Stress effect on the kinetics of silicon thermal oxidation

Journal of Applied Physics

Volumn 89, Issue 5, 2001, Pages 3027-3032

  Yen, Jui Yuan ^a   Hwu, Jenn Gwo ^a  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000376377     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1342801     Document Type: Article

References (31)

1. S. M. Hu, J. Appl. Phys. 70, R53 (1991).
2. R. J. Jaccodine and W. A. Schlegel, J. Appl. Phys. 37, 2429 (1966).
3. E. P. EerNisse, Appl. Phys. Lett. 30, 290 (1977).
4. E. P. EerNisse, Appl. Phys. Lett. 35, 8 (1979).
5. T. Y. Tan and U. Gösele, Appl. Phys. Lett. 39, 86 (1981).
6. E. P. Jacobs and G. Dorda, Surf. Sci. 73, 357 (1978).
7. H. Matsumoto and M. Fukuma, IEEE Trans. Electron Devices ED-32, 132 (1985).
8. D. B. Kao, J. P. McVittie, W. D. Nix, and K. C. Saraswat, IEEE Trans. Electron Devices ED-34, 1008 (1987).
9. D. B. Kao, J. P. McVittie, W. D. Nix, and K. C. Saraswat, IEEE Trans. Electron Devices ED-35, 25 (1988).
10. P. Sutardia and W. G. Oldham, IEEE Trans. Electron Devices ED-36, 2415 (1989).
11. T. J. Delph, J. Appl. Phys. 83, 786 (1998).
12. A. Minhalyi, R. J. Jaccodine, and T. J. Delph, Appl. Phys. Lett. 74, 1981 (1999).
13. R. Deaton and H. Z. Massoud, J. Appl. Phys. 70, 3588 (1991).
14. J.-Y. Yen and J.-G. Hwu, Appl. Phys. Lett. 76, 1834 (2000).
15. B. E. Deal and A. S. Grove, J. Appl. Phys. 36, 3770 (1965).
16. R. B. Marcus and T. T. Sheng, J. Electrochem. Soc. 129, 1278 (1982).
17. E. A. Irene, D. W. Dong, and R. J. Zeto, J. Electrochem. Soc. 127, 396 (1980).
18. C. H. Hsueh and A. G. Evans, J. Appl. Phys. 54, 6672 (1983).
19. A. Fargeix, G. Ghibaudo, and G. Kamarinos, J. Appl. Phys. 54, 2878 (1983).
20. A. Fargeix and G. Ghibaudo, J. Appl. Phys. 54, 7153 (1983).
21. E. A. Irene, E. Tierney, and J. Angiello, J. Electrochem. Soc. 129, 2594 (1982).
22. A. Fargeix and G. Ghibaudo, J. Appl. Phys. 56, 589 (1984).
23. F. S. d'Aragona, J. Electrochem. Soc. 119, 948 (1972).
24. M. W. Jenkins, J. Electrochem. Soc. 124, 757 (1977).
25. D. G. Schimmel, J. Electrochem. Soc. 126, 479 (1979).
26. K. H. Yang, J. Electrochem. Soc. 131, 1140 (1984).
27. S. M. Sze, VLSI Technology, 2nd ed. (McGraw-Hill, New York, 1988).
28. Y.-L. Shen, J. Mater. Res. 12, 2219 (1997).
29. M. V. Whelan, A. H. Goemans, and L. M. C. Goossen, Appl. Phys. Lett. 10, 262 (1967).
30. G. Charitat and A. Martinez, J. Appl. Phys. 55, 909 (1984).
31. L. M. Mack and A. Reisman, J. Electrochem. Soc. 136, 3433 (1989).