SnO 2 nanorods for light sensor and UV detector

Sensor Letters

Volumn 9, Issue 5, 2011, Pages 1643-1648

  Zhang, Hulin ^a   Hu, Chenguo ^a   Xu, Jing ^a   Wan, Buyong ^a   Zhang, Kaiyou ^a   Li, Xiaoyan ^a  

^a CHONGQING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Light sensor; Semiconductor; Stannic oxide

Indexed keywords

HIGHLY SENSITIVE; HYDROTHERMAL METHODS; INCIDENT LIGHT INTENSITY; LIGHT SENSOR; LIGHT SHIFT; NANOROD DEVICES; PHOTOCONDUCTIVE GAINS; POTENTIAL APPLICATIONS; SEMICONDUCTOR; SIMULATED SUNLIGHT; STANNIC OXIDE; UV DETECTOR; UV VISIBLE ABSORPTION SPECTRUM; ZNO FILMS;

OXIDES; SENSORS;

NANORODS;

EID: 84863029919     PISSN: 1546198X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/sl.2011.1720     Document Type: Article

References (28)

1. M. P. Lu, J. H. Song, M. Y. Lu, M. T. Chen, Y. F. Gao, L. J. Chen, and Z. L. Wang, Nano Lett. 9, 1223(2009).
2. Z. L. Wang, X. D. Wang, J. H. Song, J. Liu, and Y. F. Gao, IEEE Perv. Comp. 7, 49(2008).
3. X. D. Wang, J. H. Song, J. Liu, and Z. L. Wang, Science 316, 102(2007).
4. X. F. Duan, Y. Huang, Y. Cui, J. F. Wang, and C. M. Lieber, Nature 409, 66(2001).
5. L. Vayssieres and X. W. Sun, Sens. Lett. 6, 787(2008).
6. S. J. Guo, D. Wen, S. J. Dong, and E. K. Wang, Talanta 77, 1510(2009).
7. W. Y. Fu, Z. Xu, X. D. Bai, C. Z. Gu, and E. G. Wang, Nano Lett. 9, 921(2009).
8. B. P. Timko, T. Cohen-Karni, G. H. Yu, Q. Qing, B. Z. Tian, and C. M. Lieber, Nano Lett. 9, 914(2009).
9. B. Z. Tian, T. J. Kempa, and C. M. Lieber, Chem. Soc. Rev. 38, 16(2009).
10. T. J. Kempa, B. Tian, D. R. Kim, J. Hu, X. Zheng, and C. M. Lieber, Nano Lett. 8, 3456(2008).
11. S. Lettieri, A. Setaro, A. Bismuto, P. Maddalena, C. Baratto, E. Comini, S. Todros, and G. Sberveglieri, Sens. Lett. 6, 596(2008).
12. A. Ohtomo, M. Kawasaki, I. Ohkwbo, H. Koinuma, T. Yasuda, and Y. Sagawa, Appl. Phys. Lett. 75, 980(1999).
13. Q. Y. Lu, F. Gao, and D. Y. Zhao, Angew. Chem. Int. Edit. 41, 1932(2002).
14. Morlaes and C. M. Lieber, Science 279, 208(1998).
15. C. N. R. Rao, A. Govindaraj, F. L. Deepak, and N. A. Gunari, Appl. Phys. Lett. 78, 1853(2001).
16. X. Duan and C. M. Lieber, Adv. Mater. 12, 298(2000).
17. L. P. Qin, J. Q. Xu, X. W. Dong, Q. Y. Pan, Z. X. Cheng, Q. Xiang, and F. Li, Nanotechnology 19, 185705(2008).
18. J. S. Lee, Sim, S. K. Sim, B. Min, B, K. Cho, S. W. Kim, and S. J. Kim, J. Cryst. Growth 267, 145(2004).
19. J. M. Wu and C. H. Kuo, Thin Solid Films 517, 3870(2009).
20. T. Chen, Q. Y. Mu, Z. L. Zhou, and Y. D. Wang, Sens. Lett. 8, 243(2010).
21. H. Sugimoto, H. Tsukube, and K. Tanaka, Eur. J. Inorg. Chem. 23, 4550(2004).
22. N. Q. Jia, Q. Zhou, L. Liu, M. M. Yan, and Z. Y. Jiang, J. Electroanal. Chem. 580, 213(2005).
23. H. L. Zhang, C. G. Hu, X. S. He, H. Liu, G. J. Du, and Y. Zhang, J. Power Sources 196, 4499(2011).
24. M. T. S. Nair, P. K. Nair, R. A. Zingaro, and E. A. Meyers, J. Appl. Phys. 74, 1879(1993).
25. J. D. Prades, R. J. Diaz, F. H. Ramirez, L. F. Romero, T. Andreu, A. R. Rodriguez, A. Cornet, J. R. Morante, S. Barth, and S. Mathur, J. Phys. Chem. C 112, 14639(2008).
26. Y. Liu, C. R. Gorla, S. Liang, N. Emanetoglu, Y. Lu, H. Shen, and M. Wraback, J. Electron. Mater. 29, 69(2000).
27. M. Law, H. Kind, B. Messer, F. Kim, and P. D. Yang, Angew. Chem. Int. Edit. 41, 2405(2002).
28. J. S. Jie, W. J. Zhang, Y. Jiang, X. M. Meng, Y. Q. Li, and S. T. Lee, Nano Lett. 6, 1887(2006).