Pulsed KrF laser annealing of Ni/Si0.76Ge0.24 films

Journal of Applied Physics

Volumn 82, Issue 7, 1997, Pages 3621-3623

  Luo, Jian Shing ^a   Lin, Wen Tai ^a   Chang, C Y ^b   Tsai, W C ^b  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000970878     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.365683     Document Type: Article

References (26)

1. F. Y. Huang, X. Zhu, M. O. Tanner, and K. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 67, 566 (1995).
2. H. Presting, H. Kibbel, M. Jaros, R. M. Turton, U. Menczigar, G. Abstreiter, and H. G. Grimmeiss, Semicond. Sci. Technol. 1, 1127 (1992).
3. R. D. Thompson, K. N. Tu, J. Angillelo, S. Delage, and S. S. Iyer, J. Electrochem. Soc. 135, 3161 (1988).
4. Q. Z. Hong and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 66, 611 (1989).
5. H. K. Liou, X. Wu, U. Gennser, V. P. Kesan, S. S. Iyer, K. N. Tu, and E. S. Yang, Appl. Phys. Lett. 60, 577 (1992).
6. A. Buxbuam, M. Eizenberg, A, Raizman, and F. Schaffler, Appl. Phys. Lett. 59, 665 (1991).
7. O. Thomas, S. Delage, F. M. d'Heurle, and G. Scilla, Appl. Phys. Lett. 54, 228 (1989).
8. W. J. Qi, B. Z. Li, W. N. Huang, Z. G. Gu, H. Q. Lu, X. J. Zhang, M. Zhang, G. S. Dong, D. C. Miller, and R. G. Aitken, J. Appl. Phys. 77, 1086 (1995).
9. D. B. Aldrich, Y. L. Chen, D. E. Sayers, R. J. Nemanich, S. P. Ashburn, and M. C. Ozturk, J. Appl. Phys. 77, 5107 (1995).
10. D. B. Aldrich, H. L. Heck, Y. L. Chen, D. E. Sayers, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 78, 4958 (1995).
11. A. Eyal, R. Brener, R. Beserman, M. Eizenberg, Z. Atzmon, D. J. Smith, and J. W. Mayer, Appl. Phys. Lett. 69, 64 (1996).
12. W. Freiman, A. Eyal, Y. L. Khait, R. Beserman, and K. Dettmer, Appl. Phys. Lett. 69, 3821 (1996).
13. M. C. Ridgway, R. G. Elliman, N. Hauser, J. M. Baribeau, and T. E. Jackman, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 260, 857 (1992).
14. F. Lin, G. Sarcona, M. K. Hatalis, A. F. Cserhati, E. Austin, and D. W. Greve, Thin Solid Films 250, 20 (1994).
15. Z. Wang, Y. L. Chen, H. Ying, R. J. Nemanich, and D. E. Sayers, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 320, 397 (1994).
16. J. S. Luo, W. T. Lin, C. Y. Chang, W. C. Tsai, and S. J. Wang, Mater. Chem. Phys. 48, 140 (1997).
17. Cohesion in Metals: Transition Metal Alloys, edited by F. R. Deboer, R. Boom, W. C. Mattens, A. R. Miedema, and A. K. Niessen (North Holland, Amsterdam, 1988).
18. J. M. Poate, H. J. Leamy, T. T. Sheng, and G. K. Celler, Appl. Phys. Lett. 33, 918 (1978).
19. R. T. Tung, J. M. Gibson, D. C. Jacobson, and J. M. Poate, Appl. Phys. Lett. 43, 476 (1983).
20. M. G. Grimaldi, P. Baeri, E. Rimini, and G. Celotti, Appl. Phys. Lett. 43, 244 (1983).
21. C. Kaschner, A. Witzmann, K. Gartner, and G. Gotz, Phys. Status Solidi A 94, 787 (1986).
22. P. Baeri, M. G. Grimaldi, F. Priolo, A. G. Cullis, and N. G. Chew, J. Appl. Phys. 66, 861 (1989).
23. J. R. Abelson, T. W. Sigmon, K. B. Kim, and K. H. Weiner, Appl. Phys. Lett. 52, 230 (1988).
24. Z. Kantor, E. Fogarassy, A. Grob, J. J. Grob, D. Muller, B. Prevot, and R. Stuck, Appl. Phys. Lett. 69, 969 (1996).
25. J. Boulmer, P. Boucaud, C. Guedj, D. Debarre, D. Bouchier, E. Finkman, S. Prawer, K. Nugent, A. Desmur-Larre, C. Godet, and P. R. Cabarrocas, J. Cryst. Growth 157, 436 (1995).
26. F. Replinger, E. Fogarassy, A. Grob, J. J. Grob, D. Muller, B. Prevot, J. P. Stoquert, and S. D. Unamuno, Thin Solid Films 241, 155 (1994).