Hot electron emission lithography

Applied Physics Letters

Volumn 73, Issue 19, 1998, Pages 2835-2837

  Poppeller, M ^a   Cartier, E ^a   Tromp, R M ^a  

^a IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000970846     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.122606     Document Type: Article

References (22)

1. A. M. Hawryluk, N. M. Ceglio, and D. A. Markle, Solid State Technol. 40, 75 (1997).
2. A. M. Hawryluk, N. M. Ceglio, and D. A. Markle, Solid State Technol. 40, 151 (1997).
3. J. P. Silverman, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 2117 (1997).
4. L. R. Harriott, S. D. Berger, C. Biddick, M. I. Blakey, S. W. Bowler, K. Brady, R. M. Camarda, W. F. Connelly, A. Crorken, J. Custy, R. Dimarco, R. C. Farrow, J. A. Felker, L. Fetter, R. Freeman, L. Hopkins, H. A. Huggins, C. S. Knurek, J. S. Kraus, J. A. Liddle, M. Mkrtychan, A. E. Movembre, M. L. Peabody, R. G. Tarascon, H. H. Wade, W. K. Waskiewicz, G. P. Watson, K. S. Werder, and D. Windt, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3825 (1996).
5. A. Delong and V. Kolarik, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 1422 (1989).
6. R. Ward, J. Vac. Sci. Technol. 16, 1830 (1979).
7. B. Lischke, U.S. Patent 4601971.
8. G. R. Brandes, U.S. Patent 5395738.
9. T. W. O'Keeffe, J. Vine, and R. M. Handy, Solid-State Electron. 12, 841 (1969).
10. J. P. Scott, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1016 (1978).
11. W. R. Livesay, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1022 (1978).
12. G. F. Saville, P. M. Platzman, G. Brande, R. Ruel, and R. L. Willett, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2184 (1995).
13. M. Mankos, R. M. Tromp, M. C. Reuter, and E. Cartier, Phys. Rev. Lett. 76, 3200 (1996);
14. M. Poppeller, M. Mankos, E. Cartier, and R. M. Tromp (unpublished).
15. S. D. Brorson, D. J. DiMaria, M. V. Fischetti, F. L. Pesavento, P. M. Solomon, and D. W. Dong, J. Appl. Phys. 58, 1302 (1985).
16. D. J. DiMaria and J. H. Stathis, Appl. Phys. Lett. 71, 3230 (1997).
17. M. Poppeller, M. Mankos, H. Akatsu, E. Cartier, and R. M. Tromp (unpublished).
18. K. Yokoo, S. Sato, G. Koshita, I. Amano, J. Murota, and S. Ono, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 801 (1994).
19. J. Bernasconi, E. Cartier, and P. Pfluger, Phys. Rev. B 38, 12567 (1988).
20. Nippon Zeon Co. Ltd..
21. M. Naksuji, S. Suzuki, and H. Shimizu, Rev. Sci. Instrum. 64, 446 (1993).
22. G. F. Saville, P. M. Platzman, and L. P. Ku, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2424 (1995).