Inverted top-emitting organic light-emitting diodes using sputter-deposited anodes

Applied Physics Letters

Volumn 82, Issue 2, 2003, Pages 284-286

  Dobbertin, T ^a   Kroeger, M ^a   Heithecker, D ^a   Schneider, D ^a   Metzdorf, D ^a   Neuner, H ^a   Becker, E ^a   Johannes, H H ^a   Kowalsky, W ^a  

^a TECHNICAL UNIVERSITY OF BRAUNSCHWEIG   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANODES; FIELD EFFECT TRANSISTORS; LIGHT ABSORPTION; MAGNETRON SPUTTERING; SPUTTER DEPOSITION; TIN COMPOUNDS;

ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODES (OLED);

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 0037434202     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1535743     Document Type: Article

References (27)

1. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
2. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, J. Appl. Phys. 65, 3610 (1989).
3. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997).
4. P. Servati, S. Prakash, A. Nathan, and C. Py, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1374 (2002).
5. Y. He, R. Hattori, and J. Kanicki, IEEE Trans. Electron Devices 48, 1322 (2001).
6. C. C. Wu, S. D. Theiss, G. Gu, M. H. Lu, J. C. Sturm, S. Wagner, and S. R. Forrest, IEEE Trans. Electron Devices 18, 609 (1997).
7. Y. He, R. Hattori, and J. Kanicki, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 1199 (2001).
8. M. Stewart, R. S. Howell, L. Pires, and M. K. Hatalis, IEEE Trans. Electron Devices 48, 845 (2001).
9. M. K. Hatalis, M. Stewart, C. Tang, and J. Burtis, Proc. SPIE 3057, 2767 (1997).
10. Z. Meng, H. Chen, C. Qiu, L. Wang, H. S. Kwok, and M. Wong, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet., 611 (2000).
11. M. Stewart, R. S. Howell, L. Pires, M. K. Hatalis, W. Howard, and O. Prache, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet., 871 (1998).
12. D. L. Mathine, H. S. Woo, W. He, T. W. Kim, B. Kippelen, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett. 76, 3849 (2000).
13. L. M. H. Heinrich, J. Müller, U. Hilleringmann, K. F. Goser, A. Holmes, D. H. Hwang, and R. Stern, IEEE Trans. Electron Devices 44, 1249 (2001).
14. G. Gu, V. Bulovic, P. E. Burrows, S. R. Forrest, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 68, 2606 (1996).
15. P. E. Burrows, G. Gu, S. R. Forrest, E. P. Vicenzi, and T. X. Zhou, J. Appl. Phys. 87, 3080 (2000).
16. G. Parthasarathy, P. E. Burrows, V. Khalfin, V. G. Kozlov, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 72, 2138 (1998).
17. L. S. Hung and C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 74, 3209 (1999).
18. L. S. Hung, L. S. Liao, C. S. Lee, and S. T. Lee, J. Appl. Phys. 86, 4607 (1999).
19. G. Parthasarathy, C. Adachi, P. E. Burrows, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 76, 2128 (2000).
20. V. Bulovic, P. Tian, P. E. Burrows, M. R. Gokhale, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 70, 2954 (1997).
21. D. R. Baigent, R. N. Marks, N. C. Greenham, and R. H. Friend, Appl. Phys. Lett. 65, 2636 (1994).
22. X. Zhou, M. Pfeiffer, J. S. Huang, J. Blochwitz-Nimoth, D. S. Qin, A. Werner, J. Drechsel, B. Maenning, and K. Leo, Appl. Phys. Lett. 81, 922 (2002).
23. C. D. Dimitrakopoulos and P. R. L. Malenfant, Adv. Mater. 14, 99 (2002).
24. A. J. Salih, S. P. Lan, J. M. Marshall, J. M. Maud, W. R. Bowen, N. Hilal, R. W. Lovitt, and P. M. Williams, Appl. Phys. Lett. 69, 2231 (1996).
25. M. Halik, H. Klauk, U. Zschieschang, T. Kriem, G. Schmid, W. Radlik, and K. Wussow, Appl. Phys. Lett. 81, 289 (2002).
26. A. Böhler, P. Urbach, J. Schöbel, S. Dirr, H.-H. Johannes, S. Wiese, D. Ammermann, and W. Kowalsky, Physica E 2, 562 (1998).
27. R. V. Stuart, Vacuum Technology, Thin Films and Sputtering (Academic, New York, 1983).