Enhancement of photoelectrochemical performance of AACVD-produced TiO 2 electrodes by microwave irradiation while preserving the nanostructure

Chemical Vapor Deposition

Volumn 18, Issue 4-6, 2012, Pages 107-111

  Tahir, Asif Ali ^a   Peiris, T A Nirmal ^a   Wijayantha, K G Upul ^a  

^a LOUGHBOROUGH UNIVERSITY   (United Kingdom)

Author keywords

AACVD; Electrodes; Microwave radiation; PEC; TiO 2

Indexed keywords

AACVD; AEROSOL-ASSISTED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITIONS; ALTERNATIVE METHODS; ANATASE PHASE; CONVENTIONAL SINTERING; CRYSTALLINITIES; FEG-SEM; FIELD EMISSION GUNS; MICROWAVE PROCESSING; MICROWAVE TREATMENT; PEC; PHOTO-ANODES; PHOTOCURRENT DENSITY; PHOTOELECTROCHEMICAL PERFORMANCE; PHOTOELECTROCHEMICALS; TIO;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ELECTROCHEMISTRY; ELECTRODES; MICROWAVE IRRADIATION; MICROWAVES; NANOSTRUCTURES; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SINTERING; SUBSTRATES; X RAY DIFFRACTION;

TITANIUM DIOXIDE;

EID: 84862138024     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201106974     Document Type: Article

References (32)

1. K. Tennakone, G. R. R. A. Kumara, K. G. U. Wijayantha, Semicond. Sci. Technol. 1996, 11, 1737.
2. K. Tennakone, G. R. R. A. Kumara, K. G. U. Wijayantha, I. R. M. Kottegoda, V. P. S. Perera, G. M. L. P. Aponsu, J. Photochem. Photobiol. A. 1997, 108, 175.
3. J. G. Canadas, L. M. Peter, K. G. U. Wijayantha, Electrochem. Commun. 2003, 5, 199.
4. K. Tennakone, K. G. U. Wijayantha, J. Photochem. Photobiol. A. 1998, 113, 89.
5. K. Tennakone, K. G. U. Wijayantha, Appl. Catal. B. 2005, 57.
6. A. B. Corradi, F. Bondioli, B. Focher, A. M. Ferrari, C. Grippo, E. Mariani, C. Villa, J. Am. Ceram. Soc. 2005, 88, 2639.
7. N. R. Mathews, M. A. C. Jacome, E. R. Morales, J. A. T. Antoniom, Phys. Status Solidi c. 2009, 6, 219.
8. P. Evans, D. W. Sheel, Surf. Coat. Techol. 2007, 201, 9319.
9. A. N. Banerjee, Nanotech. Sci. App, 2011, 4, 35.
10. G. Hyett, J. A. Darr, A. Mills, I. P. Parkin, Chem. Vap. Deposition, 2010, 16, 301.
11. T. A. N. Peiris, S. Senthilarasu, K. G. U. Wijayantha, J. Phys. Chem. C 2012, 116, 1211.
12. A. Kay, I. Cesar, M. Gratzel, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 15714.
13. M. G. Nolan, M. E. Pemble, D. W. Sheel, H. M. Yates, Thin Solid Films 2006, 515, 1956.
14. A. A. Tahir, K. G. U. Wijayantha, S. Saremi-Yarahmadi, M. Mazhar, V. McKee, Chem Mater. 2009, 21, 3763.
15. W. B. Ingler, Jr, S. U. M. Khan, Int. J. Hydrogen Energy. 2005, 30, 821.
16. S.-S. Yarahmadi, B. Vaidhyanathan, K. G. U. Wijayantha, Int. J. Hydrogen Energy. 2010, 35, 10155.
17. Q. B. Meng, K. Takahashi, X.-T. Zhang, I. Sutanto, T. N. Rao, O. Sato, A. Fujishima, H. Watanabe, T. Nakamori, M. Uragami, Langmuir, 2003, 19, 3572.
18. H. Pan, S. H. Ko, C. P. Grigoropoulos, J. Heat Transfer 2008, 130, 092404.
19. H. S. Ku, E. Siores, A. Taube, J. A. R. Ball, Comput. In. Eng. 2002, 42, 281.
20. Y. Fang, D. K. Agrawal, D. M. Roy, R. Roy, J. Mater. Res. 1992, 7, 490.
21. Z. P. Xie, J. B. Li, Y. Huang, X. Y. Kong, J. Mater. Sci. Lett. 1996, 15, 1158.
22. T. T. Meek, R. D. Blake, J. Mater. Sci. Lett. 1986, 5, 270.
23. Z.-P. Xie, X.-D. Fan, Y. Huang, J. Mater. Res. 1998, 13, 12.
24. M. Sultan, A. A. Tahir, M. Mazhar, K. G. U. Wijayantha, M. Zeller, Dalton Trans. 2011, 40, 7889.
25. C. Edusi, G. Hyett, G. Sankar, I. P. Parkin, Chem. Vap. Deposition, 2011, 17, 30.
26. J. Shi, X. Wang, Cryst. Growth Des. 2011, 11, 949.
27. C. Byun, J. W. Jang, I. T. Kim, K. S. Hong, B. W. Lee, Mater. Res. Bull. 1997, 32, 431.
28. Q. Zhang, G. Cao, Nano Today, 2011, 6, 91.
29. A. A. Tahir, K. G. U. Wijayantha, J. Photochem. Photobiol. 2010, 216, 119.
30. A. A. Tahir, M. A. Ehsan, M. Mazhar, K. G. U. Wijayantha, M. Zeller, A. D. Hunter, Chem. Mater. 2010, 22, 5084.
31. M. Batzill, Energy Environ. Sci. 2011, 4, 3275.
32. A. A. Tahir, K. G. U. Wijayantha, M. Mazhar, V. Mckee, Thin Solid Films 2010, 518, 3664.