Effective solution- and vacuum-processed n-doping by dimers of benzimidazoline radicals

Advanced Materials

Volumn 26, Issue 25, 2014, Pages 4268-4272

  Naab, Benjamin D ^a   Zhang, Siyuan ^b   Vandewal, Koen ^a   Salleo, Alberto ^a   Barlow, Stephen ^b   Marder, Seth R ^b   Bao, Zhenan ^a  

^a Stanford University   (United States)

^b GEORGIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

molecular doping; n type; organic dopant; organic electronics; organic semiconductors

Indexed keywords

DIMERS; ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIALS;

EFFECTIVE SOLUTION; HOST MATERIALS; MOLECULAR DOPING; ORGANIC DOPANTS; ORGANIC ELECTRONICS; RADICAL DIMERS; ROOM-TEMPERATURE CONDUCTIVITY; VACUUM PROCESSING;

SEMICONDUCTOR DOPING;

EID: 84903702078     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201400668     Document Type: Article

References (27)

1. Y. Zhang, H. Zhou, J. Seifter, L. Ying, A. Mikhailovsky, A. J. Heeger, G. C. Bazan, T.-Q. Nguyen, Adv. Mater. 2013, 25, 7038.
2. B. D. Naab, S. Himmelberger, Y. Diao, K. Vandewal, P. Wei, B. Lussem, A. Salleo, Z. Bao, Adv. Mater. 2013, 25, 4663.
3. B. Lüssem, M. Riede, K. Leo, Phys. Status Solidi 2013, 210, 9.
4. G.-H. Kim, L. Shao, K. Zhang, K. P. Pipe, Nat. Mater. 2013, 12, 719.
5. W. Helfrich, W. G. Schneider, Phys. Rev. Lett. 1965, 14, 229.
6. J. Kido, T. Matsumoto, Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2866.
7. V.-E. Choong, M. G. Mason, C. W. Tang, Y. Gao, Phys. Teach. 1998, 72, 2689.
8. G. Parthasarathy, C. Shen, A. Kahn, S. R. Forrest, J. Appl. Phys. 2001, 89, 4986.
9. S. Guo, S. K. Mohapatra, A. Romanov, T. V. Timofeeva, K. I. Hardcastle, K. Yesudas, C. Risko, J.-L. Brédas, S. R. Marder, S. Barlow, Chem. a Eur. J. 2012, 18, 14760.
10. B. D. Naab, S. Guo, S. Olthof, E. G. B. Evans, P. Wei, G. L. Millhauser, A. Kahn, S. Barlow, S. R. Marder, Z. Bao, J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 15018.
11. A. Werner, F. Li, K. Harada, M. Pfeiffer, T. Fritz, K. Leo, S. Machill, Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 255.
12. F. Li, A. Werner, M. Pfeiffer, K. Leo, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 17076.
13. P. Wei, J. H. Oh, G. Dong, Z. Bao, J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 8852.
14. P. Wei, T. Menke, B. D. Naab, K. Leo, M. Riede, Z. Bao, J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 3999.
15. Y. Qi, S. K. Mohapatra, S. Bok Kim, S. Barlow, S. R. Marder, A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 083305.
16. S. Guo, S. B. Kim, S. K. Mohapatra, Y. Qi, T. Sajoto, A. Kahn, S. R. Marder, S. Barlow, Adv. Mater. 2012, 24, 699.
17. O. Zeika, M. Limmert, A. Grüssing, A. Lux, H. Hartmann, A. Werner, Eur. Pat. Appl. EP 1837927 A1 20070926, 2007.
18. M. Limmert, H. Hartmann, O. Zeika, A. Werner, M. Ammann, Eur. Pat. Appl. EP 1837926 A1 20070926, 2007.
19. M. Lehnhardt, S. Hamwi, M. Hoping, J. Reinker, T. Riedl, W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 193301.
20. W. B. Jackson, N. M. Amer, A. C. Boccara, D. Fournier, Appl. Opt. 1981, 20, 1333.
21. K. Akaike, K. Kanai, H. Yoshida, J. Tsutsumi, T. Nishi, N. Sato, Y. Ouchi, K. Seki, J. Appl. Phys. 2008, 104, 023710.
22. M. Kröger, S. Hamwi, J. Meyer, T. Riedl, W. Kowalsky, A. Kahn, Org. Electron. 2009, 10, 932.
23. N. Cho, H.-L. Yip, J. A. Davies, P. D. Kazarinoff, D. F. Zeigler, M. M. Durban, Y. Segawa, K. M. O'Malley, C. K. Luscombe, A. K.-Y. Jen, Adv. Energy Mater. 2011, 1, 1148.
24. R. A. Schlitz, F. G. Brunetti, A. M. Glaudell, P. L. Miller, M. A. Brady, C. J. Takacs, C. J. Hawker, M. L. Chabinyc, Adv. Mater. 2014, DOI: 10.1002/adma.201304866.
25. M. Lu, H. T. Nicolai, G.-J. A. H. Wetzelaer, P. W. M. Blom, Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 173302.
26. M. Sumino, K. Harada, M. Ikeda, S. Tanaka, K. Miyazaki, C. Adachi, Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 093308.
27. B. Maennig, D. Gebeyehu, P. Simon, F. Kozlowski, A. Werner, F. Li, S. Grundmann, S. Sonntag, M. Koch, K. Leo, M. Pfeiffer, H. Hoppe, D. Meissner, N. S. Sariciftci, I. Riedel, V. Dyakonov, J. Parisi, J. Drechsel, Appl. Phys. A Mater. Sci. Process. 2004, 79, 1.