Characterization of SrRuO3 thin film grown by laser ablation at temperatures above 400°

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 1, 2001, Pages 162-166

  Fang, Xiaodong ^a   Kobayashi, Takeshi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035397076     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1319323     Document Type: Article

References (26)

1. X. D. Wu, S. R. Foltyn, R. C. Dye, Y. Coulter, and R. E. Muenchausen, Appl. Phys. Lett. 62, 2434 (1993).
2. C. B. Eom et al., Appl. Phys. Lett. 63, 2570 (1993).
3. Q. X. Jia et al., J. Mater. Res. 11, 2263 (1996).
4. J. C. Jiang, X. Q. Pan, and C. L. Chen, Appl. Phys. Lett. 72, 909 (1998).
5. J. C. Jiang, W. Tian, X. Q. Pan, Q. Gan, and G. B. Eom, Appl. Phys. Lett. 72, 2963 (1998).
6. M. Izuha, K. Abe, M. Koike, S. Takeno, and N. Fukushima, Appl. Phys. Lett. 70, 1405 (1997).
7. C. L. Chen et al., Appl. Phys. Lett. 71, 1047 (1997).
8. C. B. Eom, R. A. Rao, Q. Gan, and D. B. Kacedon, J. Appl. Phys. 83, 6539 (1998).
9. Q. X. Jia, S. R. Foltyn, M. Hawley, and X. D. Wu, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1080 (1997).
10. M. Izuha, K. Abe, and N. Fukushima, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 5866 (1997).
11. C. H. Ahn et al., Appl. Phys. Lett. 70, 206 (1997).
12. S. Y. Hou, J. Kwo, R. K. Watts, J.-Y. Cheng, and D. K. Fork, Appl. Phys. Lett. 67, 1387 (1995).
13. K. Aoki, I. Murayama, Y. Fukuda, and A. Nishimura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L690 (1997).
14. Y.-K. Tseng, K.-S. Liu, J.-D. Jiang, and I.-N. Lin, Appl. Phys. Lett. 72, 3285 (1998).
15. N. Fukushima, K. Sano, T. Schimizu, K. Abe, and S. Komatsu, Appl. Phys. Lett. 73, 1200 (1998).
16. K.-S. Liu, T.-F. Tseng, and I.-N. Lin, Appl. Phys. Lett. 72, 1182 (1998).
17. B. H. Park, T. W. Noh, J. Lee, C. Y. Kim, and W. Jo, Appl. Phys. Lett. 70, 1101 (1997).
18. A. Grill, W. Kane, J. Viggiano, M. Brady, and T. Laibowitz, J. Mater. Res. 7, 3260 (1992).
19. M. Taga and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 1372 (1994).
20. J. O. Olowolafe, R. E. Jones, Jr., A. C. Campbell, R. I. Hegde, C. J. Mogab, and R. B. Gregory, J. Appl. Phys. 73, 1764 (1993).
21. M. Iwabuchi, K. Kinoshita, H. Ishibashi, and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 33, L610 (1994).
22. M. Tachiki, M. Noda, K. Yamada, and T. Kobayashi, J. Appl. Phys. 83, 5351 (1998).
23. X. Fang, M. Tachiki, and T. Kobayashi, J. Appl. Phys. 85, 2402 (1999).
24. X. Fang, M. Tachiki, and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L511 (1997).
25. T. Hirano, M. Ueda, K. Matsui, T. Fujii, K. Sakuda, and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 31, L1345 (1992).
26. D. Roy, C. J. Peng, and S. B. Krupanidhi, Appl. Phys. Lett. 60, 2478 (1992).