The effect of carbon on strain relaxation and phase formation in the Ti/Si1-x-yGexCy/Si contact system

Applied Physics Letters

Volumn 69, Issue 1, 1996, Pages 64-66

  Eyal, A ^a   Brener, R ^a   Beserman, R ^a   Eizenberg, M ^a   Atzmon, Z ^b   Smith, David J ^b   Mayer, J W ^b  

^a TECHNION ISRAEL INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Israel)

^b ARIZONA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0002981453     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.118120     Document Type: Article

References (21)

1. J. C. Bean, L. C. Feldman, A. T. Fiory, S. Nakahara, and I. K. Robinson, J. Vac. Sci. Technol. A 2, 436 (1984).
2. R. People, IEEE J. Quantum Electron. QE22, 1696 (1986).
3. A. R. Powell and S. S. Iyer, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 2388 (1994).
4. Z. Atzmon et al., Appl. Phys. Lett. 65, 2559 (1995).
5. K. Eberl, S. S. Iyer, S. Zollner, J. C. Tsang, and F. K. LeGoues, Appl. Phys. Lett. 60, 3033 (1992).
6. J. W. Strane, H. J. Stein, S. R. Lee, S. T. Picraux, J. K. Watanabe, and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 76, 3656 (1994).
7. R. A. Soref, J. Appl. Phys. 70, 2470 (1991).
8. A. A. Demkov and O. F. Sankey, Phys. Rev. B 48, 2207 (1993).
9. J. L. Regolini, S. Bodnar, J. C. Oberlin, F. Ferrieu, M. Gauneau, B. Lambert, and P. Bucaud, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1015 (1994).
10. O. Thomas, S. Delage, F. M. d'Heurle, and G. Scilla, Appl. Phys. Lett. 54, 228 (1989).
11. O. Thomas, F. M. d'Heurle, and S. Delage, J. Mater. Res. 5, 1453 (1990).
12. D. B. Aldrich, Y. L. Chen, D. E. Sayers, R. J. Nemanich, S. P. Ashburn, and M. C. Öztürk, J. Appl. Phys. 77, 5107 (1995).
13. D. B. Aldrich, H. L. Heck, Y. L. Chen, D. E. Sayers, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 78, 4956 (1995).
14. M. Lyaas, M. Beregovsky, I. Moskovitch, and M. Eizenberg, Silicide Thin Films - Fabrication, Properties, and Applications, edited by R. T. Tung, K. Maex, P. W. Pellegrini, and L. H. Allen (MRS, Pittsburgh, 1996), Vol. 402, p. 475.
15. W. J. Qi, B. Li, W. Huang, Z. Gu, H. Lu, X. Zhang, G. Dong, D. C. Miller, and R. G. Aitken, J. Appl. Phys. 77, 1086 (1995).
16. A. Buxbaum, M. Eizenberg, A. Raizman, and F. Schäffler, Jpn. J. Appl. Phys. 30, 3590 (1991).
17. A. Buxbaum, E. Zolotoyabco, M. Eizenberg, and F. Schäffler, Thin Solid Films 222, 157 (1992).
18. A. E. Bair, Z. Atzmon, S. W. Russel, T. L. Alford, J. W. Mayer, and J. C. Barbour, Phys. Rev. B 103, 339 (1995).
19. A. Eyal (unpublished).
20. F. Richter, E. Bugiel, H. B. Erzgräber, and D. Pankin, J. Appl. Phys. 72, 815 (1992).
21. E. Bugiel, S. Ruvimov, and H. J. Osten, Solid State Phen. 47-8, 595 (1996).