Galvanostatic study of the electrodeposition of polypyrrole into porous silicon

Thin Solid Films

Volumn 348, Issue 1, 1999, Pages 152-156

  Moreno, J D ^a   Marcos, M L ^a   Agullo Rueda F ^b   Guerrero Lemus, R ^a   Martin Palma R J ^a   Martinez Duart J M ^a   Gonzalez Velasco J ^a  

^a UNIVERSIDAD AUTÓNOMA DE MADRID   (Spain)

^b INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURRENT DENSITY; ELECTRIC CONDUCTIVITY; ELECTRODEPOSITION; ELECTROPOLYMERIZATION; POROUS SILICON; RAMAN SPECTROSCOPY; SURFACES;

DEGREE OF FILLING; GALVANOSTATIC STUDY; MICRO RAMAN SPECTROSCOPY;

POLYPYRROLES;

EID: 0032625606     PISSN: 00406090     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0040-6090(99)00056-5     Document Type: Article

References (23)

1. Canham L.T. Appl. Phys. Lett. 57:1990;1046.
2. Koshida N., Koyama H. Appl. Phys. Lett. 60:1992;347.
3. Wang J., Zhang F.L., Wang W.C., Zheng J.B., Hou X.Y., Wang X. J. Appl. Phys. 75:1994;1070.
4. Moreno J.D., Guerrero-Lemus R., Martínez-Duart J.M., Marcos M.L., González-Velasco J. J. Electroanal. Chem. 437:1997;135.
5. Moreno J.D., Guerrero-Lemus R., Martínez-Duart J.M., Marcos M.L., González-Velasco J. Adv. Mater. 10:1998;38.
6. Sabet-Dariani R., McAlpine N.S., Haneman D. J. Appl. Phys. 75:1994;8008.
7. Lehmann V., Gösele V. Appl. Phys. Lett. 58:1991;856.
8. Futagi T., Matsumoto T., Katsuno M., Ohta Y., Mimura H., Kitamura K. Jpn. J. Appl. Phys. 31:1992;L619.
9. Namavar F., Maruska H.P., Kalkhoran N.M. Appl. Phys. Lett. 60:1992;2514.
10. Kozlowsky F., Steiner P., Lang W. NATO ASI Series. 244:1993;123.
11. Ozaki T., Araki M., Yoshimura S., Koyama H., Koshida N. J. Appl. Phys. 76:1994;1986.
12. Parkhutik V.P., Calleja R.D., Matveeva E.S., Martínez-Duart J.M. Synth. Met. 67:1994;111.
13. Matveeva E.S., Parkhutik V.P., Calleja R.D., Martínez-Duart J.M. J. Lumines. 57:1993;175.
14. Bsiesy A., Nicolau Y.F., Ermolieff A., Muller F., Gaspard F. Thin Solid Films. 255:1995;43.
15. Tsu R., Shen H., Dutta M. Appl. Phys. Lett. 60:1992;112.
16. Guerrero-Lemus R., Moreno J.D., Martínez-Duart J.M., Corral J.L. Rev. Sci. Instrum. 67:1996;3627.
17. Guerrero-Lemus R., Moreno J.D., Martínez-Duart J.M., Marcos M.L., González-Velasco J., Gómez P. J. Appl. Phys. 79:1996;3224.
18. Moreno J.D., Agulló-Rueda F., Marcos M.L., Guerrero-Lemus R., González-Velasco J., Montoya E., Martínez-Duart J.M. Appl. Phys. Lett. 71:1997;2166.
19. Schultze J.W., Jung K.G. Electrochim. Acta. 40:1995;1369.
20. Vigmond S.J., Ghaemmaghami V., Thompson M. Can. J. Chem. 73:1995;1711.
21. Rodríguez I., González-Velasco J. J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1990;387.
22. Cullis A.G., Canham L.T., Calcott P.P.J. J. Appl. Phys. 82:1997;909.
23. Brumhead D., Canham L.T., Jeekins D.M., Tufton P.J. Electchim. Acta. 38:1993;191.