Deposition order dependent magnetization reversal in pressure graded Co/Pd films

Applied Physics Letters

Volumn 104, Issue 15, 2014, Pages

  Greene, P K ^a   Kirby, B J ^b   Lau, J W ^b   Borchers, J A ^b   Fitzsimmons, M R ^c   Liu, Kai ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

^c LOS ALAMOS NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION; DOMAIN WALLS; THIN FILMS;

DEPTH DEPENDENTS; DOMAIN NUCLEATION; DOMAIN WALL MOTION; HIGH PRESSURE REGIONS; LOW PRESSURES; MAGNETIC PROFILES; MAGNETIZATION PROFILE; MAGNETIZATION REVERSAL MECHANISMS;

MAGNETIZATION REVERSAL;

EID: 84899638976     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4871586     Document Type: Article

References (38)

1. X. B. Wang, K. Z. Gao, H. Zhou, A. Itagi, M. Seigler, and E. Gage, IEEE Trans. Magn. 49, 686 (2013).
2. A. Q. Wu, Y. Kubota, T. Klemmer, T. Rausch, C. B. Peng, Y. G. Peng, D. Karns, X. B. Zhu, Y. F. Ding, E. K. C. Chang, Y. J. Zhao, H. Zhou, K. Z. Gao, J. U. Thiele, M. Seigler, G. P. Ju, and E. Gage, IEEE Trans. Magn. 49, 779 (2013).
3. D. Weller, O. Mosendz, G. Parker, S. Pisana, and T. S. Santos, Phys. Status Solidi A 210, 1245 (2013).
4. D. Weller and A. Moser, IEEE Trans. Magn. 35, 4423 (1999).
5. J. U. Thiele, S. Maat, and E. E. Fullerton, Appl. Phys. Lett. 82, 2859 (2003).
6. D. A. Gilbert, L. W. Wang, T. J. Klemmer, J. U. Thiele, C. H. Lai, and K. Liu, Appl. Phys. Lett. 102, 132406 (2013).
7. K. Rivkin and J. B. Ketterson, Appl. Phys. Lett. 89, 252507 (2006).
8. G. Woltersdorf and C. H. Back, Phys. Rev. Lett. 99, 227207 (2007).
9. S. H. Sun, C. B. Murray, D. Weller, L. Folks, and A. Moser, Science 287, 1989 (2000).
10. B. D. Terris, T. Thomson, and G. Hu, Microsyst. Technol. 13, 189 (2007).
11. H. J. Richter, A. Y. Dobin, R. T. Lynch, D. Weller, R. M. Brockie, O. Heinonen, K. Z. Gao, J. Xue, R. J. M. v. d. Veerdonk, P. Asselin, and M. F. Erden, Appl. Phys. Lett. 88, 222512 (2006).
12. A. V. Kimel, A. Kirilyuk, P. A. Usachev, R. V. Pisarev, A. M. Balbashov, and T. Rasing, Nature 435, 655 (2005).
13. S. Mangin, M. Gottwald, C. H. Lambert, D. Steil, V. Uhl?r, L. Pang, M. Hehn, S. Alebrand, M. Cinchetti, G. Malinowski, Y. Fainman, M. Aeschlimann, and E. E. Fullerton, Nature Mater. 13, 286 (2014).
14. R. H. Victora and X. Shen, IEEE Trans. Magn. 41, 2828 (2005).
15. J. P. Wang, W. K. Shen, and J. M. Bai, IEEE Trans. Magn. 41, 3181 (2005).
16. D. Suess, Appl. Phys. Lett. 89, 113105 (2006).
17. D. Suess, J. Fidler, G. Zimanyi, T. Schrefl, and P. Visscher, Appl. Phys. Lett. 92, 173111 (2008).
18. B. J. Kirby, S. M. Watson, J. E. Davies, G. T. Zimanyi, K. Liu, R. D. Shull, and J. A. Borchers, J. Appl. Phys. 105, 07C929 (2009).
19. J. E. Davies, P. Morrow, C. L. Dennis, J. W. Lau, B. McMorran, A. Cochran, J. Unguris, R. K. Dumas, P. Greene, and K. Liu, J. Appl. Phys. 109, 07b909 (2011).
20. B. J. Kirby, J. E. Davies, K. Liu, S. M. Watson, G. T. Zimanyi, R. D. Shull, P. A. Kienzle, and J. A. Borchers, Phys. Rev. B 81, 100405 (2010).
21. R. K. Dumas, Y. Fang, B. J. Kirby, C. Zha, V. Bonanni, J. Nogues, and J. A kerman, Phys. Rev. B 84, 054434 (2011).
22. C.-C. Chiang, W.-C. Tsai, L.-W. Wang, H.-C. Hou, J.-W. Liao, H.-J. Lin, F.-H. Chang, B. J. Kirby, and C.-H. Lai, Appl. Phys. Lett. 99, 212504 (2011).
23. J. Zhang, Z. Sun, J. Sun, S. Kang, S. Yu, G. Han, S. Yan, L. Mei, and D. Li, Appl. Phys. Lett. 102, 152407 (2013).
24. N. Gaur, K. K. M. Pandey, S. L. Maurer, S. N. Piramanayagam, R. W. Nunes, H. Yang, and C. S. Bhatia, J. Appl. Phys. 110, 083917 (2011).
25. K.-S. Ryu, L. Thomas, S.-H. Yang, and S. Parkin, Nat. Nano 8, 527 (2013).
26. G. Chen, T. Ma, A. T. N'Diaye, H. Kwon, C. Won, Y. Wu, and A. K. Schmid, Nat. Commun. 4, 2671 (2013).
27. B. J. Kirby, P. K. Greene, B. B. Maranville, J. E. Davies, and K. Liu, e-print arXiv:1403.2126.
28. E. E. Fullerton, J. Pearson, C. H. Sowers, S. D. Bader, X. Z. Wu, and S. K. Sinha, Phys. Rev. B 48, 17432 (1993).
29. M. S. Pierce, C. R. Buechler, L. B. Sorensen, S. D. Kevan, E. A. Jagla, J. M. Deutsch, T. Mai, O. Narayan, J. E. Davies, K. Liu, G. T. Zimanyi, H. G. Katzgraber, O. Hellwig, E. E. Fullerton, P. Fischer, and J. B. Kortright, Phys. Rev. B 75, 144406 (2007).
30. M. S. Pierce, J. E. Davies, J. J. Turner, K. Chesnel, E. E. Fullerton, J. Nam, R. Hailstone, S. D. Kevan, J. B. Kortright, K. Liu, L. B. Sorensen, B. R. York, and O. Hellwig, Phys. Rev. B 87, 184428 (2013).
31. J. E. Davies, O. Hellwig, E. E. Fullerton, G. Denbeaux, J. B. Kortright, and K. Liu, Phys. Rev. B 70, 224434 (2004).
32. R. K. Dumas, K. Liu, C. P. Li, I. V. Roshchin, and I. K. Schuller, Appl. Phys. Lett. 91, 202501 (2007).
33. C. R. Pike, A. P. Roberts, and K. L. Verosub, J. Appl. Phys. 85, 6660 (1999).
34. I. D. Mayergoyz, Mathematical Models of Hysteresis (Springer-Verlag, New York, 1991).
35. J. E. Davies, O. Hellwig, E. E. Fullerton, J. S. Jiang, S. D. Bader, G. T. Zimanyi, and K. Liu, Appl. Phys. Lett. 86, 262503 (2005).
36. J. E. Davies, D. A. Gilbert, S. M. Mohseni, R. K. Dumas, J. Akerman, and K. Liu, Appl. Phys. Lett. 103, 022409 (2013).
37. Note that in Fig. 2(a), diffraction from the Si substrate is clearly visible, while it is absent in Fig. 2(b). This is because sample 3P2 tends to be delaminated from the Si substrate in places that are thin enough for TEM analysis.
38. B. J. Kirby, P. A. Kienzle, B. B. Maranville, N. F. Berk, J. Krycka, F. Heinrich, and C. F. Majkrzak, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 17, 44 (2012).