Accurate thickness/density measurements of organic light-emitting diodes

Journal of Applied Physics

Volumn 84, Issue 7, 1998, Pages 4013-4016

  Maree C H M ^a   Weller, R A ^a,c   Feldman, L C ^a   Pakbaz, K ^b   Lee, H W H ^b  

^a VANDERBILT UNIVERSITY   (United States)

^b LAWRENCE LIVERMORE NATIONAL LABORATORY   (United States)

^c Dept of Elec and Comp Engineering ^*  (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0005242958     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368582     Document Type: Article

References (32)

1. C. W. Tang and S. A. Van Slyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
2. C. W. Tang, S. A. Van Slyke, and C. H. Chen, J. Appl. Phys. 65, 3610 (1989).
3. T. Mori, K. Obata, K. Imaizumi, and T. Mizutani, Appl. Phys. Lett. 69, 3309 (1996).
4. G. Gustafsson, Y. Cao, G. M. Treacy, F. Klavetter, N. Colaneri, and A. J. Heeger, Nature (London) 357, 477 (1992).
5. P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, L. S. Sapochak, D. M. McCarty, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 65, 2922 (1994).
6. J. C. Scott, J. H. Kaufman, P. J. Brock, R. Dipietro, J. Salem, and J. A. Goitia, J. Appl. Phys. 79, 2745 (1996).
7. Y. Z. Wang, D. D. Gebler, L. B. Lin, J. W. Blatchford, and S. W. Jessen, Appl. Phys. Lett. 68, 894 (1996).
8. C. Adachi, T. Tsutsui, and S. Saito, Appl. Phys. Lett. 56, 799 (1990).
9. R. H. Jordan, A. Dodabalapur, M. Strukelj, and T. M. Miller, Appl. Phys. Lett. 68, 1192 (1996).
10. J. H. Burroughes, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, N. MacKey, R. H. Friend, P. K. Burns, and A. B. Holmes, Nature (London) 341, 29 (1990).
11. P. E. Burrows and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 64, 2285 (1994).
12. P. E. Burrows, Z. Shen, V. Btilovic, D. M. McCarty, S. R. Forrest, J. A. Cronin, and M. E. Thompson, J. Appl. Phys. 79, 7991 (1996).
13. I. D. Parker, J. Appl. Phys. 75, 1656 (1994).
14. C. H. M. Marée, S. J. Roosendaal, T. J. Savenije, R. E. I. Schropp, T. J. Schaafsma, and F. H. P. M. Habraken, J. Appl. Phys. 80, 3381 (1996).
15. F. G. Celii, T. B. Harton, and O. Faye Phillips, J. Electron. Mater. 26, 366 (1997).
16. C.-S. Lu and O. Lewis, J. Appl. Phys. 43, 4385 (1972).
17. L. C. Feldman and J. W. Mayer, Fundamentals of Surface and Thin Film Analysis (North-Holland, New York, 1986).
18. W. H. Press, S. A. Tuekolksy, W. T. Vetterling, and B. P. Flanner, Numerical Recipes in C, 2nd ed. (Cambridge, New York, 1992), p. 681.
19. J. F. Ziegler, J. P. Biersack, and U. Littmark, The Stopping and Ranges of Ions in Matter (Pergamon, New York, 1985).
20. J. F. Ziegler and J. M. Manoyan, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 35, 215 (1988).
21. L. R. Doolittle, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 15, 227 (1986).
22. L. J. Matienzo, F. Emmi, D. C. Van Hart, and T. P. Gall, J. Vac. Sci. Technol. A 3, 1784 (1989).
23. D. Boutard, B. M. U. Scherzer, and W. Möller, J. Appl. Phys. 65, 3831 (1989).
24. R. I. Kaiser, J. Lauterwein, P. Müller, and Roessler, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 65, 463 (1992).
25. M. C. Wintersgill, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 1, 595 (1984).
26. L. Calcagno and G. Foti, Appl. Phys. Lett. 47, 363 (1985).
27. J. P. Bugeat and E. Ligeon, Nucl. Instrum. Methods 159, 117 (1979).
28. J. W. Lee, S. H. Lee, H. J. Yoo, M. S. Jhon, and R. Ryoo, J. Electrochem. Soc. 142, 3210 (1995).
29. C. H. M. Marée, A. M. Vredenberg, and F. H. P. M. Habraken, Mater. Chem. Phys. 46, 198 (1996).
30. M. E. Adel, O. Amir, R. Kalish, and L. C. Feldman, J. Appl. Phys. 66, 3248 (1989).
31. C. H. M. Marée, A. Kleinpenning, A. M. Vredenberg, and F. H. P. M. Habraken, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 118, 301 (1996).
32. H. Schmidbaur, J. Lettenbauer, D. L. Wilkinson, G. Müller, and O. Kumberger, Z. Naturforsch. B 46, 901 (1991).