Thioacetate-functionalized fullerene: Redox properties and self-assembly on the Au(111) surface

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 160, Issue 1, 2013, Pages

  Piotrowski, Piotr ^a   Pawłowska, Joanna ^a   Pałys, Barbara ^a   Sek, Sławomir ^a   Bilewicz, Renata ^a   Kaim, Andrzej ^a  

^a UNIVERSITY OF WARSAW   (Poland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AU(111) SURFACES; ELECTRO ACTIVES; ELECTRO REDUCTION; ELECTRON ACCEPTOR; FULLERENE DERIVATIVE; NEGATIVE POTENTIAL; POSITIVE POTENTIAL; REDUCTION-OXIDATION;

ELECTROLYTIC REDUCTION; ELECTRONIC PROPERTIES; ELECTROOXIDATION; FULLERENES; MONOLAYERS;

MOLECULES;

EID: 84875926845     PISSN: 00134651     EISSN: 19457111     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.044301jes     Document Type: Article

References (50)

1. D. M. Guldi and N. Martin, Fullerenes: From Synthesis to Optoelectronic Properties; Kluwer Academic Publishers, Dordrecht (2002).
2. F. Yang, K. Sun, and S. R. Forrest, Adv. Mater., 19, 4166 (2007).
3. W. Osikowicz, M. P. de Jong, and W. R. Salaneck, Adv. Mater., 19, 4213 (2007).
4. A. Y. Ganin, Y. Takabayashi, Y. Z. Khimyak, S. Margadonna, A. Tamai, M. J. Rosseinsky, and K. Prassides, Nature Materials, 7, 367 (2008).
5. Y. Iwasa, Nature, 466, 191 (2010).
6. H. S. Shin, H. Lim, H. J. Song, H. J. Shin, S. M. Park, and H. C. Choi, J. Mater. Chem., 20, 7183 (2010).
7. M. Maggini, G. Scorrano, and M. Prato, J. Am. Chem. Soc., 115, 9798 (1993).
8. K. F. Kelly, Y. S. Shon, T. R. Lee, and N. J. Halas, J. Phys. Chem. B, 103, 8639 (1999).
9. T. Gu, J. K. Whitesell, and M. A. Fox, J. Org. Chem., 69, 4075 (2004).
10. R. R. Sahoo and A. Patnaik, Journal of Colloid and Interface Science, 268, 43 (2003).
11. P. K. Sudeep, B. I. Ipe, K. G. Thomas, and M. V. George, Nano Lett., 2, 29 (2002).
12. M. del Carmen Gimenez-Lopez, J. A. Gardener, A. Q. Shaw, A. Iwasiewicz-Wabnig, K. Porfyrakis, C. Balmer, G. Dantelle, M. Hadjipanayi, A. Crossley, N. R. Champness, M. R. Castell, G. A. D. Briggs, and A. N. Khlobystov, Phys. Chem. Chem. Phys., 12, 123 (2010).
13. Y. Matsuo, S. Lacher, A. Sakamoto, K. Matsuo, and A. Nakamura, J. Phys. Chem. C, 114, 17741 (2010).
14. Y. Zhang, R. H. Austin, J. Kraeft, E. C. Cox, and N. P. Ong, Phys. Rev. Lett., 89, 198102 (2002).
15. G. J. Ashwell, A. T. Williams, S. A. Barnes, S. L. Chappell, L. J. Phillips, B. J. Robinson, B. Urasinska-Wojcik, P. Wierzchowiec, I. R. Gentle, and B. J Wood, J. Phys. Chem. C, 115, 4200 (2011).
16. Y. Shirai, L. Cheng, B. Chen, and J. M. Tour, J. Am. Chem. Soc., 128, 13479 (2006).
17. V. T. Hoang, L. M. Rogers, and F. D'Souza, Electrochemistry Communications, 4, 50 (2002).
18. W. B. Ko, B. E. Park, Y. M. Lee, and S. H. Hwang, J. Ceram. Process. Res., 10, 6 (2009).
19. M. del Carmen Gimenez-Lopez, M. T. Räisänen, T. W. Chamberlain, U. Weber, M. Lebedeva, G. A. Rance, G. A. D. Briggs, D. Pettifor, V. Burlakov, M. Buck, and A. N. Khlobystov, Langmuir, 27, 10977 (2011).
20. D. T. Gryko, C. Clausen, K. M. Roth, N. Dontha, D. F. Bocian, W. G. Kuhr, and J. S. Lindsey, J. Org. Chem., 65, 7345 (2000).
21. I. D. Tomlinson, J. L. Grey, and S. J. Rosenthal, Molecules, 7, 777 (2002).
22. See supplementary material http://dx.doi.org/10.1149/2.044301jes.html.
23. T. Park, H. Kang, I. Choi, H. Chung, E. Ito, M. Hara, and J. Noh, Bull. Korean Chem. Soc., 30, 441 (2009).
24. B. T. Holmes and A. W. Snow, Tetrahedron, 61, 12339 (2005).
25. K. Hiraoka, I. Kudaka, S. Fujimaki, and H. Shinohara, Rap. Comm. Mass Spectrom., 6, 254 (1992).
26. M. Prato and M. Maggini, Acc. Chem. Res., 31, 519 (1998).
27. P. K. Sudeep, Binil Itty Ipe, K. G. Thomas, M. V. George, S. Barazzouk, S. Hotchandani, and P. V. Kamat, Nano Lett., 2, 29 (2002).
28. K. M. Wager and M. H. Daniels, Org. Lett., 13, 4052 (2011).
29. S. Iglesias-Groth, F. Cataldo, and A. Manchado, Mon. Not. R. Astron. Soc., 413, 213 (2011).
30. H. Kuzmany, R. Winkler, and T. Pichler, J. Phys.: Condens. Matter, 7, 6601 (1995).
31. B. Barszcz, B. Laskowska, A. Graja, E. Y. Park, T. D. Kimb, and K. S. Leeb, Synthetic Metals, 159, 2539 (2009).
32. N. Y. Loginova and I. F. Gun'kin, Russian Journal of General Chemistry, 74, 1572 (2004).
33. E. Markevicha, R. Sharabia, V. Borgela, H. Gottlieba, G. Salitra, D. Aurbacha, G. Semraub, and M. A. Schmidt, Electrochimica Acta, 55, 2687 (2010).
34. J. H. Lee, S. H. Park, and H. Lee, Bull. Korean Chem. Soc., 28, 1211 (2007).
35. B. de Boer, H. Meng, D. F. Perepichka, J. Zheng, M. M. Frank, Y. J. Chabal, and Z. Bao, Langmuir, 19, 4272 (2003).
36. G. Socrates, Infrared and Raman Characteristic Group frequencies, John Wiley & Sons, Chichester, (2001).
37. T. Pham, J. B. Jackson, N. J. Halas, and T. R. Lee, Langmuir, 18, 4915 (2002).
38. F. Billes and E. Geidel, Spectrochimica Acta Part A, 53, 2537 (1997).
39. R. G. Nuzzo, B. R. Zegarski, and L. H. Dubois, J. Am. Chem. Soc., 109, 733 (1987).
40. T. Gu, J. K. Whitesell, and M. A. Fox, J. Org. Chem., 69, 4075 (2004).
41. A. Singh, D. H. Dahanayaka, A. Biswas, L. Bumm, and R. L. Haltermanm, Langmuir, 26, 13221 (2010).
42. M. Brust, C. J. Kiely, D. Bethell, and D. J. Schiffrin, J. Am. Chem. Soc., 120, 12367 (1998).
43. M. I. Béthencourt, L. Srisombat, P. Chinwangso, and T. R. Lee, Langmuir, 25, 1265 (2009).
44. F. Zhou, C. Jehoulet, and A. J. Bard, J. Am. Chem. Soc., 114, 11004 (1992).
45. L. Echegoyen and L. E. Echegoyen, Acc. Chem. Res., 31, 593 (1998).
46. A. S. Viana, S. Leupold, C. Eberle, T. Shokati, F. P. Montforts, and L. M. Abrantes, Surface Science, 601, 5062 (2007).
47. E. Laviron, J. Electroanal. Chem., 101, 19 (1979).
48. A. J. Bard and L. R. Faulkner, Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications, John Wiley & Sons, New York (2000).
49. J. C. Love, L. A. Estroff, J. K. Kriebel, R. G. Nuzzo, and G. M. Whitesides, Chem. Rev., 105, 1103 (2005).
50. A. Danilov, S. Kubatkin, S. Kafanov, P. Hedega°rd, N. Stuhr-Hansen, K. Moth-Poulsen, and T. Bjørnholm, Nano Lett., 8, 1 (2008).