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Volumn 37, Issue 6, 2000, Pages 1062-1066

Optimization of the low-temperature MOCVD process for PZT thin films

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EID: 0034347708     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.37.1062     Document Type: Article
Times cited : (6)

References (11)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.