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Volumn 72, Issue 4, 1998, Pages 456-458

Hydrogen abstraction kinetics and crystallization in low temperature plasma deposition of silicon

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EID: 0001126367     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.120785     Document Type: Article
Times cited : (40)

References (17)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.