Controlled growth of single-walled carbon nanotubes from an ordered mesoporous silica template

Nano Letters

Volumn 3, Issue 3, 2003, Pages 299-303

  Huang, Limin ^a   Wind, Shalom J ^b   O'Brien, Stephen P ^a  

^a Columbia University ^*  (United States)

^b IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON; SILICON DIOXIDE;

ARTICLE; CARBON DYNAMICS; CHANNEL GATING; CHEMICAL STRUCTURE; CONTROL SYSTEM; ELECTRONICS; FILM; GROWTH; METHODOLOGY; MOLECULAR SIZE; POROSITY; TEMPERATURE; THERMOSTABILITY; VAPORIZATION;

EID: 0037863296     PISSN: 15306984     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl025880p     Document Type: Article

References (23)

1. Dai, H. J. Surf. Sci. 2002, 500, 218.
2. Avouris, Ph. Acc. Chem. Res. 2002, 35, 1026.
3. Ouyang, M.; Huang, J. L.; Lieber, C. M. Acc. Chem. Res. 2002, 35, 1018.
4. Wind, S. J.; Appenzeller, J.; Martel, R.; Derycke, V.; Avouris, Ph. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3817.
5. Zheng, F.; Liang, L.; Gao, Y. F.; Sukamto, J. H.; Aardahl, C. L. Nano Lett. 2002, 2, 729.
6. Zheng, G. F.; Zhu, H. G.; Luo, Q.; Zhou, Y. M.; Zhao, D. Y. Chem. Mater. 2001, 13, 2240.
7. Li, W. Z.; Xie, S. S.; Qian, L. X.; Chang, B. H.; Zou, B. S.; Zhou, W. Y.; Zhao, R. A.; Wang, G. Science 1996, 274, 1701.
8. Li, J.; Papadopoulos, C.; Xu, J. M.; Moskovits, M. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 367.
9. Cassell, A. M.; Verma, S.; Delzeit, L.; Meyyappan, M.; Han, J. Langmuir 2001, 17, 260.
10. Zhu, H. W.; Xu, C. L.; Wu, D. H.; Wei, B. Q.; Vajtai, R.; Ajayan, P. M. Science 2002, 296, 884.
11. Cassell, A. M.; Franklin, N. R.; Tombler, T. W.; Chan, E. M.; Han, J.; Dai, H. J. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 7975.
12. Joselevich, E.; Lieber, C. M. Nano Lett. 2002, 2, 1137.
13. Zhang, Y. G.; Chang, A. L.; Cao, J.; Wang, Q.; Kim, W.; Li, Y. M.; Morris, N.; Yenilmez, E.; Kong, J.; Dai, H. J. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 3155.
14. Harutyunyan, A. R.; Pradhan, B. K.; Kim, U. J.; Chen, G. G.; Eklund, P. C. Nano Lett. 2002, 2, 525.
15. Li, Y. M.; Kim, W.; Zhang, Y. G.; Rolandi, M.; Wang, D. W.; Dai, H. J. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 11424.
16. Cheung, C. L.; Kurtz, A.; Park, H.; Lieber, C. M. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 2429.
17. Li, Y.; Liu, J.; Wang, Y. Q.; Wang, Z. L. Chem. Mater. 2001, 13, 1008.
18. Alberius, P. C. A.; Frindell, K. L.; Hayward, R. C.; Kramer, E. J.; Stucky, G. D.; Chmelka, B. F. Chem. Mater. 2002, 14, 3284.
19. Zhao, D. Y.; Yang, P. D.; Melosh, N.; Feng, J. L.; Chmelka, B. F.; Stucky, G. D. Adv. Mater. 1998, 10, 1380.
20. Yang, P. D.; Deng, T.; Zhao, D. Y.; Feng, P. Y.; Pine, D.; Chmelka, B. F.; Whitesides, G. M.; Stucky, G. D. Science 1998, 282, 2244.
21. Wind, S. J.; Martel, R.; Avouris, Ph. J. Vac Sci. Technol. B 2002, 20, 2745.
22. Andriotis, A. N.; Menon, M.; Srivastava, D.; Chernozatonskii, L. Phys. Rev. B 2002, 65, 165416.
23. Li, J.; Papadopoulos, C.; Xu, J. Nature 1999, 402, 253.