Relaxation behavior of rovibrationally excited H2 in a rarefied expansion

Journal of Chemical Physics

Volumn 121, Issue 20, 2004, Pages 9876-9884

  Vankan, P ^a   Schram, D C ^a   Engeln, R ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DISSOCIATION; ENERGY TRANSFER; FLUORESCENCE; GROUND STATE; HIGH TEMPERATURE EFFECTS; HYDROGEN; IONIZATION; MOLECULAR DYNAMICS; ROTATION; THIN FILMS; ULTRAVIOLET RADIATION; VACUUM APPLICATIONS; VIBRATION CONTROL;

BOLTZMANN DISTRIBUTION; PLASMA EXPANSION; ROTATIONAL DISTRIBUTION; VIBRATIONAL DISTRIBUTIONS;

RELAXATION PROCESSES;

EID: 9644263321     PISSN: 00219606     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1807819     Document Type: Article

References (41)

1. G. Danby, D. R. Flower, and T. S. Monteiro, Mon. Not. R. Astron. Soc. 226, 739 (1987).
2. L. Monchick and J. Scheafer, J. Chem. Phys. 73, 6153 (1980).
3. M. Cacciatore and G. D. Billing, J. Phys. Chem. 96, 217 (1992).
4. G. D. Billing and R. E. Kolesnick, Chem. Phys. Lett. 215, 571 (1993).
5. D. R. Flower, J. Phys. B 33, 5243 (2000).
6. V. A. Zenevich and G. D. Billing, J. Chem. Phys. 111, 2401 (1999).
7. D. R. Flower and E. Roueff, J. Phys. B 31, 2935 (1998).
8. Rates availabe electronically at ftp://ccp7.dur.ac.uk/ccp7/
9. J. H. Kiefer and R. W. Lutz, J. Chem. Phys. 44, 668 (1966).
10. M. M. Audibert, C. Joffrin, and J. Ducuing, Chem. Phys. Lett. 25, 158 (1974).
11. M. M. Audibert, R. Vilaseca, J. Lukasik, and J. Ducuing, Chem. Phys. Lett. 31, 232 (1975).
12. J. E. Dove and H. Teitelbaum, Chem. Phys. 6, 431 (1974).
13. T. G. Kreutz, J. Gelfand, R. B. Miles, and H. Rabitz, Chem. Phys. 124, 359 (1988).
14. H. Rabitz and S.-H. Lam, J. Chem. Phys. 63, 3532 (1975).
15. R. J. Gallagher and J. B. Fenn, J. Chem. Phys. 60, 3492 (1974).
16. W. Meier, G. Ahlers, and H. Zacharias, J. Chem. Phys. 85, 2599 (1986).
17. M. Péalat, J.-P. E. Taran, M. Bacal, and F. Hillion, J. Chem. Phys. 82, 4943 (1985).
18. M. Bacal, A. M. Bruneteau, W. G. Graham, G. W. Hamilton, and M. Nachman, J. Appl. Phys. 52, 1247 (1981).
19. J. R. Hiskes and A. M. Karo, J. Appl. Phys. 56, 1927 (1984).
20. W. G. Graham, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 281 (1995).
21. J. M. Wadhera, Phys. Rev. A 29, 106 (1984).
22. A. Peet Hickman, Phys. Rev. A 43, 3495 (1991).
23. G. C. Stutzin, A. T. Young, H. F. Döbele, A. S. Schlachter, K. Leung, and W. B. Kunkel, Rev. Sci. Instrum. 61, 619 (1990).
24. G. C. Stutzin, A. T. Young, A. S. Schlachter, K. Leung, and W. B. Kunkel, Chem. Phys. Lett. 155, 475 (1989).
25. T. Mosbach, H.-M. Katsch, and H. F. Döbele, Phys. Rev. Lett. 85, 3420 (2000).
26. K. Hassouni, A. Gicquel, M. Capitelli, and J. Loureiro, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 494 (1999).
27. M. Capitelli, R. Celiberto, F. Esposito, A. Laricchiuta, K. Hassouni, and S. Longo, Plasma Sources Sci. Technol. 11, A7 (2002).
28. P. S. Krstić, D. R. Schultz, and R. K. Janev, Phys. Scr., T T96, 61 (2002).
29. M. J. de Graaf, r. Severens, R. P. Dahiya, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Phys. Rev. E 48, 2098 (1993).
30. R. F. G. Meulenbroeks, R. A. H. Engeln, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Phys. Rev. E 53, 5207 (1996).
31. P. Vankan, S. B. S. Heil, S. Mazouffre, R. Engeln, D. C. Schram, and H. F. Döbele, Rev. Sci. Instrum. 75, 996 (2004).
32. J. H. M. Bonnie, P. Eenshuistra, and H. J. Hopman, Phys. Rev. A 37, 1121 (1988).
33. C. T. Rettner, H. A. Michelson, and D. J. Auerbach, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 1901 (1993).
34. G. D. Kubiak, G. O. Sitz, and R. N. Zare, J. Chem. Phys. 83, 2538 (1985).
35. M. C. M. van de Sanden, J. M. de Regt, G. M. Janssen, J. A. M. van der Mullen, D. C. Schram, and B. van der Sijde, Rev. Sci. Instrum. 63, 3369 (1992).
36. R. I. Hall, I. Ĉadez̈, M. Landau, F. Pichou, and C. Schermann, Phys. Rev. Lett. 60, 337 (1988).
37. P. J. Eenshuistra, J. H. M. Bonnie, J. Los, and H. J. Hopman, Phys. Rev. Lett. 60, 341 (1988).
38. S. Mazouffre, P. Vankan, R. Engeln, and D. C. Schram, Phys. Plasmas 8, 3824 (2001).
39. S. Mazouffre, M. G. H. Boogaarts, J. A. M. van der Mullen, and D. C. Schram, Phys. Rev. Lett. 84, 2622 (2000).
40. H. F. Döbele, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 224 (1995).
41. P. H. Paul, J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transf. 57, 581 (1997).