Ferroelectric SrBi4Ti4O15 thin films with high polarization grown on an IrO2 layer

Applied Physics Letters

Volumn 79, Issue 22, 2001, Pages 3672-3674

  Sohn, D S ^a   Xianyu, W X ^a   Lee, W I ^a   Lee, I ^b   Chung, I ^b  

^a Inha University   (South Korea)

^b Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035956160     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1421078     Document Type: Article

References (22)

1. C. A. Araujo, J. D. Cuchiaro, L. D. McMillan, M. C. Scott, and J. F. Scott, Nature (London) 374, 627 (1995).
2. E. C. Subbarao, J. Phys. Chem. Solids 23, 665 (1962).
3. Y. Kim, H. K. Chae, K. S. Lee, and W. I. Lee, J. Mater. Chem. 8, 2317 (1998).
4. K. Amanuma, T. Hase, and Y. Miyasaka, Appl. Phys. Lett. 66, 221 (1995).
5. T. J. Boyle, C. D. Buchheit, M. A. Rodriguez, H. N. Al-Shareef, B. A. Hernandez, B. Scott, and J. W. Ziller, J. Mater. Res. 11, 2274 (1996).
6. S. D. Bu, B. H. Park, B. S. Kang, S. H. Kang, T. W. Noh, and W. Jo, Appl. Phys. Lett. 75, 1155 (1999).
7. H. N. Al-Shareef, D. Dimos, T. J. Boyle, W. L. Warren, and B. A. Tuttle, Appl. Phys. Lett. 68, 690 (1996).
8. B. S. Kang, B. H. Park, S. D. Bu, S. H. Kang, and T. W. Noh, Appl. Phys. Lett. 75, 2644 (1999).
9. B. H. Park, B. S. Kang, S. D. Bu, T. W. Noh, J. Lee, and W. Jo, Nature (London) 401, 682 (1999).
10. P. C. Joshi and S. B. Krupanidhi, J. Appl. Phys. 72, 5827 (1992).
11. K. Tani, T. Yamanobe, H. Matsuhashi, and S. Nishikawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 1460 (1997).
12. T. Kijima, S. Satoh, H. Matsunaga, and M. Koba, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 1246 (1996).
13. T. Kijima, S. Satoh, H. Matsunaga, and M. Koba, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 1246 (1996).
14. G. A. Smolenskii, V. A. Isupov, and A. I. Agranovskaya, Sov. Phys. Solid State 3, 651 (1961).
15. M. V. Gelfuso, D. Thomazini, and J. A. Eiras, J. Am. Ceram. Soc. 82, 2368 (1999).
16. H. Irie and M. Miyayama, Appl. Phys. Lett. 79, 251 (2001).
17. H. Watanabe, T. Mihara, H. Yoshimori, and C. A. Araujo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 5240 (1995).
18. H. Oka, M. Hirose, T. Tsukada, Y. Watanabe, and T. Nomura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 5613 (2000).
19. M. Tachiki, K Yamamuro, and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 719 (1996).
20. T. Nakamura, Y. Nakao, Y. Kamisawa, and H. Takasu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 5207 (1994).
21. H. N. Al-Shareef, K. R. Bellur, A. I. Kingon, and O. Auciello, Appl. Phys. Lett. 66, 239 (1995).
22. C. S. Hwang, B. T. Lee, H.-J. Cho, K. H. Lee, C. S. Kang, H. Hideki, S. I. Lee, and M. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 71, 371 (1997).