Stoichiometry of nickel oxide films prepared by ALD

Chemical Vapor Deposition

Volumn 17, Issue 7-9, 2011, Pages 177-180

  Bachmann, Julien ^a   Zolotaryov, Andriy ^a   Albrecht, Ole ^a   Goetze, Silvana ^b   Berger, Andreas ^b   Hesse, Dietrich ^b   Novikov, Dmitri ^c   Nielsch, Kornelius ^a  

^a UNIVERSITY OF HAMBURG   (Germany)

^b MAX PLANCK INSTITUTE OF MICROSTRUCTURE PHYSICS   (Germany)

^c DESY   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AEROBIC ANNEALING; INERT ATMOSPHERES; NICKELOCENE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; CRYSTAL STRUCTURE; NICKEL OXIDE; OZONE; STOICHIOMETRY;

OXIDE FILMS;

EID: 80053187255     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201004300     Document Type: Article

References (15)

1. H. B. Gray, Y. S. Sohn, N. Hendrickson, J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 3603.
2. M. Bochmann, J. Chem. Soc. Dalton Trans. 1996, 3, 255.
3. S. M. George, Chem. Rev. 2010, 110, 111, J. Bachmann, J. Jing, M. Knez, S. Barth, H. Shen, S. Mathur, U. Gösele, K. Nielsch, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 9554.
4. R. L. Puurunen, J. Appl. Phys. 2005, 97, 121301.
5. J. Bachmann, J. Escrig, K. Pitzschel, J. M. Montero Moreno, J. Jing, D. Görlitz, D. Altbir, K. Nielsch, J. Appl. Phys. 2009, 105, 07B521.
6. M. Rooth, A. Johansson, K. Kukli, J. Aarik, M. Boman, A. Harsta, Chem. Vap. Deposition 2008, 14, 67.
7. H. L. Lu, G. Scarel, C. Wiemer, M. Perego, S. Spiga, M. Fanciulli, G. Pavia, J. Electrochem. Soc. 2008, 155, H807, J. Chae, H. S. Park, S. W. Kang, Electrochem. Solid State Lett. 2002, 5, C64.
8. H. L. Lu, G. Scarel, X. L. Li, M. Fanciulli, J. Cryst. Growth 2008, 310, 5464, H. L. Lu, G. Scarel, M. Alia, M. Fanciulli, S. J. Ding, D. W. Zhang, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 222907.
9. T. S. Yang, W. T. Cho, M. Kim, K. S. An, T. M. Chung, C. G. Kim, Y. Kim, J. Vac. Sci. Technol. A 2005, 23, 1238, E. Lindahl, M. Ottosson, J.-O. Carlsson, Chem. Vap. Deposition 2009, 15, 186.
10. Y. Shimomura, I. Tsubokawa, M. Kojima, J. Phys. Soc. Jpn. 1954, 9, 521, F. Fiévet, P. Germi, F. D. Bergevin, M. Figlarz, J. Appl. Phys. 1979, 12, 387, W. Bruckner, R. Kaltofen, J. Thomas, M. Hecker, M. Uhlemann, S. Oswald, D. Elefant, C. M. Schneider, J. Appl. Phys. 2003, 94, 4853, S. Oswald, W. Bruckner, Surf. Interface Anal. 2004, 36, 17, F. Maglia, G. Spinolo, U. Anselmi-Tamburini, Solid Stat. Sci. 2009, 11, 1686, H.-L. Chang, T. C. Lu, H. C. Kuo, S. C. Wang, J. Appl. Phys. 2006, 100, 124503, S. Nandy, B. Saha, Manoj K. Mitra, K. K. Chattopadhyay, J. Mater. Sci. 2007, 42, 5766.
11. M. Rooth, R. A. Quinlan, E. Widenkvist, J. Lu, H. Grennberg, B. C. Holloway, A. Hårsta, U. Jansson, J. Cryst. Growth 2009, 311, 373.
12. ICSD, Inorganic Crystal Structure Database, File no. 61324 (2006).
13. W. B. Zhang, N. Yu, W. Y. Yu, B. Y. Tang, Eur. Phys. J. B 2008, 64, 153.
14. T. Otiti, G. Ekosse, Sathiaraj, T. Stephen, J. Appl. Sci. Environ. Manage. 2007, 11, 57.
15. A. Zolotaryov, S. Goetze, R. Zierold, D. Novikov, B. Birajdar, D. Hesse, K. Nielsch, Adv. Eng. Mater. 2010, 12, 509.