Low-temperature combustion-synthesized nickel oxide thin films as hole-transport interlayers for solution-processed optoelectronic devices

Advanced Energy Materials

Volumn 4, Issue 6, 2014, Pages

  Bai, Sai ^a   Cao, Motao ^a   Jin, Yizheng ^a,b   Dai, Xinliang ^a   Liang, Xiaoyong ^a   Ye, Zhizhen ^a,b   Li, Min ^a   Cheng, Jipeng ^a   Xiao, Xuezhang ^a   Wu, Zhongwei ^c   Xia, Zhouhui ^c   Sun, Baoquan ^c   Wang, Ergang ^d   Mo, Yueqi ^e   Gao, Feng ^f   Zhang, Fengling ^f  

^a ZHEJIANG UNIVERSITY   (China)

^b ZHEJIANG UNIVERSITY   (China)

^c SOOCHOW UNIVERSITY   (China)

^d CHALMERS UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Sweden)

^e SOUTH CHINA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

^f LINKÖPING UNIVERSITY   (Sweden)

Author keywords

combustion; hole transport layers; optoelectronics; solution processed materials

Indexed keywords

COMBUSTION; DEPOSITION; ELECTRIC PROPERTIES; LIGHT EMITTING DIODES; OPTOELECTRONIC DEVICES; TEMPERATURE; THIN FILMS;

COMBUSTION REACTIONS; HIGH WORK FUNCTION; HOLE TRANSPORT LAYERS; LOW PROCESSING TEMPERATURE; NICKEL OXIDE THIN FILMS; OPTICAL TRANSPARENCY; POLYMER LIGHT-EMITTING DIODES; SOLUTION-PROCESSED;

NICKEL OXIDE;

EID: 84900476649     PISSN: 16146832     EISSN: 16146840     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/aenm.201301460     Document Type: Article

References (48)

1. D. Kabra, L. P. Lu, M. H. Song, H. J. Snaith, R. H. Friend, Adv. Mater. 2010, 22, 3194.
2. G. Yu, J. Gao, J. C. Hummelen, F. Wudl, A. J. Heeger, Science 1995, 270, 1789.
3. M. Granstrom, K. Petritsch, A. C. Arias, A. Lux, M. R. Andersson, R. H. Friend, Nature 1998, 395, 257.
4. G. Li, R. Zhu, Y. Yang, Nat. Photonics 2012, 6, 153.
5. C. Min, C. Shi, W. Zhang, T. Jiu, J. Chen, D. Ma, J. Fang, Angew. Chem. Int. Ed. 2013, 52, 3417.
6. H. Ma, H. L. Yip, F. Huang, A. K. Y. Jen, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 1371.
7. L. S. Hung, C. W. Tang, M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 152.
8. C. Tao, S. Ruan, X. Zhang, G. Xie, L. Shen, X. Kong, W. Dong, C. Liu, W. Chen, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 193307.
9. S. K. Hau, H. L. Yip, N. S. Baek, J. Zou, K. O'Malley, A. K. Y. Jen, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 253301.
10. G. Li, C. W. Chu, V. Shrotriya, J. Huang, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 253503.
11. Y. Zhou, C. Fuentes-Hernandez, J. Shim, J. Meyer, A. J. Giordano, H. Li, P. Winget, T. Papadopoulos, H. Cheun, J. Kim, M. Fenoll, A. Dindar, W. Haske, E. Najafabadi, T. M. Khan, H. Sojoudi, S. Barlow, S. Graham, J. L. Brédas, S. R. Marder, A. Kahn, B. Kippelen, Science 2012, 336, 327.
12. Z. Tang, L. M. Andersson, Z. George, K. Vandewal, K. Tvingstedt, P. Heriksson, R. Kroon, M. R. Andersson, O. Inganäs, Adv. Mater. 2012, 24, 554.
13. G. Williams, Q. Wang, H. Aziz, Adv. Funct. Mater. 2013, 23, 2239.
14. M. Jorgensen, K. Norrman, S. A. Gevorgyan, T. Tromholt, B. Andreasen, F. C. Krebs, Adv. Mater. 2012, 24, 580.
15. M. Jorgensen, K. Norrman, F. C. Krebs, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2008, 92, 686.
16. J. Meyer, S. Hamwi, M. Kröger, W. Kowalsky, T. Riedl, A. Kahn, Adv. Mater. 2012, 24, 5408.
17. S. Chen, J. R. Manders, S.-W. Tsang, F. So, J. Mater. Chem. 2012, 22, 24202.
18. V. Shrotriya, G. Li, Y. Yao, C.-W. Chu, Y. Yang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 073508.
19. J. You, C. C. Chen, L. Dou, S. Murase, H. S. Duan, S. A. Hawks, T. Xu, H. J. Son, L. Yu, G. Li, Y. Yang, Adv. Mater. 2012, 24, 5267.
20. Y. Sun, J. H. Seo, C. J. Takacs, J. Seifter, A. J. Heeger, Adv. Mater. 2011, 23, 1679.
21. F. A. Kröger, J. Phys. Chem. Solids 1968, 29, 1889.
22. S. Mrowec, Z. Grzesik, J. Phys. Chem. Solids 2004, 65, 1651.
23. M. D. Irwin, D. B. Buchholz, A. W. Hains, R. P. H. Chang, T. J. Marks, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2008, 105, 2783.
24. I. M. Chan, T. Y. Hsu, F. C. Hong, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1899.
25. J. M. Caruge, J. E. Halpert, V. Wood, V. Bulovic, M. G. Bawendi, Nat. Photonics 2008, 2, 247.
26. P. F. Ndione, A. Garcia, N. E. Widjonarko, A. K. Sigdel, K. X. Steirer, D. C. Olson, P. A. Parilla, D. S. Ginley, N. R. Armstong, R. E. Richards, E. L. Ratcliff, J. J. Berry, Adv. Energy Mater. 2013, 3, 524.
27. K. X. Steirer, P. F. Ndione, N. E. Widjonarko, M. T. Lloyd, J. Meyer, E. L. Ratcliff, A. Kahn, N. R. Armstrong, C. J. Curtis, D. S. Ginley, J. J. Berry, D. C. Olson, Adv. Energy Mater. 2011, 1, 813.
28. K. X. Steirer, J. P. Chesin, N. E. Widjonarko, J. J. Berry, A. Miedaner, D. S. Ginley, D. C. Olson, Org. Electron. 2010, 11, 1414.
29. J. R. Manders, S. W. Tsang, M. J. Hartel, T. H. Lai, S. Chen, C. M. Amb, J. R. Reynolds, F. So, Adv. Funct. Mater. 2013, 23, 2993.
30. S. A. El-Safty, M. Khairy, M. Ismael, H. Kawarada, Appl. Catal. B: Environ. 2012, 123-124, 162.
31. Z. H. Liang, Y. J. Zhu, X. L. Hu, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 3488.
32. C. L. Carnes, J. Stipp, K. J. Klabunde, J. Bonevich, Langmuir 2002, 18, 1352.
33. M. G. Kim, M. G. Kanatzidis, A. Facchetti, T. J. Marks, Nat. Mater. 2011, 10, 382.
34. J. W. Hennek, J. Smith, A. Yan, M.-G. Kim, W. Zhao, V. P. Dravid, A. Facchetti, T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 10729.
35. E. Wang, L. Hou, Z. Wang, S. Hellström, F. Zhang, O. Inganäs, M. R. Andersson, Adv. Mater. 2010, 22, 5240.
36. H. Sirringhaus, N. Tessler, R. H. Friend, Science 1998, 280, 1741.
37. M. G. Kim, J. W. Hennek, H. S. Kim, M. G. Kanatzidis, A. Facchetti, T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 11583.
38. C. H. Jung, S. Jalota, S. B. Bhaduri, Mater. Lett. 2005, 59, 2426.
39. C. Yao, X. Xu, J. Wang, L. Shi, L. Li, ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 1100.
40. H. Y. Chen, J. Hou, S. Zhang, Y. Liang, G. Yang, Y. Yang, L. Yu, Y. Wu, G. Li, Nat. Photonics 2009, 3, 649.
41. J. Hou, H. Y. Chen, S. Zhang, R. I. Chen, Y. Yang, Y. Wu, G. Li, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 15586.
42. L. Huo, J. Hou, S. Zhang, H. Y. Chen, Y. Yang, Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 1500.
43. E. L. Ratcliff, J. Meyer, K. X. Steirer, A. Garcia, J. J. Berry, D. S. Ginley, D. C. Olson, A. Kahn, N. R. Armstrong, Chem. Mater. 2011, 23, 4988.
44. L. Hou, E. Wang, J. Bergqvist, B. V. Andersson, Z. Wang, C. Müller, M. Campoy-Quiles, M. R. Andersson, F. Zhang, O. Inganäs, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 3169.
45. S. Shao, J. Liu, J. Bergqvist, S. Shi, C. Veit, U. Würfel, Z. Xie, F. Zhang, Adv. Energy Mater. 2013, 3, 349.
46. G. A. H. Wetzelaer, M. Kuik, M. Lenes, P. W. M. Blom, Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 153506.
47. C. Waldauf, M. C. Scharber, P. Schilinsky, J. A. Hauch, C. J. Brabec, J. Appl. Phys. 2006, 99, 104503.
48. L. A. A. Pettersson, L. S. Roman, O. Inganas, J. Appl. Phys. 1999, 86, 487.