Enhanced etching of Si(1 0 0) by neutral oxygen cluster beam

Surface Science

Volumn 519, Issue 1-2, 2002, Pages 64-72

  Daineka, D V ^a   Pradere F ^a   Chatelet M ^a  

^a LABORATOIRE DE PHYSIQUE DES INTERFACES ET DES COUCHES MINCES   (France)

Author keywords

Clusters; Etching; Oxidation; Silicon; Surface chemical reaction

Indexed keywords

ETCHING; NUCLEATION; OXYGEN; SURFACE CHEMISTRY; THERMOOXIDATION;

SURFACE ORIENTATION;

SILICA;

EID: 0036838423     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0039-6028(02)02165-9     Document Type: Article

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