Plasmonic nanostructures fabricated using nanosphere-lithography, soft-lithography and plasma etching

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 2, Issue 1, 2011, Pages 448-458

  Gonçalves, Manuel R ^a   Makaryan, Taron ^a   Enderle, Fabian ^a   Wiedemann, Stefan ^a   Plettl, Alfred ^a   Marti, Othmar ^a   Ziemann, Paul ^a  

^a UNIVERSITY OF ULM   (Germany)

Author keywords

Nanosphere lithography; Near field enhancement; Plasma etching; Soft lithography; Surface plasmons

Indexed keywords

ABSORBANCES; COLLOIDAL CRYSTALS; ETCHED STRUCTURES; FABRICATION METHOD; GOLD FILM; HEMISPHERICAL STRUCTURE; HEXAGONAL ARRAYS; LARGE ARRAYS; LIGHT CONFINEMENTS; LOW COSTS; METAL FILM; NANO-CAVITIES; NANOSPHERE-LITHOGRAPHY; NEAR-FIELD ENHANCEMENT; OPTICAL WAVELENGTH; PLASMONIC; PLASMONIC NANOSTRUCTURES; POLYSTYRENE SPHERES; SOFT-LITHOGRAPHY; SPECTRAL POSITION; SURFACE PLASMONS; TRIANGULAR HOLES; TRIANGULAR STRUCTURES; WAVELENGTH BAND;

EPOXY RESINS; FABRICATION; FILM PREPARATION; GOLD COATINGS; LITHOGRAPHY; METALLIC FILMS; METALS; NANOSPHERES; PLASMA ETCHING; PLASMONS; POLYSTYRENES; QUARTZ; REFLECTION; SYNTHETIC RESINS;

REACTIVE ION ETCHING;

EID: 80054785239     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.2.49     Document Type: Article

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