-
1
-
-
70349524665
-
-
Gong, X.; Tong, M. H.; Xia, Y. J.; Cai, W. Z.; Moon, J. S.; Cao, Y.; Yu, G.; Shieh, C. L.; Nilsson, B.; Heeger, A. J. Science 2009, 325, 1665
-
(2009)
Science
, vol.325
, pp. 1665
-
-
Gong, X.1
Tong, M.H.2
Xia, Y.J.3
Cai, W.Z.4
Moon, J.S.5
Cao, Y.6
Yu, G.7
Shieh, C.L.8
Nilsson, B.9
Heeger, A.J.10
-
3
-
-
79956010143
-
-
Collins, C. J.; Chowdhury, U.; Wong, M. M.; Yang, B.; Beck, A. L.; Dupuis, R. D.; Campbell, J. C. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3754
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.80
, pp. 3754
-
-
Collins, C.J.1
Chowdhury, U.2
Wong, M.M.3
Yang, B.4
Beck, A.L.5
Dupuis, R.D.6
Campbell, J.C.7
-
4
-
-
78649716398
-
-
Liu, K. W.; Sakurai, M.; Liao, M. Y.; Aono, M. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 19835
-
(2010)
J. Phys. Chem. C
, vol.114
, pp. 19835
-
-
Liu, K.W.1
Sakurai, M.2
Liao, M.Y.3
Aono, M.4
-
5
-
-
72649106473
-
-
Du, X. L.; Mei, Z. X.; Liu, Z. L.; Guo, Y.; Zhang, T. C.; Hou, Y. N.; Zhang, Z.; Xue, Q. K.; Kuznetsov, A. Y. Adv. Mater. 2009, 21, 4625
-
(2009)
Adv. Mater.
, vol.21
, pp. 4625
-
-
Du, X.L.1
Mei, Z.X.2
Liu, Z.L.3
Guo, Y.4
Zhang, T.C.5
Hou, Y.N.6
Zhang, Z.7
Xue, Q.K.8
Kuznetsov, A.Y.9
-
6
-
-
59349097535
-
-
Cao, P.; Wang, Z. Z.; Liu, K. H.; Xu, Z.; Wang, W. L.; Bai, X. D.; Wang, E. G. J. Mater. Chem. 2009, 19, 1002
-
(2009)
J. Mater. Chem.
, vol.19
, pp. 1002
-
-
Cao, P.1
Wang, Z.Z.2
Liu, K.H.3
Xu, Z.4
Wang, W.L.5
Bai, X.D.6
Wang, E.G.7
-
8
-
-
48449089248
-
-
Jin, Y. Z.; Wang, J. P.; Sun, B. Q.; Blakesley, J. C.; Greenham, N. C. Nano Lett. 2008, 8, 1649
-
(2008)
Nano Lett.
, vol.8
, pp. 1649
-
-
Jin, Y.Z.1
Wang, J.P.2
Sun, B.Q.3
Blakesley, J.C.4
Greenham, N.C.5
-
10
-
-
0001379015
-
-
Look, D. C.; Reynolds, D. C.; Hemsky, J. W.; Jones, R. L.; Sizelove, J. R. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 811
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 811
-
-
Look, D.C.1
Reynolds, D.C.2
Hemsky, J.W.3
Jones, R.L.4
Sizelove, J.R.5
-
11
-
-
33947581035
-
-
Endo, H.; Sugibuchi, M.; Takahashi, K.; Goto, S.; Sugimura, S.; Hane, K.; Kashiwaba, Y. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 121906
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 121906
-
-
Endo, H.1
Sugibuchi, M.2
Takahashi, K.3
Goto, S.4
Sugimura, S.5
Hane, K.6
Kashiwaba, Y.7
-
12
-
-
77649171821
-
-
Peng, S. M.; Su, Y. K.; Ji, L. W.; Wu, C. Z.; Cheng, W. B.; Chao, W. C. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 3204
-
(2010)
J. Phys. Chem. C
, vol.114
, pp. 3204
-
-
Peng, S.M.1
Su, Y.K.2
Ji, L.W.3
Wu, C.Z.4
Cheng, W.B.5
Chao, W.C.6
-
13
-
-
79551633877
-
-
Wang, G. P.; Chu, S.; Zhan, N.; Lin, Y. Q.; Chernyak, L.; Liu, J. L. Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 041107
-
(2011)
Appl. Phys. Lett.
, vol.98
, pp. 041107
-
-
Wang, G.P.1
Chu, S.2
Zhan, N.3
Lin, Y.Q.4
Chernyak, L.5
Liu, J.L.6
-
14
-
-
34248140089
-
-
Soci, C.; Zhang, A.; Xiang, B.; Dayeh, S. A.; Aplin, D. P. R.; Park, J.; Bao, X. Y.; Lo, Y. H.; Wang, D. Nano Lett. 2007, 7, 1003
-
(2007)
Nano Lett.
, vol.7
, pp. 1003
-
-
Soci, C.1
Zhang, A.2
Xiang, B.3
Dayeh, S.A.4
Aplin, D.P.R.5
Park, J.6
Bao, X.Y.7
Lo, Y.H.8
Wang, D.9
-
15
-
-
0035333303
-
-
Liang, S.; Sheng, H.; Liu, Y.; Huo, Z.; Lu, Y.; Shen, H. J. Cryst. Growth 2001, 225, 110
-
(2001)
J. Cryst. Growth
, vol.225
, pp. 110
-
-
Liang, S.1
Sheng, H.2
Liu, Y.3
Huo, Z.4
Lu, Y.5
Shen, H.6
-
16
-
-
61349195167
-
-
Zhu, H.; Shan, C. X.; Yao, B.; Li, B. H.; Zhang, J. Y.; Zhao, D. X.; Shen, D. Z.; Fan, X. W. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 20546
-
(2008)
J. Phys. Chem. C
, vol.112
, pp. 20546
-
-
Zhu, H.1
Shan, C.X.2
Yao, B.3
Li, B.H.4
Zhang, J.Y.5
Zhao, D.X.6
Shen, D.Z.7
Fan, X.W.8
-
17
-
-
80052401104
-
-
Zhang, Z. P.; von Wenckstern, H.; Schmidt, M.; Grundmann, M. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 083502
-
(2011)
Appl. Phys. Lett.
, vol.99
, pp. 083502
-
-
Zhang, Z.P.1
Von Wenckstern, H.2
Schmidt, M.3
Grundmann, M.4
-
18
-
-
77951132139
-
-
Zhu, H.; Shan, C. X.; Wang, L. K.; Zheng, J.; Zhang, J. Y.; Yao, B.; Shen, D. Z. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 7169
-
(2010)
J. Phys. Chem. C
, vol.114
, pp. 7169
-
-
Zhu, H.1
Shan, C.X.2
Wang, L.K.3
Zheng, J.4
Zhang, J.Y.5
Yao, B.6
Shen, D.Z.7
-
19
-
-
74949129997
-
-
Wang, W. J.; Shan, C. X.; Zhu, H.; Ma, F. Y.; Shen, D. Z.; Fan, X. W.; Choy, K. L. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 045102
-
(2010)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.43
, pp. 045102
-
-
Wang, W.J.1
Shan, C.X.2
Zhu, H.3
Ma, F.Y.4
Shen, D.Z.5
Fan, X.W.6
Choy, K.L.7
|