-
1
-
-
4243097369
-
-
Onda, T.; Shibuichi, S.; Satoh, N.; Tsujii, K. Langmuir 1996, 12, 2125-2127
-
(1996)
Langmuir
, vol.12
, pp. 2125-2127
-
-
Onda, T.1
Shibuichi, S.2
Satoh, N.3
Tsujii, K.4
-
2
-
-
57249114455
-
-
Nakajima, A.; Hashimoto, K.; Watanabe, T. Monatsh. Chem. 2001, 132, 31-41
-
(2001)
Monatsh. Chem.
, vol.132
, pp. 31-41
-
-
Nakajima, A.1
Hashimoto, K.2
Watanabe, T.3
-
6
-
-
33748284847
-
-
Choi, C.-H.; Ulmanella, U.; Kim, J.; Ho, C.-M.; Kim, C.-J. Phys. Fluids 2006, 18, 087105
-
(2006)
Phys. Fluids
, vol.18
, pp. 087105
-
-
Choi, C.-H.1
Ulmanella, U.2
Kim, J.3
Ho, C.-M.4
Kim, C.-J.5
-
7
-
-
53549096520
-
-
Zhang, F.; Zhao, L.; Chen, H.; Xu, S.; Evans, D. G.; Duan, X. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 2466-2469
-
(2008)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.47
, pp. 2466-2469
-
-
Zhang, F.1
Zhao, L.2
Chen, H.3
Xu, S.4
Evans, D.G.5
Duan, X.6
-
8
-
-
70449379836
-
-
Cao, L.; Jones, A. K.; Sikka, V. K.; Wu, J.; Gao, D. Langmuir 2009, 25, 12444-12448
-
(2009)
Langmuir
, vol.25
, pp. 12444-12448
-
-
Cao, L.1
Jones, A.K.2
Sikka, V.K.3
Wu, J.4
Gao, D.5
-
9
-
-
84857375833
-
-
In, Denver, Colorado, November 11-17, IMECE2011-63282.
-
Sarshar, M. A.; Swarctz., C.; Hunter., S.; Simpson., J.; Choi., C.-H. In Proceedings of ASME IMECE, Denver, Colorado, November 11-17, 2011, IMECE2011-63282.
-
(2011)
Proceedings of ASME IMECE
-
-
Sarshar, M.A.1
Swarctz, C.2
Hunter, S.3
Simpson, J.4
Choi, C.-H.5
-
10
-
-
79951927912
-
-
Xu, W.; Leeladhar, R.; Tsai, Y.-T.; Yang, E.-H.; Choi, C.-H. Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 073101
-
(2011)
Appl. Phys. Lett.
, vol.98
, pp. 073101
-
-
Xu, W.1
Leeladhar, R.2
Tsai, Y.-T.3
Yang, E.-H.4
Choi, C.-H.5
-
12
-
-
34547343487
-
-
Li, X.-M.; Reinhoudt, D.; Crego-Calama, M. Chem. Soc. Rev. 2007, 36, 1350-1368
-
(2007)
Chem. Soc. Rev.
, vol.36
, pp. 1350-1368
-
-
Li, X.-M.1
Reinhoudt, D.2
Crego-Calama, M.3
-
13
-
-
38349088309
-
-
Roach, P.; Shirtcliffe, N. J.; Newton, M. I. Soft Matter 2008, 4, 224-240
-
(2008)
Soft Matter
, vol.4
, pp. 224-240
-
-
Roach, P.1
Shirtcliffe, N.J.2
Newton, M.I.3
-
16
-
-
0037162575
-
-
Yoshimitsu, Z.; Nakajima, A.; Watanabe, T.; Hashimoto, K. Langmuir 2002, 18, 5818-5822
-
(2002)
Langmuir
, vol.18
, pp. 5818-5822
-
-
Yoshimitsu, Z.1
Nakajima, A.2
Watanabe, T.3
Hashimoto, K.4
-
19
-
-
0005656995
-
-
Jessensky, O.; Muller, F.; Gosele, U. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1173-1175
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.72
, pp. 1173-1175
-
-
Jessensky, O.1
Muller, F.2
Gosele, U.3
-
20
-
-
0542446392
-
-
Li, F.; Zhang, L.; Metzger, R. M. Chem. Mater. 1998, 10, 2470-2480
-
(1998)
Chem. Mater.
, vol.10
, pp. 2470-2480
-
-
Li, F.1
Zhang, L.2
Metzger, R.M.3
-
21
-
-
24644504140
-
-
Chu, S. Z.; Wada, K.; Inoue, S.; Isogai, M.; Yasumori, A. Adv. Mater. 2005, 17, 2115-2119
-
(2005)
Adv. Mater.
, vol.17
, pp. 2115-2119
-
-
Chu, S.Z.1
Wada, K.2
Inoue, S.3
Isogai, M.4
Yasumori, A.5
-
25
-
-
0032207198
-
-
Masuda, H.; Yada, K.; Osaka, A. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 1998, 37, L1340-L1342
-
(1998)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
, vol.37
-
-
Masuda, H.1
Yada, K.2
Osaka, A.3
-
26
-
-
0000848295
-
-
Li, A. P.; Muller, F.; Birner, A.; Nielsch, K.; Gosele, U. J. Appl. Phys. 1998, 84, 6023-6026
-
(1998)
J. Appl. Phys.
, vol.84
, pp. 6023-6026
-
-
Li, A.P.1
Muller, F.2
Birner, A.3
Nielsch, K.4
Gosele, U.5
-
27
-
-
33748262432
-
-
Lee, W.; Ji, R.; Gosele, U.; Nielsch, K. Nat. Mater. 2006, 5, 741-747
-
(2006)
Nat. Mater.
, vol.5
, pp. 741-747
-
-
Lee, W.1
Ji, R.2
Gosele, U.3
Nielsch, K.4
-
28
-
-
3042747103
-
-
Ono, S.; Saito, M.; Asoh, H. Electrochem. Solid-State Lett. 2004, 7, B21
-
(2004)
Electrochem. Solid-State Lett.
, vol.7
, pp. 21
-
-
Ono, S.1
Saito, M.2
Asoh, H.3
-
29
-
-
35748964150
-
-
Lee, W.; Nielsch, K.; Gosele, U. Nanotechnology 2007, 18, 475713
-
(2007)
Nanotechnology
, vol.18
, pp. 475713
-
-
Lee, W.1
Nielsch, K.2
Gosele, U.3
-
30
-
-
77950539368
-
-
Zhang, R.; Jiang, K.; Ding, G. Thin Solid Films 2010, 518, 3797-3800
-
(2010)
Thin Solid Films
, vol.518
, pp. 3797-3800
-
-
Zhang, R.1
Jiang, K.2
Ding, G.3
-
31
-
-
33748677499
-
-
Yang, C.; Tartaglino, U.; Persson, B. N. J. Phys. Rev. Lett. 2006, 97, 116103
-
(2006)
Phys. Rev. Lett.
, vol.97
, pp. 116103
-
-
Yang, C.1
Tartaglino, U.2
Persson, B.N.J.3
-
32
-
-
75749136974
-
-
Lee, W.; Park, B. G.; Kim, D. H.; Ahn, D. J.; Park, Y.; Lee, S. H.; Lee, K. B. Langmuir 2009, 26, 1412-1415
-
(2009)
Langmuir
, vol.26
, pp. 1412-1415
-
-
Lee, W.1
Park, B.G.2
Kim, D.H.3
Ahn, D.J.4
Park, Y.5
Lee, S.H.6
Lee, K.B.7
-
33
-
-
0347992816
-
-
Lau, K.; Bico, J.; Teo, K.; Chhowalla, M.; Amaratunga, G.; Milne, W.; McKinley, G.; Gleason, K. Nano Lett. 2003, 3, 1701-1705
-
(2003)
Nano Lett.
, vol.3
, pp. 1701-1705
-
-
Lau, K.1
Bico, J.2
Teo, K.3
Chhowalla, M.4
Amaratunga, G.5
Milne, W.6
McKinley, G.7
Gleason, K.8
-
34
-
-
9644258567
-
-
Fan, J.-G.; Dyer, D.; Zhang, G.; Zhao, Y.-P. Nano Lett. 2004, 4, 2133-2138
-
(2004)
Nano Lett.
, vol.4
, pp. 2133-2138
-
-
Fan, J.-G.1
Dyer, D.2
Zhang, G.3
Zhao, Y.-P.4
-
36
-
-
80055006670
-
-
Drelich, J.; Chibowski, E.; Meng, D. D.; Terpilowski, K. Soft Matter 2011, 7, 9804-9828
-
(2011)
Soft Matter
, vol.7
, pp. 9804-9828
-
-
Drelich, J.1
Chibowski, E.2
Meng, D.D.3
Terpilowski, K.4
-
37
-
-
0032098211
-
-
Srinivasan, U.; Houston, M. R.; Howe, R. T.; Maboudian, R. J. Microelectromech. Syst. 1998, 7, 252-259
-
(1998)
J. Microelectromech. Syst.
, vol.7
, pp. 252-259
-
-
Srinivasan, U.1
Houston, M.R.2
Howe, R.T.3
Maboudian, R.4
-
40
-
-
33947165336
-
-
Barbieri, L.; Wagner, E.; Hoffmann, P. Langmuir 2007, 23, 1723-1734
-
(2007)
Langmuir
, vol.23
, pp. 1723-1734
-
-
Barbieri, L.1
Wagner, E.2
Hoffmann, P.3
-
42
-
-
70349776270
-
-
Lai, Y.; Gao, X.; Zhuang, H.; Huang, J.; Lin, C.; Jiang, L. Adv. Mater. 2009, 21, 3799
-
(2009)
Adv. Mater.
, vol.21
, pp. 3799
-
-
Lai, Y.1
Gao, X.2
Zhuang, H.3
Huang, J.4
Lin, C.5
Jiang, L.6
-
43
-
-
65249188261
-
-
Ran, C.; Ding, G.; Liu, W.; Deng, Y.; Hou, W. Langmuir 2008, 24, 9952-9955
-
(2008)
Langmuir
, vol.24
, pp. 9952-9955
-
-
Ran, C.1
Ding, G.2
Liu, W.3
Deng, Y.4
Hou, W.5
-
44
-
-
4344618765
-
-
Brevnov, D. A.; Barela, M. J.; Brooks, M. J.; Lopez, G. P.; Atanassov, P. B. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, B484
-
(2004)
J. Electrochem. Soc.
, vol.151
, pp. 484
-
-
Brevnov, D.A.1
Barela, M.J.2
Brooks, M.J.3
Lopez, G.P.4
Atanassov, P.B.5
-
45
-
-
33646814025
-
-
Kemell, M.; Farm, E.; Leskela, M.; Ritala, M. Phys. Status Solidi A 2006, 203, 1453-1458
-
(2006)
Phys. Status Solidi A
, vol.203
, pp. 1453-1458
-
-
Kemell, M.1
Farm, E.2
Leskela, M.3
Ritala, M.4
-
46
-
-
79953645034
-
-
Kim, D. H.; Kim, Y.; Kim, B. M.; Ko, J. S.; Cho, C. R.; Kim, J. M. J. Micromech. Microeng. 2011, 21, 045003
-
(2011)
J. Micromech. Microeng.
, vol.21
, pp. 045003
-
-
Kim, D.H.1
Kim, Y.2
Kim, B.M.3
Ko, J.S.4
Cho, C.R.5
Kim, J.M.6
-
47
-
-
43849097729
-
-
Wang, H.; Dai, D.; Wu, X. Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 5599-5601
-
(2008)
Appl. Surf. Sci.
, vol.254
, pp. 5599-5601
-
-
Wang, H.1
Dai, D.2
Wu, X.3
-
48
-
-
24944546596
-
-
Ruan, C.; Paulose, M.; Varghese, O. K.; Mor, G. K.; Grimes, C. A. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 15754-15759
-
(2005)
J. Phys. Chem. B
, vol.109
, pp. 15754-15759
-
-
Ruan, C.1
Paulose, M.2
Varghese, O.K.3
Mor, G.K.4
Grimes, C.A.5
-
49
-
-
29444443902
-
-
Wu, X.; Bai, H.; Zhang, J.; Chen, F. e.; Shi, G. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 22836-22842
-
(2005)
J. Phys. Chem. B
, vol.109
, pp. 22836-22842
-
-
Wu, X.1
Bai, H.2
Zhang, J.3
F, E.C.4
Shi, G.5
|