-
2
-
-
0000851857
-
-
apl APPLAB 0003-6951
-
E. Kapon, S. Simhony, R. Bhat, and D. M. Hwang, Appl. Phys. Lett. 55, 2715 (1989). apl APPLAB 0003-6951
-
(1989)
Appl. Phys. Lett.
, vol.55
, pp. 2715
-
-
Kapon, E.1
Simhony, S.2
Bhat, R.3
Hwang, D.M.4
-
3
-
-
11744274369
-
-
apl APPLAB 0003-6951
-
C. Deng, T. W. Sigmon, J. C. Wu, M. N. Wybourne, and J. Rack, Appl. Phys. Lett. 68, 3734 (1996). apl APPLAB 0003-6951
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 3734
-
-
Deng, C.1
Sigmon, T.W.2
Wu, J.C.3
Wybourne, M.N.4
Rack, J.5
-
4
-
-
0000255068
-
-
apl APPLAB 0003-6951
-
D.-X. Xu, J. P. McCaffrey, S. R. Das, G. C. Aers, and L. E. Erickson, Appl. Phys. Lett. 68, 3588 (1996). apl APPLAB 0003-6951
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 3588
-
-
Xu, D.-X.1
McCaffrey, J.P.2
Das, S.R.3
Aers, G.C.4
Erickson, L.E.5
-
6
-
-
0033074255
-
-
jaJAPIAU 0021-8979
-
G. Palasantzas, B. Ilge, J. De Nijs, and L. J. Geerligs, J. Appl. Phys. 85, 1907 (1999). jap JAPIAU 0021-8979
-
(1999)
J. Appl. Phys.
, vol.85
, pp. 1907
-
-
Palasantzas, G.1
Ilge, B.2
De Nijs, J.3
Geerligs, L.J.4
-
9
-
-
73149120048
-
-
mfc APAMFC 0947-8396
-
A. Mühlig, T. Günther, A. Bauer, K. Starke, B. L. Petersen, and G. Kaindl, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S1195 (1998). mfc APAMFC 0947-8396
-
(1998)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.66
, pp. 1195
-
-
Mühlig, A.1
Günther, T.2
Bauer, A.3
Starke, K.4
Petersen, B.L.5
Kaindl, G.6
-
10
-
-
0032621458
-
-
apl APPLAB 0003-6951
-
J. Viernow, D. Y. Petrovykh, F. K. Men, A. Kirakosian, J.-L. Lin, and F. J. Himpsel, Appl. Phys. Lett. 74, 2125 (1999). apl APPLAB 0003-6951
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.74
, pp. 2125
-
-
Viernow, J.1
Petrovykh, D.Y.2
Men, F.K.3
Kirakosian, A.4
Lin, J.-L.5
Himpsel, F.J.6
-
12
-
-
0032098012
-
-
jpd JPAPBE 0022-3727
-
C. Preinesberger, T. Kalka, S. Vandré, and M. Dähne-Prietsch, J. Phys. D 31, L43 (1998). jpd JPAPBE 0022-3727
-
(1998)
J. Phys. D
, vol.31
, pp. 43
-
-
Preinesberger, C.1
Kalka, T.2
Vandré, S.3
Dähne-Prietsch, M.4
-
14
-
-
0000500290
-
-
apl APPLAB 0003-6951
-
R. Adelung, L. Kipp, J. Brandt, L. Tarcak, C. Kreis, and M. Skibowski, Appl. Phys. Lett. 74, 3053 (1999). apl APPLAB 0003-6951
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.74
, pp. 3053
-
-
Adelung, R.1
Kipp, L.2
Brandt, J.3
Tarcak, L.4
Kreis, C.5
Skibowski, M.6
-
15
-
-
0001157744
-
-
apl APPLAB 0003-6951
-
Y. Chen, D. A. A. Ohlberg, G. Medeiros-Ribeiro, Y. A. Chang, and R. S. Williams, Appl. Phys. Lett. 76, 4004 (2000). apl APPLAB 0003-6951
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.76
, pp. 4004
-
-
Chen, Y.1
Ohlberg, D.A.A.2
Medeiros-Ribeiro, G.3
Chang, Y.A.4
Williams, R.S.5
-
16
-
-
0034909435
-
-
prb PRBMDO 0163-1829
-
J. Nogami, B. Z. Liu, M. V. Katkov, C. Ohbuchi, and N. O. Birge, Phys. Rev. B 63, 233305 (2001). prb PRBMDO 0163-1829
-
(2001)
Phys. Rev. B
, vol.63
, pp. 233305
-
-
Nogami, J.1
Liu, B.Z.2
Katkov, M.V.3
Ohbuchi, C.4
Birge, N.O.5
-
17
-
-
84855902665
-
-
ads FSTKA2 0430-3393
-
M. Dähne, S. Vandré, C. Preinesberger, S. K. Becker, W. Busse, and T. Kalka, Adv. Solid State Phys. 41, 227 (2001). ads FSTKA2 0430-3393
-
(2001)
Adv. Solid State Phys.
, vol.41
, pp. 227
-
-
Dähne, M.1
Vandré, S.2
Preinesberger, C.3
Becker, S.K.4
Busse, W.5
Kalka, T.6
-
18
-
-
0007339799
-
Silicide Thin Films-Fabrication, Properties, and Applications
-
Pittsburg
-
See, e.g., Silicide Thin Films-Fabrication, Properties, and Applications, R. T. Tung, K. Maex, P. W. Pellegrini, and L. H. Allen (eds.) (Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 402, Pittsburg, 1996).
-
(1996)
Mater. Res. Soc. Sym Proc.
, vol.402
-
-
Tung, R.T.1
Maex, K.2
Pellegrini, P.W.3
Allen, L.H.4
-
20
-
-
0000780737
-
-
S. Vandré, T. Kalka, C. Preinesberger, and M. Dähne-Prietsch, Phys. Rev. Lett. 82, 1927 (1999); prl PRLTAO 0031-9007
-
(1999)
Phys. Rev. Lett.
, vol.82
, pp. 1927
-
-
Vandré, S.1
Kalka, T.2
Preinesberger, C.3
Dähne-Prietsch, M.4
-
21
-
-
84861420694
-
-
prl PRLTAO 0031-9007
-
82, 4370 (1999). prl PRLTAO 0031-9007
-
(1999)
, vol.82
, pp. 4370
-
-
-
22
-
-
22644451507
-
-
jvb JVTBD9 0734-211X
-
S. Vandré, C. Preinesberger, T. Kalka, and M. Dähne-Prietsch, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 1682 (1999). jvb JVTBD9 0734-211X
-
(1999)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.17
, pp. 1682
-
-
Vandré, S.1
Preinesberger, C.2
Kalka, T.3
Dähne-Prietsch, M.4
-
23
-
-
0035794377
-
-
apl APPLAB 0003-6951
-
S. Vandré, C. Preinesberger, W. Busse, and M. Dähne, Appl. Phys. Lett. 78, 2012 (2001). apl APPLAB 0003-6951
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 2012
-
-
Vandré, S.1
Preinesberger, C.2
Busse, W.3
Dähne, M.4
-
24
-
-
0344347671
-
-
mfc APAMFC 0947-8396
-
T. Kalka, C. Preinesberger, S. Vandré, and M. Dähne-Prietsch, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S1073 (1998). mfc APAMFC 0947-8396
-
(1998)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.66
, pp. 1073
-
-
Kalka, T.1
Preinesberger, C.2
Vandré, S.3
Dähne-Prietsch, M.4
-
26
-
-
0000446991
-
-
prb PRBMDO 0163-1829
-
L. Magaud, A. Pasturel, G. Kresse, and J. Hafner, Phys. Rev. B 55, 13479 (1997). prb PRBMDO 0163-1829
-
(1997)
Phys. Rev. B
, vol.55
, pp. 13479
-
-
Magaud, L.1
Pasturel, A.2
Kresse, G.3
Hafner, J.4
|