Interfacial reactions of Pd/Si0.76Ge0.24 by pulsed KrF laser annealing

Applied Physics Letters

Volumn 73, Issue 10, 1998, Pages 1355-1357

  Chen, Da Ren ^a   Luo, Jian Shing ^a   Lin, Wen Tai ^a   Chang, C Y ^b   Shih, P S ^b  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001535248     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.122161     Document Type: Article

References (19)

1. H. Presting, H. Kibbel, M. Jaros, R. M. Turton, U. Menczigar, G. Abstreiter, and H. G. Grimmeiss, Semicond. Sci. Technol. 1, 1127 (1992).
2. R. D. Thompson, K. N. Tu, J. Angillelo, S. Delage, and S. S. Iyer, J. Electrochem. Soc. 135, 3161 (1988).
3. J. S. Luo, W. T. Lin, C. Y. Chang, and W. C. Tsai, J. Appl. Phys. 82, 3621 (1997).
4. Q. Z. Hong and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 66, 611 (1989).
5. H. K. Liou, X. Wu, U. Gennser, V. P. Kesan, S. S. Iyer, K. N. Tu, and E. S. Yang, Appl. Phys. Lett. 60, 577 (1992).
6. A. Buxbaum, M. Eizenberg, A. Raizman, and F. Schaffler, Appl. Phys. Lett. 59, 665 (1991).
7. A. Buxbaum, E. Zolotoyabko, M. Eizenberg, and F. Schaffler, Thin Solid Films 222, 157 (1992).
8. O. Thomas, S. Delage, F. M. d'Heurle, and G. Scilla, Appl. Phys. Lett. 54, 228 (1989).
9. D. B. Aldrich, Y. L. Chen, D. E. Sayers, R. J. Nemanich, S. P. Ashburn, and M. C. Ozturk, J. Appl. Phys. 77, 5107 (1995).
10. D. B. Aldrich, H. L. Heck, Y. L. Chen, D. E. Sayers, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 78, 4958 (1995).
11. A. Eyal, R. Brener, R. Beserman, M. Eizenberg, Z. Atzmon, D. J. Smith, and J. W. Mayer, Appl. Phys. Lett. 69, 64 (1996).
12. J. S. Luo, W. T. Lin, C. Y. Chang, W. C. Tsai, and S. J. Wang, Mater. Chem. Phys. 48, 140 (1997).
13. F. Lin, G. Sarcona, M. K. Hatalis, A. F. Cserhati, E. Auetin, and D. W. Greve, Thin Solid Films 250, 20 (1994).
14. Z. Wang, Y. L. Chen, H. Ying, R. J. Nemanich, and D. E. Sayers, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 320, 397 (1994).
15. E. J. Jaquez, A. E. Bair, and T. L. Alford, Appl. Phys. Lett. 70, 874 (1997).
16. Cohesion in Metals: Transition Metal Alloys, edited by F. R. Deboer, R. Boom, W. C. Mattens, A. R. Miedema, and A. K. Niessen (North-Holland, Amsterdam, 1988).
17. J. W. Mayer and S. S. Lau, Electronic Materials Science: For Integrated Circuits in Si and GaAs (Macmillan, New York, 1990).
18. J. M. Poate, H. J. Leamy, T. T. Sheng, and G. K. Celler, Appl. Phys. Lett. 33, 918 (1978).
19. J. Brannon, Excimer Laser Ablation and Etching (American Vacuum Society, New York, 1993).