메뉴 건너뛰기




Volumn 40, Issue 3, 1997, Pages 148-151

Relationship between hydrogen diffusion behavior and outgassing rate of extreme high vacuum materials

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords


EID: 0009353417     PISSN: 05598516     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3131/jvsj.40.148     Document Type: Article
Times cited : (2)

References (31)
  • 3
    • 85033321252 scopus 로고    scopus 로고
    • Japanese source
  • 7
    • 85033285880 scopus 로고    scopus 로고
    • Japanese source
  • 8
    • 85033298329 scopus 로고    scopus 로고
    • Japanese source
  • 13
    • 85033321456 scopus 로고    scopus 로고
    • Japanese source
  • 14
  • 15
    • 0030173640 scopus 로고    scopus 로고
    • Y. Hirohata et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 2637. Y. Nagai et al: Vacuum 47 (1996) 737.
    • (1996) Vacuum , vol.47 , pp. 737
    • Nagai, Y.1
  • 16
    • 5744245054 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1977) Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. , vol.14 , pp. 1210
    • Marin, P.1
  • 17
    • 5744222914 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1970) Vacuum , vol.20 , pp. 295
    • Samuel, R.L.1
  • 18
    • 0027591165 scopus 로고    scopus 로고
    • 93
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • Vacuum , vol.44 , pp. 647
    • Bennet, J.R.J.1    Elsey2
  • 19
    • 5544310016 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1974) Electron Fisc. Apli. , vol.17 , pp. 235
    • Dobrozemsky, R.1    Moraw, G.2
  • 20
    • 0014509471 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1969) J. Vac. Sci. Technol. , vol.6 , pp. 398
    • Young, J.R.1
  • 21
    • 0017733801 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1977) Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. , pp. 223
    • Messer, G.1    Treitz, N.2
  • 22
    • 0010974414 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1987) J. Vac. Sci. Technol. , vol.A5 , pp. 2902
    • Odaka, K.1
  • 23
    • 0025595931 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1990) Vacuum , vol.41 , pp. 1995
    • Ishikawa, Y.1    Odaka, K.2
  • 24
    • 21844509271 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1995) J. Vac. Sci.Technol. , vol.A13 , pp. 520
    • Odaka, K.1    Ueda, S.2
  • 25
    • 0029229879 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1995) J. Vac. Sci. Technol. , vol.A13 , pp. 140
    • Watanabe, F.1
  • 26
    • 0018441550 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1979) J. Vac. Sci. Technol. , vol.16 , pp. 717
    • Halama, H.J.1
  • 27
    • 0030171874 scopus 로고    scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1996) Vacuum , vol.47 , pp. 749
    • Saito, K.1
  • 28
    • 84956037469 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1995) J. Vac. Sci. Technol. , vol.A13 , pp. 2587
    • Watanabe, F.1
  • 29
    • 21144472896 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1993) J. Vac. Sci. Technol. , vol.A11 , pp. 1708
    • Iguchi, H.1
  • 30
    • 0343443967 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1994) J. Vac. Sci. Technol. , vol.A12 , pp. 3186
    • Ohi, T.1    Konno, O.2
  • 31
    • 0016409770 scopus 로고
    • P. Marin et al: Virgo. R. Nuvolove: J. Vac. Sci. Technol. 14 (1977) 1210. R. L. Samuel: Vacuum 20 (1970) 295. J. R. J Bennet and Elsey: Vacuum 44 (93) 647. R. Dobrozemsky and G. Moraw: Electron Fisc. Apli. 17 (1974) 235. J. R. Young: J. Vac. Sci. Technol., 6 (1969) 398. G. Messer and N. Treitz: Proc. 7th. Intern. Vac. Congr. (1977) p223. K. Odaka et at: J. Vac. Sci. Technol. A5 (1987) 2902. Y. Ishikawa and K. Odaka: Vacuum 41 (1990) 1995. K. Odaka and S. Ueda: J. Vac. Sci.Technol. A13 (1995) 520. F. Watanabe et al: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 140. H. J. Halama: J. Vac. Sci. Technol. 16 (1979) 717. K. Saito et al: Vacuum, 47 (1996) 749. F. Watanabe: J. Vac. Sci. Technol. A13 (1995) 2587. H. Iguchi et al: J. Vac. Sci. Technol. A11 (1993) 1708. T. Ohi and O. Konno: J. Vac. Sci. Technol. A12 (1994) 3186. H. J. Halama and J. C. Herrera: J. Vac. Sci. Technol. 13 (1976) 463.
    • (1976) J. Vac. Sci. Technol. , vol.13 , pp. 463
    • Halama, H.J.1    Herrera, J.C.2


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.