Polymerization of dual ion beam deposited CNx films with increasing N content

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 17, Issue 2, 1999, Pages 584-592

  Ng, Y M ^a   Ong, C W ^a   Zhao, X A ^a,b   Choy, C L ^a  

^a HONG KONG POLYTECHNIC UNIVERSITY   (Hong Kong)

^b SHANGHAI RESEARCH INSTITUTE OF MATERIALS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0033420605     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581622     Document Type: Article

References (36)

1. A. Y. Liu and M. L. Cohen, Science 245, 841 (1989).
2. D. Marton, K. J. Boyd, A. H. Al-Bayati, S. S. Todorov, and J. W. Rabalais, Phys. Rev. Lett. 73, 118 (1994).
3. D. Marton, A. H. Al-Bayati, S. S. Todorov, K. J. Boyd, and J. W. Rabalais, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 90, 277 (1994).
4. H. W. Song, F. Z. Cui, X. M. He, W. Z. Li, and H. D. Li, J. Phys.: Condens. Matter 6, 6125 (1994).
5. X.-A. Zhao, C. W. Ong, Y. C. Tsang, Y. W. Wong, P. W. Chan, and C. L. Choy, Appl. Phys. Lett. 66, 2652 (1995).
6. Z. M. Ren, Y. C. Du, Z. F. Ying, Y. X. Qui, X. X. Xiong, J. D. Wu, and F. M. Li, Appl. Phys. Lett. 65, 1361 (1994).
7. Z. M. Ren, Y. C. Du, Y. X. Qui, J. D. Wu, Z. F. Ying, X. X. Xiong, and F. M. Li, Phys. Rev. B 51, 5274 (1995).
8. C. Niu, Y. Z. Lu, and C. M. Lieber, Science 261, 334 (1993).
9. S. Kumar and T. L. Tansley, J. Appl. Phys. 76, 4390 (1994).
10. K. M. Yu, M. L. Cohen, E. E. Haller, W. L. Hansen, A. Y. Liu, and I. C. Wu, Phys. Rev. B 49, 5034 (1994).
11. N. Nakayama, Y. Tsuchiya, S. Tamada, K. Kosuge, S. Nagata, K. Takahiro, and S. Yamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L1465 (1993).
12. J. H. Kaufman, S. Metin, and D. D. Saperstein, Phys. Rev. B 39, 13053 (1989).
13. A. Bousetta, M. Lu, A. Bensaoula, and A. Schultz, Appl. Phys. Lett. 65, 696 (1994).
14. Z. J. Zhang, S. Fan, J. Huang, and C. M. Lieber, Appl. Phys. Lett. 68, 2639 (1996).
15. G. Wang, J. M. Silversten, J. H. Judy, and G. L. Chen, J. Appl. Phys. 79, 5782 (1996).
16. E. C. Cutiongco, D. Li, Y. W. Chung, and C. S. Bhatia, J. Tribol. 118, 543 (1996).
17. P. Hammer, M. A. Baker, C. Lenardi, and W. Gissler, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 107 (1997).
18. D. Li, E. Cutiongco, Y. W. Chung, M. S. Wong, and W. D. Sproul, Surf. Coat. Technol. 68/69, 611 (1994).
19. P. Hammer, M. A. Baker, C. Lenardi, and W. Gissler, Thin Solid Films 290/291, 107 (1996).
20. F. L. Freire, Jr., G. Mariotto, C. A. Achete, and D. F. Franceschini, Surf. Coat. Technol. 74/75, 382 (1995).
21. E. H. A. Dekempeneer, J. Meneve, J. Smeets, S. Kuypers, L. Eersels, and R. Jacobs, Surf. Coat. Technol. 68/69, 621 (1994).
22. F.-R. Weber and H. Oechsner, Surf. Coat. Technol. 74/75, 704 (1995).
23. W. C. Oliver and G. M. Pharr, J. Mater. Res. 7, 1564 (1992).
24. M. O. Watanabe, S. Itoh, K. Mizushima, and T. Sasaki, Appl. Phys. Lett. 68, 2962 (1996).
25. A. Mansour and D. Ugolini, Phys. Rev. B 47, 10201 (1993).
26. M. Barber, J. A. Connor, M. F. Guest, I. H. Hillier, M. Schwarz, and M. Stacey, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2 69, 551 (1973).
27. H. Sjöström, L. Hultman, J.-E. Sundgren, S. V. Hainsworth, T. F. Page, and G. S. A. M. Theunissen, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 56 (1996).
28. B. J. Lindberg and J. Hedman, Chem. Scr. 7, 155 (1975).
29. J. V. Salyn, E. K. Zumadilov, V. I. Nefedov, R. Scheibe, G. Leonhardt, L. Beyer, and E. Hoyer, Z. Anorg. Allg. Chem. 432, A275 (1977).
30. K. R. Lee, K. Y. Eun, and J. S. Rhee, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 356, 233 (1995).
31. P. Wood, T. Wydeven, and O. Tsuji, Thin Solid Films 258, 151 (1995).
32. J. J. Cuomo, P. A. Leary, D. Yu, W. Reuter, and M. Frisch, J. Vac. Sci. Technol. 16, 299 (1979).
33. B. K. Gupta and B. Bhushan, Wear 190, 110 (1995).
34. J. Schwan, W. Dwoeschak, K. Jung, and H. Ehrhardt, Diamond Relat. Mater. 3, 1034 (1994).
35. N. Savvides, J. Appl. Phys. 58, 518 (1985).
36. C. W. Ong, X.-A. Zhao, J. T. Cheung, S. K. Lam, Y. Liu, C. L. Choy, and P. W. Chan, Thin Solid Films 258, 34 (1994).