Controlled positioning of nanoparticles on a micrometer scale

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 3, Issue 1, 2012, Pages 773-777

  Enderle, Fabian ^a   Dubbers, Oliver ^a   Plettl, Alfred ^a   Ziemann, Paul ^a  

^a UNIVERSITY OF ULM   (Germany)

Author keywords

Electron beam lithography; Nanoparticles; Positioning; Self assembling; Unconventional lithography

Indexed keywords

AU NANOPARTICLE; INTERPARTICLE DISTANCES; MICROMETER SCALE; NANOPILLARS; POSITIONING; SELF-ASSEMBLING; SI SUBSTRATES; SQUARE ARRAY; SQUARE PATTERNS; TOPDOWN; UNCONVENTIONAL LITHOGRAPHY;

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; NANOPARTICLES; SILICON; SUBSTRATES;

GOLD;

EID: 84870457566     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.3.86     Document Type: Article

References (27)

1. Wiedwald, U.; Ziemann, P. Beilstein J. Nanotechnol. 2010, 1, 21-23.
2. Eisenmenger, J.; Schuller, I. K. Nat. Mater. 2003, 2, 437-438.
3. Wiedwald, U.; Han, L.; Biskupek, J.; Kaiser, U.; Ziemann, P. Beilstein J. Nanotechnol. 2010, 1, 24-47.
4. Weller, D.; Moser, A.; Folks, L.; Best, M. E.; Wen, L.; Toney, M. F.; Schwickert, M.; Thiele, J.-U.; Doerner, M. F. IEEE Trans. Magn. 2000, 36, 10-15.
5. Brombacher, C.; Saitner, M.; Pfahler, C.; Plettl, A.; Ziemann, P.; Makarov, D.; Assmann, D.; Siekman, M. H.; Abelmann, L.; Albrecht, M. Nanotechnology 2009, 20, 105304.
6. Parkin, S. S. P.; Hayashi, M.; Thomas, L. Science 2008, 320, 190-194.
7. Spatz, J. P.; Mössmer, S.; Hartmann, C.; Möller, M.; Herzog, T.; Krieger, M.; Boyen, H.-G.; Ziemann, P.; Kabius, B. Langmuir 2000, 16, 407-415.
8. Bansmann, J.; Kielbassa, S.; Hoster, H.; Weigl, F.; Boyen, H. G.; Wiedwald, U.; Ziemann, P.; Behm, R. J. Langmuir 2007, 23, 10150-10155.
9. Bita, I.; Yang, J. K. W.; Jung, Y. S.; Ross, C. A.; Thomas, E. L.; Berggren, K. K. Science 2008, 321, 939-943.
10. Manzke, A.; Pfahler, C.; Dubbers, O.; Plettl, A.; Ziemann, P.; Crespy, D.; Schreiber, E.; Ziener, U.; Landfester, K. Adv. Mater. 2007, 19, 1337-1341.
11. Zhang, J.; Li, Y.; Zhang, X.; Yang, B. Adv. Mater. 2010, 22, 4249-4269.
12. Vogel, N.; Ziener, U.; Manzke, A.; Plettl, A.; Ziemann, P.; Biskupek, J.; Weiss, C. K.; Landfester, K. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 459-472.
13. Meixner, A. J. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 499-500.
14. Gonçalves, M. R.; Makaryan, T.; Enderle, F.; Wiedemann, S.; Plettl, A.; Marti, O.; Ziemann, P. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 448-458.
15. Waser, R. Ed. Nanoelectronics and Information Technology; Wiley-VCH: Weinheim, Germany, 2003.
16. Boyen, H.-G.; Kästle, G.; Weigl, F.; Koslowski, B.; Dietrich, C.; Ziemann, P.; Spatz, J. P.; Riethmüller, S.; Hartmann, C.; Möller, M.; Schmid, G.; Garnier, M. G.; Oelhafen, P. Science 2002, 297, 1533-1536.
17. Kinge, S.; Crego-Calama, M.; Reinhoudt, D. N. ChemPhysChem 2008, 9, 20-42.
18. Goesmann, H.; Feldmann, C. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 1362-1395.
19. Ziemann, P. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 363-364.
20. Popov, K. I.; Palyulin, V. V.; Möller, M.; Khokhlov, A. R.; Potemkin, I. I. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 569-584.
21. Kästle, G.; Boyen, H.-G.; Weigl, F.; Lengl, G.; Herzog, T.; Ziemann, P.; Riethmüller, S.; Mayer, O.; Hartmann, C.; Spatz, J. P.; Möller, M.; Ozawa, M.; Banhart, F.; Garnier, M. G.; Oelhafen, P. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 853-861.
22. Mena-Osteritz, E.; Urdanpilleta, M.; El-Hosseiny, E.; Koslowski, B.; Ziemann, P.; Bäuerle, P. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 802-808.
23. Auyeung, E.; Cutler, J. I.; Macfarlane, R. J.; Jones, M. R.; Wu, J.; Liu, G.; Zhang, K.; Osberg, K. D.; Mirkin, C. A. Nat. Nanotechnol. 2012, 7, 24-28.
24. Yao, X.; Song, Y.; Jiang, L. Adv. Mater. 2011, 23, 719-734.
25. Aizenberg, J.; Black, A. J.; Whitesides, G. M. Nature 1999, 398, 495-498.
26. Lee, M. H.; Huntington, M. D.; Zhou, W.; Yang, J.-C.; Odom, T. W. Nano Lett. 2011, 11, 311-315.
27. Walhorn, V.; Paskarbeit, J.; Frey, H. G.; Harder, A.; Anselmetti, D. Beilstein J. Nanotechnol. 2011, 2, 645-652.