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Volumn 73, Issue 13, 1998, Pages 1862-1864

Influence of HCl on the chemical vapor deposition and etching of Ge islands on Si(001)

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EID: 0001813113     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.122307     Document Type: Article
Times cited : (27)

References (11)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.