Improved durability of WO3 nanocomposite films using atomic layer and vapor deposited coatings

ECS Electrochemistry Letters

Volumn 1, Issue 5, 2012, Pages

  Li, Chi Ping ^a,b   Tenent, Robert C ^b   Dillon, Anne C ^b   Morrish, Rachel M ^a   Wolden, Colin A ^a  

^a Department of Metallurgical and Materials Engineering   (United States)

^b NATIONAL RENEWABLE ENERGY LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHARGE CAPACITIES; DEPOSITED COATINGS; ELECTROCHROMIC PERFORMANCE; LITHIUM PERCHLORATE; MESOPOROUS FILMS; POTENTIAL STEPS; PROTECTION LAYERS; TUNGSTEN OXIDE;

ALUMINA; DURABILITY; ELECTROCHROMISM; INORGANIC COMPOUNDS; NANOPARTICLES;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84868194434     PISSN: 21628726     EISSN: 21628734     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.002206eel     Document Type: Article

References (25)

1. E. S. Lee, S. E. Selkowitz, R. D. Clear, D. L. DiBartolomeo, J. H. Klems, L. L. Fernandes, G. J. Ward, V. Inkarojrit, and M. Yazdanian, (2006).
2. G. A. Niklasson and C. G. Granqvist, J. Mater. Chem., 17, 127 (2007).
3. A. H. Mahan, P. A. Parilla, K. M. Jones, and A. C. Dillon, Chem. Phys. Lett., 413, 88 (2005).
4. S. H. Lee, R. Deshpande, P. A. Parilla, K. M. Jones, B. To, A. H. Mahan, and A. C. Dillon, Adv. Mater., 18, 763 (2006).
5. J. H. Lee, S. Y. Lee, and B. O. Park, Mater. Sci. Eng. B-Solid, 127, 267 (2006).
6. A. M. E. Raj, K. C. Lalithambika, V. S. Vidhya, G. Rajagopal, A. Thayumanavan, M. Jayachandran, and C. Sanjeeviraja, Physica B, 403, 544 (2008).
7. T. Fukano and T. Motohiro, Solar Energy Mater. Solar Cells, 82, 567 (2004).
8. X. Zhi, G. Y. Zhao, T. Zhu, and Y. Li, Surf. Interface Anal., 40, 67 (2008).
9. R. C. Tenent,D. T. Gillaspie,A.Miedaner, P. A. Parilla,C. J.Curtis, and A. C. Dillon, J. Electrochem. Soc., 157, H318 (2010).
10. C.-P. Li, C. A. Wolden, A. C. Dillon, and R. C. Tenent, Solar Energy Mater. Solar Cells, 99, 50 (2012).
11. R. Deshpande, S. H. Lee, A. H. Mahan, P. A. Parilla, K. M. Jones, A. G. Norman, B. To, J. L. Blackburn, S. Mitra, and A. C. Dillon, Solid State Ionics, 178, 895 (2007).
12. A. W. Ott, J. W. Klaus, J. M. Johnson, and S. M. George, Thin Solid Films, 292, 135 (1997).
13. T. H. Fleisch and G. J. Mains, J. Chem. Phys., 76, 780 (1982).
14. T. Oi, K. Miyauchi, and K. Uehara, J. Appl. Phys., 53, 1823 (1982).
15. S.-H. Lee, S.-H. Hyeonsik, M. Cheong, P. Liu, and C. E. Tracy, Electrochem. Solid-State Lett., 6, A102 (2003).
16. M. D. Groner, S. M. George, R. S. McLean, and P. F. Carcia, Appl. Phys. Lett., 88, 051907 (2006).
17. P. F. Carcia, R. S. McLean,M. D. Groner, A. A. Dameron, and S. M. George, J. Appl. Phys., 106, 023533 (2009).
18. M. T. Seman, D. N. Richards, P. Rowlette, and C. A.Wolden, Chem. Vap. Deposition, 14, 296 (2008).
19. I. D. Scott, Y. S. Jung, A. S. Cavanagh, Y. F. An, A. C. Dillon, S. M. George, and S. H. Lee, Nano Lett., 11, 414 (2011).
20. L. A. Riley, S.Van Ana,A. S.Cavanagh,Y. F.Yan, S. M. George, P. Liu,A. C. Dillon, and S. H. Lee, J. Power Sources, 196, 3317 (2011).
21. J. Elam, G. Xiong, C. Y. Han, H. Hau Wang, J. P. Birrell, U. Welp, J. N. Hryn, M. J. Pellin, T. F. Baumann, J. F. Poco, and J. H. Satcher Jr., J. Nanomaterials, 64501, 1 (2006).
22. L. A. Riley, A. S. Cavanagh, S. M. George, S. H. Lee, and A. C. Dillon, Electrochem. Solid State Lett., 14, A29 (2011).
23. K. Leung, Y. Qi, K. R. Zavadil, Y. S. Jung, A. C. Dillon, A. S. Cavanagh, S. H. Lee, and S. M. George, J. Am. Chem. Soc., 133, 14741 (2011).
24. W. Grunert, E. S. Shpiro, R. Feldhaus, K. Anders, G. V. Antoshin, and K. M. Minachev, J. Catal., 107, 522 (1987).
25. S. P. G. Leftheriotis, P. Yianoulis, and A. Siokou, Thin Solid Films, 384, 298 (2001).