Preparation, characterization, and photoelectric properties of an electrostatically self-assembled film based on tungstophosphoric acid and a binuclear Ru(II) complex

Journal of Nanoscience and Nanotechnology

Volumn 11, Issue 5, 2011, Pages 4089-4096

  Li, Lin Ying ^a   Yu, Hao Yu ^a   Lin, Na ^a   Chen, Xi ^a   Wei, Ran ^a   Wang, Ke Zhi ^a  

^a BEIJING NORMAL UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Photoelectric property; Ruthenium; Self assembled film; Tungstophosphoric acid

Indexed keywords

APPLIED POTENTIALS; CATHODIC PHOTOCURRENT; CYCLIC VOLTAMMOGRAMS; DEPOSITED LAYER; FILM DEPOSITION; METAL TO LIGAND CHARGE TRANSFERS; PHOTOCURRENT ACTION SPECTRUM; PHOTOCURRENT GENERATIONS; PHOTOELECTRIC PROPERTY; PHOTOELECTROCHEMICAL PROPERTIES; PHOTON-TO-CURRENT CONVERSION EFFICIENCY; POLYCHROMATIC LIGHTS; REDOX-ACTIVE; RU COMPLEXES; SATURATED CALOMEL ELECTRODE; SELF ASSEMBLED FILMS; TUNGSTOPHOSPHORIC ACID; UV-VIS ABSORBANCE; UV-VIS ABSORPTION SPECTROSCOPY;

CHARGE TRANSFER; CONVERSION EFFICIENCY; CYCLIC VOLTAMMETRY; PHOTOELECTRICITY; REDOX REACTIONS; RUTHENIUM; RUTHENIUM ALLOYS; ULTRAVIOLET SPECTROSCOPY;

FILM PREPARATION;

EID: 84863059487     PISSN: 15334880     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/jnn.2011.3850     Document Type: Conference Paper

References (56)

1. G. McDermott, S. M. Prince, A. A. Freer, A. M. Hawthornthwaite-Lawless, M. Z. Papiz, R. J. Cogdell, and N. W. Isaacs, Nature 374, 517(1995).
2. A. Osuka, N. Mataga, and T. Okada, Pure Appl. Chem. 69, 797(1997).
3. M. N. Paddon-Row, Acc. Chem. Res. 27, 38(1994).
4. D. Gust, T. A. Moore, and A. L. Moore, Acc. Chem. Res. 26, 198(1993).
5. M. J. Blanco, J. C. Chambron, V. Heitz, and M. Linke, Chem. Soc. Rev. 28, 293(1999).
6. G. Decher, Science 277, 1232(1997).
7. J. W. Ostrander, A. A. Mamedov, and N. A. Kotov, J. Am. Chem. Soc. 123, 1101(2001).
8. Y. J. Liu, A. B. Wang, and R. O. Claus, J. Phys. Chem. B 101, 1385(1997).
9. Y. J. Liu and R. O. Claus, Appl. Phys. 85, 417(1999).
10. D. L. Thomsen, T. Phely-Bobin, and F. Papadimitrakopoulos, J. Am. Chem. Soc. 120, 6177(1998).
11. K. Z. Wang, M. A. Haga, M. D. Hossain, H. Shindo, K. Hasebe, and H. Honjushiro, Langmuir 18, 3528(2002).
12. A. A. Umar, M. M. Salleh, and M. Yahaya, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 25, 215(2005).
13. T. Taniguchi, Y. Fukasawa, and T. Miyashita, J. Phys. Chem. B 103, 1920(1999).
14. J. P. Santos, M. E. Zaniquelii, C. Batalini, and W. F. De Giovani, J. Phys. Chem. B 105, 1780(2001).
15. J. Schmitt, G. Decher, W. J. Dressick, S. L. Brandow, R. E. Geer, R. Shashidhar, and J. M. Calvert, Adv. Mater. 9, 61(1997).
16. A. Dokoutchaev, J. T. James, S. C. Koene, S. Pathak, G. K. S. Prakash, and M. E. Thompson, Chem. Mater. 11, 2389(1999).
17. N. A. Kotov, I. Dekany, and J. H. Fendler, J. Phys. Chem. 99, 13065(1995).
18. R. F. Aroca, P. J. G. Goulet, D. S. dos Santos, Jr., R. A. Alvarez-Puebla, and O. N. Oliveira, Jr., Anal. Chem. 77, 378(2005).
19. X. Li, W. Xu, J. Zhang, H. Jia, B. Yang, B. Zhao, B. Li, and Y. Ozaki, Langmuir 20, 1298(2004).
20. P. J. G. Goulet, J. D. S. dos Santos, R. A. Alvarez-Puebla, J. O. N. Oliveira, and R. F. Aroca, Langmuir 21, 5576(2005).
21. Y. Han, S. Sukhishvili, H. Du, J. Cefaloni, and B. Smolinski, J. Nanosci. Nanotechnol. 8, 5791(2008).
22. F. Caruso, M. Spasova, V. Salgueirino-Maceira, and L. M. Liz-Marzan, Adv. Mater. 13, 1090(2001).
23. G. R. Torres, E. Dupart, C. Mingotaud, and S. Ravaine, J. Phys. Chem. B 104, 9487(2000).
24. G. R. Torres, B. Agricole, C. Mingotaud, S. Ravaine, and P. Delhaes, Langmuir 19, 4688(2003).
25. N. Fukuda, M. Mitsuishi, A. Aoki, and T. Miyashita, J. Phys. Chem. B 106, 7048(2002).
26. M. K. De Armond and G. A. Fried, Prog. Inorg. Chem. 44, 97(1997).
27. D. Abatti, M. E. Zaniquelli, Y. Iamamoto, and Y. M. Ydemori, Thin Solid Films 310, 296(1997).
28. A. Jaiswal, J. Colins, B. Agricole, P. Delhaes, and S. Ravaine, J. Colloid Interf. Sci. 261, 330(2003).
29. A. Aoki, Y. Abe, and T. Miyashita, Langmuir 15, 1463(1999).
30. B. W. Chu and V. W. Yam, Inorg. Chem. 40, 3324(2001).
31. M. A. Saab, R. Abdel-Malak, J. F. Wishart, and T. H. Ghaddar, Langmuir 23, 10807(2007).
32. X. Zou, Y. Fan, M. Zhuang, J. Peng, and K. Z. Wang, J. Nanosci. Nanotechnol. 10, 2203(2010).
33. C. C. Ju, H. Luo, and K. Z. Wang, J. Nanosci. Nanotechnol. 10, 2053(2010).
34. Y. Liu, Z. Duan, H. Zhang, X. Jiang, and J. Han, J. Org. Chem. 70, 1450(2005).
35. Y. Q. Zhang, L. H. Gao, K. Z. Wang, H. J. Gao, and Y. L. Wang, J. Nanosci. Nanotechnol. 8, 1248(2008).
36. K. Z. Wang and L. H. Gao, Mater. Res. Bull. 37, 2447(2002).
37. O. Johansen, A. W. C. Kowala, H. Mau, and W. H. F. Sasse, Aust. J. Chem. 32, 1453(1979).
38. C. J. Zhao, H. D. Lin, Z. M. Cui, X. F. Li, H. Na, and W. Xing, J. Power Sources 194, 168(2009).
39. S. D. Holmstrom, B. Karwowska, J. A. Cox, and P. J. Kulesza, J. Electroanal. Chem. 456, 239(1998).
40. R. J. Forster and T. E. Keyes, J. Phys. Chem. B 102, 10004(1998).
41. K. Winkler, D. A. Costa, A. Hayashi, and A. L. Balch, J. Phys. Chem. B 102, 9640(1998).
42. M. R. Bryce, G. Cooke, and F. M. A. Duclairoir, J. Mater. Chem. 13, 2111(2003).
43. L. Cheng and S. J. Dong, J. Electrochem. Soc. 147, 606(2000).
44. Z. L. Cheng, L. Cheng, S. J. Dong, and X. R. Yang, J. Electrochem. Soc. 148, 227(2001).
45. A. J. Bard and L. R. Faulkner, Electrochemical Methods, Fundamentals and Applications, Wiley, New York (1980), p. 522.
46. E. Laviron, J. Electrochem. Soc. 101, 19(1979).
47. K. Z. Wang, L. H. Gao, G. Y. Bai, and L. P. Jin, Inorg. Chem. 41, 3353(2002).
48. K. Sone, M. Teraguchi, T. Kaneko, T. Aoki, and M. Yag, J. Phys. Chem. C 111, 11636(2007).
49. A. D. Lang, J. Zhai, C. H. Huang, L. B. Gan, Y. L. Zhao, D. J. Zhou, and Z. D. Chen, J. Phys. Chem. B 102, 1424(1998).
50. M. K. Nazeeruddin, A. Kay, I. Rodicio, R. Humphry-Baker, E. Müller, P. Liska, N. Vlachopoulos, and M. Grätzel, J. Am. Chem. Soc. 115, 6382(1993).
51. G. R. Torres, E. Dupart, and C. Mingotaud, J. Phys. Chem. B 114, 9487(2000).
52. T. Taniguchi and Y. Fukasawa, J. Phys. Chem. B 103, 1920(1999).
53. S. Yasutomi, T. Morita, Y. Imanishi, and S. Kimura, Science 304, 1944(2004).
54. M. A. Saab, R. A. Malak, J. F. Wishart, and T. H. Ghaddar, Langmuir 23, 10807(2007).
55. S. H. Han, W. Yi, W. Lee, J. Lee, and S. H. Lee, J. Phys. Chem. C 111, 9110(2007).
56. A. Aoki, Y. Abe, and T. Miyashita, Langmuir 15, 1463(1999).