Fabrication of flexible thermoelectric thin film devices by inkjet printing

Small

Volumn 10, Issue 17, 2014, Pages 3551-3554

  Lu, Ziyang ^a   Layani, Michael ^b   Zhao, Xiaoxu ^a   Tan, Li Ping ^a   Sun, Ting ^a   Fan, Shufen ^a   Yan, Qingyu ^a   Magdassi, Shlomo ^b   Hng, Huey Hoon ^a  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b HEBREW UNIVERSITY OF JERUSALEM   (Israel)

Author keywords

cooler; inkjet printing; thermoelectric; thin film device

Indexed keywords

THERMOELECTRIC THIN FILMS;

EID: 84906898075     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.201303126     Document Type: Review

References (23)

1. T. M. Tritt, Science 1999, 283, 804.
2. F. J. DiSalvo, Science 1999, 285, 703.
3. T. M. Tritt, M. A. Subramanian, MRS Bull. 2006, 31, 188.
4. G. S. Nolas, J. Poon, M. Kanatzidis, MRS Bull. 2006, 31, 199.
5. J. R. Sootsman, D. Y. Chung, M. G. Kanatzidis, Angew. Chem.Int. Edit. 2009, 48, 8616.
6. M. S. Dresselhaus, G. Chen, M. Y. Tang, R. G. Yang, H. Lee, D. Z. Wang, Z. F. Ren, J. P. Fleurial, P. Gogna, Adv. Mater. 2007, 19, 1043.
7. G. J. Snyder, E. S. Toberer, Nat. Mater. 2008, 7, 105.
8. I. Chowdhury, R. Prasher, K. Lofgreen, G. Chrysler, S. Narasimhan, R. Mahajan, D. Koester, R. Alley, R. Venkatasubramanian, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 235.
9. R. Venkatasubramanian, E. Siivola, T. Colpitts, B. O'Quinn, Nature 2001, 413, 597.
10. H. You, S. H. Bae, J. Kim, J. S. Kim, C. Park, J. Electron. Mater. 2011, 40, 635.
11. H. Z. Guo, S. F. Wang, L. Wang, K. J. Jin, S. S. Chen, G. S. Fu, C. Ge, H. B. Lu, C. Wang, M. He, G. Z. Yang, J. Appl. Phys. 2013, 113, 6.
12. Z. Aabdin, N. Peranio, M. Winkler, D. Bessas, J. Konig, R. P. Hermann, H. Bottner, O. Eibl, J. Electron. Mater. 2012, 41, 1493.
13. Y. Deng, Z. Zhang, Y. Wang, Y. Xu, J Nanopart Res 2012, 14, 1.
14. H. Yan, Z. Chen, Y. Zheng, C. Newman, J. R. Quinn, F. Dotz, M. Kastler, A. Facchetti, Nature 2009, 457, 679.
15. T. Wei, J. Ruan, Z. Fan, G. Luo, F. Wei, Carbon 2007, 45, 2712.
16. T. H. J. van Osch, J. Perelaer, A. W. M. de Laat, U. S. Schubert, Adv. Mater. 2008, 20, 343.
17. E. Tekin, H. Wijlaars, E. Holder, D. A. M. Egbe, U. S. Schubert, J. Mater. Chem. 2006, 16, 4294.
18. T. Aernouts, T. Aleksandrov, C. Girotto, J. Genoe, J. Poortmans, Appl. Phys. Lett. 2008, 92.
19. K. Crowley, E. O'Malley, A. Morrin, M. R. Smyth, A. J. Killard, Analyst 2008, 133, 391.
20. M. Layani, M. Grouchko, S. Shemesh, S. Magdassi, J. Mater. Chem. 2012, 22, 14349.
21. Z. Lu, L. Tan, X. Zhao, M. Layani, S. F. Fan, T. Sun, Q. Y. Yan, H. H. Hng, S. Magdassi, J. Mater. Chem. C 2013, 1, 6271.
22. Y. X. Zhao, J. S. Dyck, B. M. Hernandez, C. Burda, J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 4982.
23. R. G. Yang, G. Chen, G. J. Snyder, J. P. Fleurial, J. Appl. Phys. 2004, 95, 8226.