Microwave surface resistance of HgBa2CaCu2O6+δ thin films

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 12, 2000, Pages 1606-1608

  Aga, Roberto S ^a   Yan, Shao Lin ^a   Xie, Yiyuan ^a   Han, Siyuan ^a   Wu, Judy Z ^a   Quan Xi, Jia ^b   Kwon, Chuhee ^b  

^a UNIVERSITY OF KANSAS   (United States)

^b LOS ALAMOS NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000780868     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.126110     Document Type: Article

References (11)

1. J. Gallop, Semicond. Sci. Technol. 10, A120 (1997).
2. M. J. Lancaster, Passive Microwave Device Applications of HTS (Cambridge University Press, Cambridge, 1997), p. 315.
3. W. L. Holstein, L. A. Parisi, C. Wilker, and R. B. Flippen, Appl. Phys. Lett. 60, 2014 (1992).
4. S. H. Yun and J. Z. Wu, Appl. Phys. Lett. 68, 862 (1996).
5. S. H. Yun, J. Z. Wu, S. C. Tidrow, und D. W. Eckart, Appl. Phys. Lett. 68, 2565 (1996).
6. F. Foong, B. Bedard, Q. L. Xu, and S. H. Liou, Appl. Phys. Lett. 68, 1153 (1996).
7. C. C. Tsuei, A. Gupta, G. Trafas, and D. Mitzi, Science 263, 1259 (1994).
8. W. N. Kang, R. L. Meng, and C. W. Chu, Appl. Phys. Lett. 73, 381 (1998).
9. S. L. Yan, Y. Y. Xie, J. Z. Wu, T. Aytug, A. A. Gapud, B. W. Kang, L. Fang, M. He, S. C. Tidrow, K. W. Kirchner, J. R. Liu, and W. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 73, 2989 (1998).
10. J. Z. Wu, S. L. Van, and Y. Y. Xie, Appl. Phys. Lett. 74, 1469 (1999).
11. R. J. Ormeno, D. C. Morgan, D. M. Broun, S. F. Lee, and J. R. Waldram, Rev. Sci. Instrum. 68, 2121 (1997).