Revisiting the structure of graphene oxide for preparing new-style graphene-based ultraviolet absorbers

Advanced Functional Materials

Volumn 22, Issue 12, 2012, Pages 2542-2549

  He, Wenhui ^a   Lu, Lehui ^a  

^a CHANGCHUN INSTITUTE OF APPLIED CHEMISTRY   (China)

Author keywords

doping; graphene oxide; photochemistry; structure property relationships; ultraviolet absorbers

Indexed keywords

APPLIED POTENTIALS; CRITICAL COMPONENT; GRAPHENE OXIDES; GRAPHENE SHEETS; INK-JET INKS; NITROGEN-DOPED; PHOTO-STABILITY; STRUCTURE AND PROPERTIES; STRUCTURE PROPERTY RELATIONSHIPS; ULTRAVIOLET ABSORBERS; UV IRRADIATION;

AZO DYES; DOPING (ADDITIVES); PHOTOCHEMICAL REACTIONS;

GRAPHENE;

EID: 84862017678     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201102998     Document Type: Article

References (68)

1. a) S. Park, R. S. Ruoff, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 217
2. b) D. R. Dreyer, S. Park, C. W. Bielawski, R. S. Ruoff, Chem. Soc. Rev. 2010, 39, 228
3. c) S. Stankovich, D. A. Dikin, G. H. B. Dommett, K. M. Kohlhaas, E. J. Zimney, E. A. Stach, R. D. Piner, S. B. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Nature 2006, 442, 282.
4. a) H. Bai, C. Li, G. Q. Shi, Adv. Mater. 2011, 23, 1089
5. b) L. L. Li, K. P. Liu, G. H. Yang, C. M. Wang, J. R. Zhang, J. J. Zhu, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 1
6. c) Z. Liu, J. T. Robinson, X. S. Sun, H. J. Dai, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 10876
7. d) H. Zhang, X. J. Lv, Y. M. Li, Y. Wang, J. H. Li, ACS Nano 2010, 4, 380
8. e) S. J. Guo, S. J. Dong, E. K. Wang, ACS Nano 2010, 4, 547.
9. a) A. Lerf, H. He, M. Forster, J. Klinowski, J. Phys. Chem. B 1998, 102, 4477
10. b) T. Szabõ, O Berkesi, P. Forgõ, K. Josepovits, Y. Sanakis, D. Petridis, I. Dékány, Chem. Mater. 2006, 18, 2740
11. c) W. Gao, L. B. Alemany, L. J. Ci, P. M. Ajayan, Nature Chem. 2009, 1, 403
12. d) J. P. Rourke, P. A. Pandey, J. J. Moore, M. Bates, I. A. Kinloch, R. J. Young, N. R. Wilson, Angew. Chem. Int. Ed. 2011, 50, 3137
13. e) W. W. Cai, R. D. Piner, F. J. Stadermann, S. Park, M. A. Shaibat, Y. Ishii, D. X. Yang, A. Velamakanni, S. J. An, M. Stoller, J. An, D. M. Chen, R. S. Ruoff, Science 2008, 321, 1815
14. f) R. Larciprete, S. Fabris, T. Sun, P. Lacovig, A. Baraldi, S. Lizzit, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 17315.
15. M. Zayat, P. Garcia-Parejo, D. Levy, Chem. Soc. Rev. 2007, 36, 1270.
16. a) D. Kundu, R. Mukherjee, J. Mater. Sci. Lett. 2003, 22, 1647
17. b) H. Sakamoto, J. Qiu, A. Makishima, Sci. Technol. Adv. Mater. 2003, 4, 69
18. c) O. K. Park, Y. S. Kang, Colloids Surf. A 2005, 261, 257.
19. a) A. Lavery, J. Provost, Recent Progress in Ink Jet Technologies II (Eds.:, E. Hanson, R. Eschbach,), IS&T, Springfield, VA 1999, pp. 400-405
20. b) W. J. Wnek, M. A. Andreottola, P. F. Doll, S. M Kelly, Handbook of Imaging Materials, 2nd revised ed. (Eds.:, A. S. Diamond, D. S. Weiss,), Marcel Dekker, New York 2002, pp. 531-602.
21. a) O. Hironori, Dyes Pigments 2001, 48, 151
22. b) B. Mahltig, H. Böttcher, K. Rauch, U. Dieckmann, R. Nitsche, T. Fritz, Thin Solid Films 2005, 485, 108.
23. a) D. Li, M. B. Müller, S. Gilje, R. B. Kaner, G. G. Wallace, Nature Nanotechnol. 2008, 3, 101
24. b) Y. X. Xu, H. Bai, G. W. Lu, C. Li, G. Q. Shi, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 5856
25. c) H. M. Sun, L. Y. Cao, L. H. Lu, Nano Res. 2011, 4, 550.
26. a) J. Kettle, T. Lamminmäki, P. A. Gane, Surf. Coat. Technol. 2010, 204, 2103
27. b) T. T. Lamminmäki, J. P. Kettle, P. J. T. Puukko, P. A. C. Gane, Ind. Eng. Chem. Res. 2011, 50, 3287.
28. a) J. F. Moudler, W. F. Stickle, P. E. Sobol, K. D. Bomben, Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer, Eden Prairie USA 1992
29. b) H. J. Shin, K. K. Kim, A. Benayad, S. M. Yoon, H. K. Park, I. S. Jung, M. H. Jin, H. K. Jeong, J. M. Kim, J. Y. Choi, Y. H. Lee, Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 1987
30. c) S. Dubin, S. Gilje, K. Wang, V. C. Tung, K. Cha, A. S. Hall, J. Farrar, R. Varshneya, Y. Yang, R. B. Kaner, ACS Nano 2010, 4, 3845
31. d) J. Q. Liu, Z. Q. Lin, T. J. Liu, Z. Y. Yin, X. Z. Zhou, S. F. Chen, L. H. Xie, F. Boey, H. Zhang, W. Huang, Small 2010, 6, 1536.
32. C. Z. Zhu, S. J. Guo, Y. X. Fang, S. J. Dong, ACS Nano 2011, 4, 2429.
33. X. B. Fan, W. C. Peng, Y. Li, X. Y. Li, S. L. Wang, G. L. Zhang, F. B. Zhang, Adv. Mater. 2008, 20, 4490.
34. H. K. Jeong, Y. P. Lee, M. H. Jin, E. S. Kim, J. J. Bae, Y. H. Lee, Chem. Phys. Lett. 2009, 470, 255.
35. a) J. I. Paredes, S. Villar-Rodil, A. Martinez-Alonso, J. M. D. Tascon, Langmuir 2008, 24, 10560
36. b) V. Abdelsayed, S. Moussa, H. M. Hassan, H. S. Aluri, M. M. Collinson, M. S. El-Shall, J. Phys. Chem. Lett. 2010, 1, 2804.
37. C. D. Zangmeister, Chem. Mater. 2010, 22, 5625.
38. K. H. Liao, A. Mittal, S. Bose, C. Leighton, K. A. Mkhoyan, C. W. Macosko, ACS Nano 2011, 5, 1253.
39. a) N. Kuramoto, T. Kitao, J. Soc. Dyers Colour. 1982, 98, 334
40. b) P. Bortolus, S. Monti, J. Org. Chem. 1989, 54, 534.
41. E. Arunkumar, C. C. Forbes, B. D. Smith, Eur. J. Org. Chem. 2005, 2005, 4051.
42. a) X. H. Wang, J. G. Li, H. Kamiyama, Y. Moriyoshi, T. Ishigaki, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 6804
43. b) Y. J. Xu, Y. B. Zhuang, X. Z. Fu, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 2669.
44. A. H. Kehayoglou, E. G. Tsatsaroni, I. C. Eleftheriadis, K. C. Loufakis, L. E. Kyriazis, Dyes Pigments. 1997, 34, 207.
45. a) J. E. A. Otterstedt, J. Chem. Phys. 1973, 58, 5716
46. b) M. Wiechmann, H. Port, F. Laermer, W. Frey, T. Elsaesser, Chem. Phys. Lett. 1990, 165, 28.
47. a) J. Catalán, J. C. D. Valle, F. Fabero, N. A. Garcia, Photochem. Photobiol. 1995, 61, 118
48. b) J. Q. Pan, W. W. Y. Lau, Z. F. Zhang, X. Z. Hu, Polym. Degrad. Stab. 1996, 53, 153.
49. a) Z. Xiong, L. L. Zhang, J. Ma, X. S. Zhao, Chem. Commun. 2010, 6099
50. b) Z. Xiong, L. L. Zhang, X. S. Zhao, Chem. Eur. J. 2011, 17, 2428.
51. a) Y. Park, V. Choong, Y. Gao, B. R. Hsieh, C. W. Tang, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 2699
52. b) X. C. Wu, Y. R. Tao, Q. X. Gao, Nano Res. 2009, 2, 558.
53. X. Wang, L. J. Zhi, K. Mullen, Nano Lett. 2007, 8, 323.
54. A. Hagfeldt, M. Graetzel, Chem. Rev. 1995, 95, 49.
55. W. Yang, T. P. Fellinger, M. Antonietti, J. Am. Chem. Soc. 2010, 133, 206.
56. M. Sadeghi, W. Liu, T. G. Zhang, P. Stavropoulos, B. Levy, J. Phys. Chem. 1996, 100, 19466.
57. a) L. J. Yang, S. J. Jiang, Y. Zhao, L. Zhu, S. Chen, X. Z. Wang, Q. Wu, J. Ma, Y. W. Ma, Z. Hu, Angew. Chem. Int. Ed. 2011, 50, 7132
58. b) L. T. Qu, Y. Liu, J. B. Baek, L. M. Dai, ACS Nano 2010, 4, 1321.
59. X. L. Li, H. L. Wang, J. T. Robinson, H. Sanchez, G. Diankov, H. G. Dai, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 15939.
60. S. B. Yang, X. L. Feng, X. C. Wang, K. Müllen, Angew. Chem. Int. Ed. 2011, 50, 5339.
61. R. Steiger, P. A. Brugger, Recent Progress in Ink Jet Technologies II (Eds.:, E. Hanson, R. Eschbach,), IS&T, Springfield, VA 1999, pp. 321-324.
62. a) V. Dua, S. P. Surwade, S. Ammu, S. R. Agnihotra, S. Jain, K. E. Roberts, S. Park, R. S. Ruoff, S. K. Manohar, Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 2154
63. b) K. Y. Shin, J. Y. Hong, J. Jang, Adv. Mater. 2011, 23, 2113.
64. a) C. Yoon, J. H. Choi, Color. Technol. 2008, 124, 355
65. b) C. Yoon, J. H. Choi, Color. Technol. 2011, 127, 186.
66. a) L. C. Abbott, S. N. Batchelor, J. R. L. Smith, J. N. Moore, J. Phys. Chem. A 2009, 113, 6091
67. b) N. Kuramoto, T. Kitao, J. Soc. Dyers Colour. 1982, 98, 334.
68. W. S. Hummers, R. E. Offeman, J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 1339.