Calculating band alignment between materials with different structures: The case of anatase and rutile titanium dioxide

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 39, 2012, Pages 20765-20768

  Kang, Jun ^a   Wu, Fengmin ^b   Li, Shu Shen ^a   Xia, Jian Bai ^a   Li, Jingbo ^a,b  

^a INSTITUTE OF SEMICONDUCTORS   (China)

^b ZHEJIANG NORMAL UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BAND ALIGNMENTS; BAND OFFSETS; CONDUCTION-BAND MINIMUM; DIFFERENT STRUCTURE; PHOTOCATALYTIC ACTIVITIES;

ALIGNMENT; OXIDE MINERALS; PHOTOCATALYSIS;

TITANIUM DIOXIDE;

EID: 84867149524     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp3067525     Document Type: Article

References (33)

1. Yu, P. Y.; Cardona, M. Fundamentals of Semiconductors, 4th ed.; Springer-Verlag: Berlin, 2010.
2. Xu, Y.; Schoonen, M. A. Am. Mineral. 2000, 85, 543-556
3. Kavan, L.; Grätzel, M.; Gilbert, S. E.; Klemenz, C.; Scheel, H. J. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 6716-6723
4. Hader, J.; Koch, S. W.; Moloney, J. V.; O'Reilly, E. P. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3685-3687
5. Meng, X. Q.; Peng, H.; Gai, Y. Q.; Li, J. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 1467-1471
6. Li, J.; Wang, L.-W. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3648-3650
7. Zhang, S. B.; Wei, S.-H.; Zunger, A. Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 1232-1235
8. Kowalczyk, S. P.; Cheung, J. T.; Kraut, E. A.; Grant, R. W. Phys. Rev. Lett. 1986, 56, 1605-1608
9. Wei, S.-H.; Zunger, A. Phys. Rev. Lett. 1987, 59, 144-147
10. Wei, S.-H.; Zunger, A. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2011-2013
11. Li, Y.-H.; Walsh, A.; Chen, S.; Yin, W.-J.; Yang, J.-H.; Li, J.; Silva, J. L. F. D.; Gong, X. G.; Wei, S.-H. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 212109
12. Fujishima, A.; Honda, K. Nature (London) 1972, 238, 37-38
13. Linsebigler, A. L.; Lu, G.; Yates, J. T. Chem. Rev. 1995, 95, 735-758
14. Hoffmann, M. R.; Martin, S. T.; Choi, W.; Bahnemann, D. W. Chem. Rev. 1995, 95, 69-96
15. Gai, Y.; Li, J.; Li, S.-S.; Xia, J.-B.; Wei, S.-H. Phys. Rev. Lett. 2009, 102, 036402
16. Schleife, A.; Fuchs, F.; Rödl, C.; Furthmüller, J.; Bechstedt, F. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 012104
17. Höffling, B.; Schleife, A.; Fuchs, F.; Rödl, C.; Bechstedt, F. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 032116
18. Deák, P.; Aradi, B.; Frauenheim, T. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 3443-3446
19. Blöchl, P. E. Phys. Rev. B 1994, 50, 17953-17979
20. Kresse, G.; Joubert, D. Phys. Rev. B 1999, 59, 1758-1775
21. Kresse, G.; Hafner, J. Phys. Rev. B 1993, 47, 558-561
22. Kresse, G.; Furthmüller, J. Phys. Rev. B 1996, 54, 11169-11186
23. Van de Walle, C. G.; Neugebauer, J. Nature 2003, 423, 626-628
24. Diebold, U. Surf. Sci. Rep. 2003, 48, 53-229
25. Peng, H.; Li, J.; Li, S.-S.; Xia, J.-B. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 13964-13969
26. Deng, H.-X.; Li, S.-S.; Li, J. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 4841-4845
27. Naicker, P. K.; Cummings, P. T.; Zhang, H.; Banfield, J. F. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 15243-15249
28. Yan, Y.; Dalpian, G. M.; Al-Jassim, M. M.; Wei, S.-H. Phys. Rev. B 2004, 70, 193206
29. Vurgaftman, I.; Meyer, J. R.; Ram-Mohan, L. R. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5815-5875
30. Waldrop, J. R.; Grant, R. W.; Kraut, E. A. J. Vac. Sci. Technol., B 1993, 11, 1617-1620
31. Wang, W. I.; Stern, F. J. Vac. Sci. Technol., B 1985, 3, 1280-1284
32. Hong, S.-K.; Hanada, T.; Makino, H.; Chen, Y.; Ko, H.-J.; Yao, T.; Tanaka, A.; Sasaki, H.; Sato, S. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 3349-3351
33. Kim, B. J.; Ryu, Y. R.; Lee, T. S.; White, H. W. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 103506