Assembly behavior of iron oxide-capped Janus particles in a magnetic field

Langmuir

Volumn 28, Issue 2, 2012, Pages 1149-1156

  Ren, Bin ^a   Ruditskiy, Aleksey ^a   Song, Jung Hun ^a   Kretzschmar, Ilona ^a  

^a CITY UNIVERSITY OF NEW YORK   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ASSEMBLY TIME; CAP THICKNESS; CHAIN GROWTH; DOUBLE CHAIN; EXTERNAL MAGNETIC FIELD; FINAL ASSEMBLY; IRON OXIDATION; JANUS PARTICLES; KEY PARAMETERS; PARTICLE VOLUME FRACTIONS; SCANNING ELECTRONS;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DEPOSITION RATES; IRON; MAGNETIC FIELDS; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION;

IRON OXIDES;

EID: 84855918946     PISSN: 07437463     EISSN: 15205827     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la203969f     Document Type: Article

References (50)

1. Kretzschmar, I.; Song, J. H. K. Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 2011, 16, 84
2. Dyab, A. K. F.; Ozmen, M.; Ersozb, M.; Paunov, V. N. J. Mater. Chem. 2009, 19, 3475
3. Yuet, K. P.; Hwang, D. K.; Haghgooie, R.; Doyle, P. S. Langmuir 2009, 26, 4281
4. Tartaj, P. Curr. Nanosci. 2006, 2, 43
5. Ghosh, A.; Sheridon, N. K.; Fischer, P. Small 2008, 4, 1956
6. Erb, R. M.; Jenness, N. J.; Clark, R. L.; Yellen, B. B. Adv. Mater. 2009, 21, 4825
7. Anker, J. N.; Koppelman, R. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1102
8. Smoukov, S. K.; Gangwal, S.; Marquez, M.; Velev, O. D. Soft Matter 2009, 5, 1285
9. Behrend, C. J.; Anker, J. N.; Kopelman, R. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 154
10. Takei, H.; Shimizu, N. Langmuir 1997, 13, 1865
11. Cameron, L.; Footer, M.; van Oudenaarden, A.; Theriot, J. Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 1999, 96, 4908
12. Link, J. R.; Sailor, M. J. Proc. Natl. Acad. Sci. U. S. A. 2003, 100, 10607
13. Crowley, J. M.; K.Sheridon, N.; Romano, L. J. Electrostat. 2002, 55, 247
14. Nisisako, T.; Torii, T.; Takahashi, T.; Takizawa, Y. Adv. Mater. 2006, 18, 1152
15. Sheridon, N. In Flexible Flat Panel Displays; Crawford, G., Ed.; John Wiley and Sons: New York, 2005; Vol. 20, p 393.
16. Liu, Y. D.; Kim, J. E.; Choi, H. J. Macromol. Rapid Commun. 2011, 32, 881
17. Fang, F. F.; Liu, Y. D.; Choi, H. J.; Seo, Y. ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 3487
18. McNaughton, B. H.; Agayan, R. R.; Wang, J. X.; Kopelman, R. Sens. Actuators, B 2007, 121, 330
19. Chen, C.-H.; Abate, A. R.; Lee, D.; Terentjev, E. M.; Weitz, D. A. Adv. Mater. 2009, 21, 3201
20. Paunov, V. N.; Cayre, O. J. Adv. Mater. 2004, 16, 788
21. Suzuki, D.; Kawaguchi, H. Colloid Polym. Sci. 2006, 284, 1471
22. Gangwal, S.; Cayre, O. J.; Velev, O. D. Langmuir 2008, 24, 13312
23. Gangwal, S.; Cayre, O. J.; Bazant, M. Z.; Velev, O. D. Phys. Rev. Lett. 2008, 100, 058302
24. Kim, S.-H.; Sim, J. Y.; Lim, J.-M.; Yang, S.-M. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 3786
25. Gangwal, S.; Pawar, A. B.; Kretzschmar, I.; Velev, O. D. Soft Matter 2010, 6, 1413
26. Kavich, D. W.; Hasan, S. A.; Mahajan, S. V.; Park, J.-H.; Dickerson, J. H. Nanoscale Res. Lett. 2010, 5, 1540
27. Caricato, A. P.; Gorbachuk, N. T.; Korduban, A. M.; Leggieri, G.; Luches, A.; Mengucci, P.; Mulenko, S. A.; Valerini, D. J. Vacuum Sci. Technol., B 2010, 28, 295
28. Park, B. J.; Fang, F. F.; Choi, H. J. Soft Matter 2010, 6, 5246
29. Mi, W. B.; Liu, H.; Li, Z. Q.; Wu, P.; Jiang, E. Y.; Bai, H. L. J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 5109
30. Kim, K. J.; Moon, D. W.; Lee, S. K.; Jung, K.-H. Thin Solid Films 2000, 360, 118
31. Greenwood, N. N.; Howe, A. T. J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1972, 116
32. Dimitrov, D. V.; Hadjipanayis, G. C.; Papaefthymiou, V.; Simopoulos, A. IEEE Trans. Magn. 1997, 33, 4363
33. Dimitrov, D. V.; Hadjipanayis, G. C.; Papaefthymiou, V.; Simopoulos, A. J. Vacuum Sci. Technol., A 1997, 15, 1473
34. Kim, Y. K.; Oliveria, M. J. Appl. Phys. 1994, 75, 431
35. Pan, L.; Zhang, G.; Fan, C.; Qiu, H.; Wu, P.; Wang, F.; Zhang, Y. Thin Solid Films 2005, 473, 63
36. Mei, Y.; Zhou, Z.-J.; Luo, H. L. J. Appl. Phys. 1987, 61, 4388
37. Aronniemi, M.; Lahtinen, J.; Hautojärvi, P. Surf. Interface Anal. 2004, 36, 1004
38. Handbook of Chemistry and Physics, 79 th ed.; CRC Press: Boca Raton, FL, 1998.
39. Prevo, B. G.; Velev, O. D. Langmuir 2004, 20, 2099
40. Song, J. H.; Kretzschmar, I. ACS Appl. Mater. Interfaces 2009, 1, 1747
41. OHanlon, J. F. A Users Guide to Vacuum Technology, 3 rd ed.; John Wiley & Sons, Inc.: Hoboken, NJ, 2003.
42. Chertihin, G. V.; Saffel, W.; Yustein, J. T.; Andrews, L.; Neurock, M.; Ricca, A.; Bauschlicher, C. W. J. Phys. Chem. 1996, 100, 5261
43. Mitchell, S. A.; Hackett, P. A. J. Chem. Phys. 1990, 93, 7822
44. Davies, M. H.; Simnad, M. T.; Birchenall, C. E. J. Met. 1951, 3, 889
45. Slattery, J. C.; Peng, K.-Y.; Gadalla, A. M.; Gadalla, N. Ind. Eng. Chem. Res. 1995, 34, 3405
46. Pullaiah, G.; Irving, E.; Buchan, K. L.; Dunlop, D. J. Earth Planet. Sci. Lett. 1975, 28, 133
47. Graat, P. C. J.; Somers, M. A. J.; Vredenberg, A. M.; Mittemeijer, E. J. J. Appl. Phys. 1997, 82, 1416
48. Roosendaal, S. J.; Vredenberg, A. M.; Habraken, F. H. P. M. Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 3366
49. Song, J. H. PhD Thesis, City College of New York, 2009.
50. Gengnagel, H.; Arrott, A. J. Appl. Phys. 1968, 39, 669