Photoablation with sub-10 fs laser pulses

Applied Surface Science

Volumn 154, Issue , 2000, Pages 11-16

  Lenzner, M ^a   Krausz, F ^a   Kruger J ^b   Kautek, W ^b  

^a VIENNA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Austria)

^b BAM FEDERAL INSTITUTE FOR MATERIALS RESEARCH AND TESTING   (Germany)

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CONTROLLABILITY; DIELECTRIC MATERIALS; LASER ABLATION; MICROMACHINING; PULSED LASER APPLICATIONS; TIME DOMAIN ANALYSIS; ULTRAFAST PHENOMENA;

PHOTOABLATION;

FUSED SILICA;

EID: 0033907378     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(99)00432-8     Document Type: Article

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