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Volumn 41, Issue 6, 2002, Pages 1008-1012

Effects of a SiNx capping layer on the properties of GaN treated by rapid thermal annealing

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Cap; GaN; RTA

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EID: 0036946609     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
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References (11)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.