104: 663.
13. S. Chen: J. Am. Chem. Soc. 2000 122: 7420.
14. J. F. Hicks, F. P. Zamborini, A. J. Osisek, R. W. Murray: J. Am. Chem. Soc. 2001 123: 7048.
15. S. Chen: Langmuir 2001 17: 6664.
16. S. D. Jhaveri, D. A. Lowy, E. E. Foos, A. W. Snow, M. G. Ancona, L. M. Tneder: Chem. Commun. 2002: 1544.
17. M. Brust, D. Bethell, C. J. Kiely, D. J. Schiffrin: Langmuir 1998 14: 5425.
18. T. Baum, D. Bethell, M. Brust, D. J. Schiffrin: Langmuir 1999 15: 866.
19. W. P. Wuelfing, S. J. Green, J. J. Pietron, D. E. Cliffel, R. W. Murray: J. Am. Chem. Soc. 2000 122: 11465.
20. J. F. Hicks, Y. Seok-Shon, R. W. Murray: Langmuir 2002 18: 2288.
21. C. J. Slevin, P. R. Unwin: J. Am. Chem. Soc. 2000 122: 2597.
22. J. Zhang, P. R. Unwin: J. Am. Chem. Soc. 2002 124: 2379.
23. J. Zhang, C. J. Slevin, C. Morton, P. Scott, D. J. Walton, P. R. Unwin: J. Phys. Chem. B 2001 105: 11120.
24. D. Mandler, P. R. Unwin: J. Phys. Chem. B 2003 107: 407.
25. B. M. Quinn, I. Prieto, S. K. Haram, A. J. Bard: J. Phys. Chem. B 2001 105: 7474.
26. J. Zhang, R. M. Lahtinen, K. Kontturi, P. R. Unwin, D. J. Schiffrin: Chem. Commun. 2001: 1818.
27. H. Dahms: J. Phys. Chem. 1968 72: 362.
28. I. Ruff, L. Botár: J. Chem. Phys. 1985 83: 1292.
29. D. N. Blauch, J.-M. Savéant: J. Am. Chem. Soc. 1992 114: 3323.