Effect of the annealing temperature of P(VDF/TrFE) thin films on their ferroelectric properties

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 62, Issue 7, 2013, Pages 1065-1068

  Yachi, Yoshiki ^a   Yoshimura, Takeshi ^a   Fujimura, Norifumi ^a  

^a Osaka Prefecture University   (Japan)

Author keywords

Ferroelectric polymer; P(VDF TrFE); Piezoelectric force microscopy

Indexed keywords

EID: 84876437373     PISSN: 03744884     EISSN: 19768524     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.62.1065     Document Type: Article

References (23)

1. S. Bauer, J. Appl. Phys. 80, 5531 (1996).
2. C. W. Frank, V. Rao, M. M. Despotopoulou, R. F. W. Pease, W. D. Hinsberg, R. D. Miller and F. Rabolt, Science 273, 912 (1996).
3. T. Kojima, T. Sakai, T. Watanabe, H. Funakubo, K. Saito and M. Osada, Appl. Phys. Lett. 80, 2746 (2002).
4. S. H. Lim, A. C. Rastogi and S. B. Desu, J. Appl. Phys. 96, 5673 (2004).
5. Y. J. Park, S. J. Kang, B. Lotz, M. Brinkmann, A. Thierry, K. J. Kim and C. Park, Macromolecules 41, 8648 (2008).
6. A. V. Bune, V. M. Fridkin, S. Ducharme, L. M. Blinov, S. P. Palto, A. V. Sorokin, S. G. Yudin and A. Zlatkin, Nature (London) 391, 874 (1998).
7. R. L. Jones, S. Kumar, D. L. Ho, R. M. Briber and T. P. Russell, Nature 400, 146 (1999).
8. T. Furukawa, Phase Tran. 18, 143 (1989).
9. S. Ducharme, T. J. Reece, C. M. Othon and R. K. Rannow, IEEE Trans. Device Mater. Reliab. 5, 720 (2005).
10. T. Nakajima, Y. Takahashi, S. Okamura, T. Furukawa, J. Appl. Phys. 48, 09KE04 (2009).
11. Dong Guo, Igor Stolichnov and Nava Setter, J. Phys. Chem. B. 115, 13455 (2011).
12. Z. Zeng, G. Zhu, L. Zhang, X. Yan, Chin. J. Polym, Sci. 27, 479 (2009).
13. W. Li, Y. Zhu, D. Hua, P. Wang, X. Chen and J. Shen, Appl. Surf. Sci. 254, 7321 (2008).
14. Z. Qiu, C. Yan, J. Lu, W. Yang, T. Ikehara and T. Nishi, J. Phys. Chem. B 111, 2783 (2007).
15. S. Tasaka and S. Miyata, J. Appl. Phys. 57, 906 (1985).
16. Tajitsu, H. Ogura, A. Chiba and T. Furukawa, Jpn. J. Appl. Phys. 26, 554 (1987).
17. Q. M. Zhang, H. Xu, F. Fang, Z. Y. Cheng, F. Xia and H. You, J. Appl. Phys. 89, 2613 (2001).
18. T. Nakajima, R. Abe, Y. Takahashi and T. Furukawa, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L1385 (2005).
19. G. D. Zhu, J. Xu, X. J. Yan, J. Li, Z. G. Zeng, M. Shen and L. Zhang, Thin Solid Films 510, 181 (2006).
20. H. Ohigashi, K. Omote and T. Gomyo, Appl. Phys. Lett. 66, 3281 (1995).
21. H. Ohigashi, S. Akama and K. Koga, Jpn. J. Appl. Phys. 27, 2144 (1988).
22. K. Koga and H. Ohigashi, J. Appl. Phys. 56, 2142 (1986).
23. K. Koga, N. Nakano, T. Hattori and H. Ohigashi, J. Appl. Phys. 67, 965 (1990).