Nanocrystalline thin films of Cu, Cuo and Cu 2O synthesized by electroless deposition

Science of Advanced Materials

Volumn 4, Issue 1, 2012, Pages 23-28

  Sharma, Rahul ^a   Hahn, Yoon Bong ^a  

^a Chonbuk National University   (South Korea)

Author keywords

Copper and copper oxides; Electroless deposition; Nanocrystalline; Thin films

Indexed keywords

EID: 84859986461     PISSN: 19472935     EISSN: 19472943     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/sam.2012.1246     Document Type: Article

References (30)

1. K. P. Musselman, A. Wisnet, D. C. Iza, H. C. Hesse, C. Scheu, J. L. MacManus-Driscoll, and L. S. Mende, Adv. Mater. 22, E254 (2010).
2. L. Kleiman and K. Mudnick, Physica Review B 21/8, 3478 (1980).
3. J. F. Pierson, A. Thobor-Keck, and A. Billard, Appl. Surf. Sci. 210, 359 (2003).
4. S. C. Ray, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 68/3-4, 307 (2001).
5. T. D. Golden, M. G. Shumsky, Y. Zhou, R. A. VanderWerf, R. A. V. Leeuwen, and J. A. Switzer, Chem. Mater. 8, 2499 (1996).
6. P. E. de Jongh, D. Vanmaekelbergh, and J. Kelly, Chem. Mater. 11, 3512 (1999).
7. A. S. Reddy, S. Uthanna, and P. S. Reddy, Appl. Surf. Sci. 253, 5287 (2007).
8. A. A. Ogwu, T. H. Darma, and E. Bouquerel, J. Achievements in Materials and Manufacturing Engineering 24, 171 (2007).
9. T. J. Richardson, J. L. Slack, and M. D. Rubin, Electrochim. Acta 46, 2281 (2001).
10. B. O'Regan and M. Gretzel, Nature 353, 737 (1991).
11. M. Vaseem, A. Umar, Y. B. Hahn, D. H. Kim, K. S. Lee, J. S. Jang, and J. S. Lee, Catal. Commun. 10, 11 (2008).
12. R. Motoyoshi, T. Oku, H. Kidowaki, A. Suzuki, K. Kikuchi, S. Kikuchi, and B. Jeyadevan, J. Ceram. Soc. Jpn. 118, 1021 (2010).
13. J. A. Switzer, H. M. Kothari, P. Poizot, S. Nakanishi, and E. W. Bohannan, Nature 425, 490 (2003).
14. A. Chowdhuri, V. Gupta, K. Sreenivas, R. Kumar, S. Mozumdar, and P. K. Patanjali, Appl. Phys. Lett. 84, 1180 (2004).
15. C. T. Hsieh, J. M. Chen, H. H. Lin, and H. C. Shih, Appl. Phys. Lett. 83, 3383 (2003).
16. X. G. Wen, Y. T. Xie, C. L. Choi, K. C. Wan, X. Y. Li, and S. H. Yang, Langmuir 21, 4729 (2005).
17. L. S. Huang, S. G. Yang, T. Li, B. X. Yu, Y. W. Du, Y. N. Lu, and S. Z. Shi, J. Cryst. Growth 260, 130 (2004).
18. S. Peulon and D. Lincot, Adv. Mater. 8, 166 (1996).
19. J. H. Ho and R. W. Vook, Phila. Mag. 36, 105 (1997).
20. N. Kikuchi and K. Tanooka, Thin Solid Films 486, 33 (2005).
21. R. Kita, K. Kawaguchi, T. Hase, T. Koga, R. Itti, and T. Morishita, J. Mater. Res. 9, 1280 (1994).
22. M. Izaki, S. Watase, and H. Takahashi, Adv. Mater. 15, 2000 (2003).
23. R. Sharma, R. C. Agarwala, and V. Agarwala, Appl. Surf. Sci. 252, 8487 (2006).
24. L. Arnelao, D. Barreca, M. Bertapelle, Y. Battao, C. Sada, and E. Tandello, Thin Solid Films 442, 48 (2003).
25. B. Johnson, R. Amster, and L. Vanasupa, J. Electron. Mater. 27, 923 (1998).
26. H. T. Ng, S. F. Y. Li, L. Chan, F. C. Loh, and K. L. Tan, J. Electrochem. Soc. 145, 3301 (1998).
27. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sool, and K. D. Bomber, Handbook of X ray Photoelectron Spectroscopy, Perkin-Elmer, Eder Prairie (1992).
28. G. W. Arnold, G. De Marchi, F. Gonella, P. Mazzoldi, A. Quaranta, G. Battaglin, M. Catalano, F. Garrido, and R. F. Haglund, Nucl. Instrum. Methods B 116, 507 (1996).
29. A. Oliver, J. C. Cheang-Wong, J. Roiz, J. M. Hernandez, L. Rodriguez-Fernandez, and A. Crespo, Nucl. Instr. Methods Phys. Res. B 495, 175 (2001).
30. K. Tanaka, T. Yano, S. Shibata, M. Yamane, and S. Inoue, J. Non- Cryst. Solids 178, 9 (1994).