Plasmon-active nano-aperture window electrodes for organic photovoltaics

Advanced Energy Materials

Volumn 3, Issue 2, 2013, Pages 193-199

  Stec, Helena M ^a   Hatton, Ross A ^a  

^a UNIVERSITY OF WARWICK   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRODE SURFACES; INDIUM TIN OXIDE ELECTRODES; NANO-STRUCTURED ELECTRODES; NOBLE METAL ELECTRODES; ORGANIC PHOTOVOLTAICS; PLASTIC SUBSTRATES; SOLUTION-PROCESSED; SUBWAVELENGTH APERTURES;

TIN OXIDES;

ELECTRODES;

EID: 84876584301     PISSN: 16146832     EISSN: 16146840     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/aenm.201200502     Document Type: Article

References (51)

1. C. E. Small, S. Chen, J. Subbiah, C. M. Amb, S-W. Tsang, T-H. Lai, J. R. Reynolds, F. So, Nat. Photon. 2012, 6, 11-5.
2. L. Dou, J. Gao, E. Richard, J. You, C.-C. Chen, K. C. Cha, Y. He, G. Li, Y. Yang, J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 1007-1.
3. T. Y. Chu, S. Alem, P. G. Verly, S. Wakim, J. P. Lu, Y. Tao, S. Beaupre, M. Leclerc, F. Belanger, D. Desilets, S. Rodman, D. Waller, R. Gaudiana, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 06330-4.
4. A. M. Ballantyne, T. A. M. Ferenczi, M. Campoy-Quiles, T. M. Clarke, A. Maurano, K. H. Wong, W. M. Zhang, N. Stingelin-Stutzmann, J. S. Kim, D. D. C. Bradley, J. R. Durrant, I. McCulloch, M. Heeney, J. Nelson, S. Tierney, W. Duffy, C. Mueller, P. Smith, Macromolecules 2010, 43, 116-9.
5. R. R. Lunt, N. C. Giebink, A. A. Belak, J. B. Benziger, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 2009, 105, 05371-1.
6. K. M. Coakley, M. D. McGehee, Chem. Mater. 2004, 16, 453-3.
7. P. W. M. Blom, V. D. Mihailetchi, L. J. A. Koster, D. E. Markov, Adv. Mater. 2007, 19, 155-1.
8. D. Derkacs, S. H. Lim, P. Matheu, W. Mar, E. T. Yu, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 09310-3.
9. H. A. Atwater, A. Polman, Nat. Mater. 2010, 9, 20-5.
10. A. Roy, S. H. Park, S. Cowan, M. H. Tong, S. Cho, K. Lee, A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 01330-2.
11. H. K. Yu, W. J. Dong, G. H. Jung, J. L. Lee, Acs Nano 2011, 5, 802-6.
12. C. Battaglia, J. Escarre, K. Soederstroem, M. Charriere, M. Despeisse, F.-J. Haug, C. Ballif, Nat. Photon. 2011, 5, 53-5.
13. J. Lee, S. Y. Kim, C. Kim, J. Kim, J. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 08330-6.
14. H. W. Lin, S. W. Chiu, L. Y. Lin, Z. Y. Hung, Y. H. Chen, F. Lin, K. T. Wong, Adv. Mater. 2012, 24, 226-9.
15. N. P. Sergeant, A. Hadipour, B. Niesen, D. Cheyns, P. Heremans, P. Peumans, B. P. Rand, Adv. Mater. 2012, 24, 72-8.
16. M. G. Kang, T. Xu, H. J. Park, X. G. Luo, L. J. Guo, Adv. Mater. 2010, 22, 437-8.
17. D. M. Schaadt, B. Feng, E. T. Yu, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 06310-6.
18. L. X. Xuanhua, W. C. H. Choy, L. Huo, F. Xie, W. E. I. Sha, B. Ding, X. Guo, Y. Li, J. Hou, J. You, Y. Yang, Adv. Mater. 2012, 24, 304-6.
19. T. D. Heidel, J. K. Mapel, M. Singh, K. Celebi, M. A. Baldo, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 09350-6.
20. J. L. Wu, F. C. Chen, Y. S. Hsiao, F. C. Chien, P. L. Chen, C. H. Kuo, M. H. Huang, C. S. Hsu, ACS Nano 2011, 5, 95-9.
21. D. H. Wang, Dy. Y. Kim, K. W. Choi, J. H. Seo, S. H. Im, J. H. Park, O. O. Park, A. J. Heeger, Angew. Chem.-Int. Edt. 2011, 50, 551-9.
22. T. H. Reilly, J. van de Lagemaat, R. C. Tenent, A. J. Morfa, K. L. Rowlen, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 24330-4.
23. W. A. Luhman, S. H. Lee, T. W. Johnson, R. J. Holmes, S. H. Oh, Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 10330-6.
24. M. A. Sefunc, A. K. Okyay, H. V. Demir, Opt. Express 2011, 19, 1420-0.
25. L. Hu, H. Wu, Y. Cui, MRS Bull. 2011, 36, 76-0.
26. D. S. Hecht, L. B. Hu, G. Irvin, Adv. Mater. 2011, 23, 148-2.
27. N. C. Lindquist, W. A. Luhman, S. H. Oh, R. J. Holmes, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 12330-8.
28. J. W. Menezes, J. Ferreira, M. J. L. Santos, L. Cescato, A. G. Brolo, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 391-8.
29. L. Martin-Moreno, F. J. Garcia-Vidal, H. J. Lezec, K. M. Pellerin, T. Thio, J. B. Pendry, T. W. Ebbesen, Phys. Rev. Lett. 2001, 86, 111-4.
30. C. Sönnichsen, A. C. Duch, G. Steininger, M. Koch, G. Pvon Plessen, J. Feldmann, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 14-0.
31. A. E. Ostfeld, D. Pacifici, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 11311-2.
32. T. Rindzevicius, Y. Alaverdyan, A. Dahlin, F. Höök, D. S. Sutherlan, M. Käll, Nano Lett. 2005, 5, 233-5.
33. T. Rindzevicius, Y. Alaverdyan, B. Sepulveda, T. Pakizeh, M. Kall, R. Hillenbrand, J. Aizpurua, F. J. G. de Abajo, J. Phys. Chem. C 2007, 111, 120-7.
34. T. H. Reilly, R. C. Tenent, T. M. Barnes, K. L. Rowlen, J. van de Lagemaat, ACS Nano 2010, 4, 61-5.
35. T. W. Ebbesen, H. J. Lezec, H. F. Ghaemi, T. Thio, P. A. Wolff, N ature 1998, 391, 66-7.
36. B. O' Connor, C. Haughn, K-H. An, K. P. Pipe, M. Shtein, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 22330-4.
37. D. S. Lin, J. Phys. D-Appl. Phys. 1971, 4, 197-7.
38. V. Logeeswaran, N. P. Kobayashi, M. S. Islam, W. Wu, P. Chaturvedi, N. X. Fang, S. Y. Wang, R. S. Williams, Nano Lett. 2009, 9, 17-8.
39. S. Cheylan, D. S. Ghosh, D. Krautz, T. L. Chen, V. Pruneri, Org. Electron. 2011, 12, 81-8.
40. J. C. Hoogvliet, W. P. van Bennekom, Electrochim. Acta 2001, 47, 59-9.
41. R. A. Hatton, M. R. Willis, M. A. Chesters, D. Briggs, J. Mater. Chem. 2003, 13, 72-2.
42. H. M. Stec, R. J. Williams, T. S. Jones, R. A. Hatton, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 170-9.
43. J. N. Israelachvili, M. L. Gee, Langmuir 1989, 5, 28-8.
44. J. Wenger, D. Gerard, J. Dintinger, O. Mahboub, N. Bonod, E. Popov, T. W. Ebbesen, H. Rigneault, Opt. Express 2008, 16, 300-8.
45. A. Ulman, Chem. Rev. 1996, 96, 153-3.
46. K. A. Sierros, D. A. Banerjee, N. J. Morris, D. R. Cairns, I. Kortidis, G. Kiriakidis, Thin Solid Films 2010, 519, 32-5.
47. I. Hancox, P. Sullivan, K. V. Chauhan, N. Beaumont, L. A. Rochford, R. A. Hatton, T. S. Jones, Org. Electron. 2010, 11, 201-9.
48. S. Alem, T-Y. Chu, S. C. Tse, S. Wakim, J. Lu, R. Movileanu, Y. Tao, F. Belanger, D. Desilets, S. Beaupre, M. Leclerc, S. Rodman, D. Waller, R. Gaudiana, Org. Electron. 2011, 12, 178-8.
49. A. Kotiaho, R. Lahtinen, A. Efimov, H-K. Metsberg, E. Sariola, H. Lehtivuori, N. V. Tkachenko, H. Lemmetyinen, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 16-2.
50. B. P. Rand, P. Peumans, S. R. Forrest, J. Appl. Phys. 2004, 96, 751-9.
51. M. A. Green, S. Pillai, Nat. Photon. 2012, 6, 13-0.