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Volumn 392, Issue 2, 2001, Pages 174-183

Strategies for high rate reactive sputtering

Author keywords

Deposition process; Sputtering; Titanium oxide

Indexed keywords

ANODES; CERAMIC MATERIALS; CLOSED LOOP CONTROL SYSTEMS; PLASMAS; PROCESS CONTROL; STOICHIOMETRY; TITANIUM DIOXIDE;

EID: 0035974532     PISSN: 00406090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0040-6090(01)01024-0     Document Type: Conference Paper
Times cited : (11)

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    • Patent pending


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.