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Su, C.-Y.1
Goforth, A.M.2
Smith, M.D.3
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Zur Loye, H.-C.5
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Deng, H.2
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Yang, S.4
Zeller, M.5
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Wu, H.7
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Zhao, H.1
Qu, Z.-R.2
Ye, H.-Y.3
Xiong, R.-G.4
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Blake, J.1
Champness, N.R.2
Chung, S.S.M.3
Li, W.-S.4
Schroder, M.5
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34
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0037423445
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Tong, M.-L.; Li, L.-J.; Mochizuki, K.; Chang, H.-C.; Chen, X.-M.; Li, Y.; Kitagawa, S. Chem. Commun. 2003, 428
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Tong, M.-L.1
Li, L.-J.2
Mochizuki, K.3
Chang, H.-C.4
Chen, X.-M.5
Li, Y.6
Kitagawa, S.7
-
36
-
-
83055187313
-
-
version 6.02; Bruker AXS: Madison, WI.
-
SAINT, version 6.02; Bruker AXS: Madison, WI, 1999.
-
(1999)
SAINT
-
-
-
38
-
-
83055167843
-
-
version 5.1; Siemens Industrial Automation Inc. Madison, WI.
-
XPREP, version 5.1; Siemens Industrial Automation Inc.: Madison, WI, 1995.
-
(1995)
XPREP
-
-
-
41
-
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35848937581
-
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Luo, J.; Zhao, Y.; Xu, H.; Kinnibrugh, T. L.; Yang, D.; Timofeeva, T. V.; Daemen, L. L.; Zhang, J.; Bao, W.; Thompson, J. D.; Currier, R. P. Inorg. Chem. 2007, 46, 9021
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(2007)
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Luo, J.1
Zhao, Y.2
Xu, H.3
Kinnibrugh, T.L.4
Yang, D.5
Timofeeva, T.V.6
Daemen, L.L.7
Zhang, J.8
Bao, W.9
Thompson, J.D.10
Currier, R.P.11
-
42
-
-
34250354077
-
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Lisnard, L.; Mialane, P.; Dolbecq, A.; Marrot, J.; Clemente-Juan, J. M.; Coronado, E.; Keita, B.; de Oliveira, P.; Nadjo, L.; Sécheresse, F. Chem.-Eur. J. 2007, 13, 3525
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-
Lisnard, L.1
Mialane, P.2
Dolbecq, A.3
Marrot, J.4
Clemente-Juan, J.M.5
Coronado, E.6
Keita, B.7
De Oliveira, P.8
Nadjo, L.9
Sécheresse, F.10
-
43
-
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78549270498
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Wei, G.1
Shen, Y.-F.2
Li, Y.-R.3
Huang, X.-C.4
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Bera, J.K.1
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Wang, X.-L.1
Lin, H.-Y.2
Mu, B.3
Tian, A.-X.4
Liu, G.-C.5
Hu, N.-H.6
-
48
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61549143323
-
-
Qi, Y.; Che, Y.-X.; Zheng, J.-M. Cryst. Growth Des. 2008, 8, 3602-3608
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(2008)
Cryst. Growth Des.
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, pp. 3602-3608
-
-
Qi, Y.1
Che, Y.-X.2
Zheng, J.-M.3
-
49
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79955856356
-
-
Liu, B.; Hou, L.; Wang, Y.-Y.; Zhang, Y.-N.; Cui, L.; Shi, Q.-Z. Inorg. Chem. Commun. 2011, 14, 822-825
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-
Liu, B.1
Hou, L.2
Wang, Y.-Y.3
Zhang, Y.-N.4
Cui, L.5
Shi, Q.-Z.6
-
50
-
-
79958008754
-
-
Mu, Y.; Fu, J.; Song, Y.; Li, Z.; Hou, H.; Fan, Y. Cryst. Growth Des. 2011, 11, 2183-2193
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(2011)
Cryst. Growth Des.
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-
Mu, Y.1
Fu, J.2
Song, Y.3
Li, Z.4
Hou, H.5
Fan, Y.6
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51
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53249142635
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Dinca, M.; Long, J. R. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 6766
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, pp. 6766
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Dinca, M.1
Long, J.R.2
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Dolomanov, O.V.1
Blake, A.J.2
Champness, N.R.3
Schroder, M.4
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0035959049
-
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(2001)
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McGarrah, J.E.1
Kim, Y.J.2
Hissler, M.3
Eisenberg, R.4
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54
-
-
0033798456
-
-
Wu, Q.; Esteghamatian, M.; Hu, N. X.; Popovic, Z.; Enright, G.; Tao, Y.; D'Iorio, M.; Wang, S. Chem. Mater. 2000, 12, 79
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(2000)
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Wu, Q.1
Esteghamatian, M.2
Hu, N.X.3
Popovic, Z.4
Enright, G.5
Tao, Y.6
D'Iorio, M.7
Wang, S.8
-
55
-
-
18244408556
-
-
Lee, E. Y.; Jang, S. Y.; Suh, M. P. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 6374
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Lee, E.Y.1
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39749093790
-
-
Li, S. L.; Lan, Y. Q.; Ma, J. F.; Yang, J.; Wei, G. H.; Zhang, L. P.; Su, Z. M. Cryst. Growth Des. 2008, 8, 675
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Li, S.L.1
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Ma, J.F.3
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Wei, G.H.5
Zhang, L.P.6
Su, Z.M.7
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1642444981
-
-
Zheng, S. L.; Yang, J. H.; Yu, X. L.; Chen, X. M.; Wong, W. T. Inorg. Chem. 2004, 43, 830
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Zheng, S.L.1
Yang, J.H.2
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Chen, X.M.4
Wong, W.T.5
|